【課題】大容量のリチウム二次電池に好適な電極を与えることのできるシリコン膜と、その簡便な製造方法を提供する。
【解決手段】ＳｉまたはＳｉ化合物からなるアスペクト比２０以上の柱状構造の集合体である柱状集合体を複数有することを特徴とするシリコン膜。柱状構造の直径が１０〜１００ｎｍであって、膜厚が０．２〜１００μｍである前記シリコン膜。ＳｉまたはＳｉ化合物からなる蒸着源を用いてシリコン膜を基板に蒸着するシリコン膜の製造方法であって、蒸着源の温度を１７００Ｋ以上とし、基板温度を蒸着源の温度より７００Ｋ以上低くすることを特徴とするシリコン膜の製造方法。蒸着源−基板間距離（Ｄ）が、基板の垂直方向からみた基板の最小径（Ｐ）よりも小さい前記のシリコン膜の製造方法。前記シリコン膜を有する電極。前記電極を、負極として有するリチウム二次電池。 （もっと読む）

【課題】水と反応すると危険な成膜原料で薄膜を形成する際、安全に成膜を実施できる成膜装置、および成膜方法を提供する。
【解決手段】成膜対象である基材９を内部に収納する真空チャンバー２と、真空チャンバー２内で基材９を保持するホルダー４と、ホルダー４に対向する位置に設けられる蒸発源３と、ホルダー４内に冷媒を循環させる循環機構４０とを備える成膜装置１である。そして、この成膜装置１においてホルダー４内に循環される冷媒を非水系冷媒とする。このような構成とすることで、ホルダー４に保持される基材９を冷却しつつ、蒸発源３で蒸発させた成膜原料を基材９の表面に成膜することができ、その成膜の際に安全性を確保することができる。 （もっと読む）

【課題】熱による蒸着物質の変性を防止し、材料の利用効率を高めることができる蒸着源、それを備えた蒸着装置及び薄膜形成方法を提供する。
【解決手段】蒸着物質を冷却しながら保存し、前記保存された蒸着物質を加熱しながら供給する第１及び第２蒸着源部と、前記第１及び第２蒸着源部に接続され、前記第１または第２蒸着源から供給される蒸着物質が移動する移送部と、前記移送部に接続され、前記移送部を経て供給される蒸着物質を噴出するノズル部と、を含むことを特徴とする蒸着源。 （もっと読む）

【課題】汎用の製造設備を用いて製造可能なフッ化物からなる光学薄膜であって、波長２００ｎｍ以下において高屈折率を示す、緻密な構造の光学薄膜および光学薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】光学薄膜は、ランタンとガドリニウムのフッ化物を含み、前記ランタンと前記ガドリニウムの合計モル数に対する前記ガドリニウムのモル数の比が０．０１〜０．９５である。光学薄膜の製造方法は、基板を用意することと、ランタンとガドリニウムの合計モル数に対する前記ガドリニウムのモル数の比が０．１〜０．９５となるように、フッ化ランタンとフッ化ガドリニウムを混合した蒸着原料を用意することと、前記基材上に前記蒸着原料を蒸着することを含む。 （もっと読む）

【課題】大型基板上に膜厚が均一で不純物の少ない薄膜を高速に成膜させ、長時間連続運転可能な真空蒸着装置及び成膜装置を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ層が形成される基板１が蒸着室５内に垂直に設置され、基板１の上には、有機ＥＬ層を選択的に蒸着するためのファインメタルマスク４が配置されている。有機ＥＬ層の材料となる蒸発源８が蒸着室外に配置されている。ノズルが線状に配置した蒸発ヘッド３と蒸発源８とは軟らかい配管７によって接続している。蒸発ヘッド３を、ノズルの配置方向と直角方向に移動させることによって、基板１に有機ＥＬ層を蒸着する。蒸発ヘッド３と蒸発源９とを軟らかい配管７で接続することによって、蒸発ヘッド３のみを移動させることが可能になり、装置の機構を簡略化でき、また、可動機構から発生する不純物による有機ＥＬ層の汚染を防止することが出来る。 （もっと読む）

【課題】ダウンデポジションで蒸着を行う場合に、基板の成膜面に蒸着させた膜にマスクから落下したパーティクルが付着しないようにする。
【解決手段】蒸着用容器２内で、成膜面３ａを上向きに保持した基板３に、蒸着源で加熱された材料を蒸発させて成膜を行う蒸着装置１である。蒸着用容器２内の、放出用容器１４の下方に固定配置されたマスク保持台９と、基板３を載せ、マスク保持台９に保持されたマスク１１に対して接離移動自在に設けた基板ホルダー６を具備する。基板ホルダー６をマスク１１に接近移動させて材料を基板３の成膜面３ａに蒸着する時、マスク１１と基板３の間に隙間を設ける。
【効果】成膜終了後の基板交換時にマスクからパーティクルが落下せず、基板に蒸着した膜にパーティクルが付着するのを防止できる。 （もっと読む）

【課題】基板がプラスチックで安定性の高い高反射率の裏面反射鏡を提供する。
【解決手段】本発明は、プラスチック基板に構成された裏面反射鏡であって、増反射ミラーコートがプラスチック基板の表面上に設けられ、前記増反射ミラーコートは、基板密着層と、増反射中間層と、反射層と、保護層とからなり、前記増反射中間層は、前記プラスチック基板の屈折率より高い屈折率をもち、波長が４２０nmから７５０nmにおいて、又は、波長が４００nmから７８０nmにおいて、０．３％以下の吸収性をもつ高屈折率層と、前記プラスチック基板の屈折率より低い屈折率をもつ低屈折率層とが交互に積層されてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】無駄になる材料を少なくして蒸着効率を高め、さらに生産性の向上も可能にした蒸着装置を提供する。
【解決手段】被処理基板Ｗに蒸着材料を蒸着させる蒸着装置１である。蒸着室２内に配置されて蒸着材料を収容する蒸着容器４と、蒸着容器４の開口を覆う蓋部１１に設けられて、被処理基板Ｗに向けて収容した蒸着材料を飛散させる複数の口部１５と、蒸着容器４内の蒸着材料を加熱する加熱手段と、少なくとも複数の口部１５を、蒸着容器４の周方向に回転させる回転手段と、を含んでなる。 （もっと読む）

【課題】シャッターに付着し堆積した蒸着材料を、チャンバー（蒸着室）内を大気圧に戻すことなく真空雰囲気を維持したままで、坩堝に戻すことなく除去するようにした、蒸着装置とこれを備えた有機ＥＬ装置の製造装置を提供する。
【解決手段】蒸着室２内に配置されて蒸着材料３を収容する坩堝４と、坩堝４内の蒸着材料３を加熱する蒸着用加熱装置５と、坩堝４の開口部４ａを覆う状態と開放した状態とに切り換えられるように移動可能に設けられたシャッター６と、シャッター６が坩堝４の開口部４ａを開放した状態にするように移動した位置に、配置された回収容器７と、シャッター６を加熱するシャッター加熱装置８と、を含む蒸着装置１である。 （もっと読む）

【課題】薄膜蒸着装置を提供する。
【解決手段】 基板上に薄膜を形成するための薄膜蒸着装置において、蒸着物質を放射する蒸着源と、蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、蒸着源ノズル部と対向して配され、第１方向に沿って複数のパターニングスリットが形成されるパターニングスリットシートと、を備え、パターニングスリットは、それぞれ複数のサブスリットを備えることを特徴とする薄膜蒸着装置である。 （もっと読む）

【課題】成膜時間の短縮化と連続成膜が可能な蒸着装置及び蒸着方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る蒸着装置１は、真空チャンバ２と、インデックステーブル３０（回転台）と、複数の蒸発源３１と、回動機構３２と、第１及び第２の加熱機構３３、３４とを具備する。回転台は、回動機構によって回動されることで、回転台上の複数の蒸発源を予備加熱位置Ｐ１と成膜位置Ｐ２とに順次移動させる。第１の加熱機構は、成膜位置に属する蒸発源に収容された蒸着材料を加熱する。第２の加熱機構は、予備加熱位置に属する蒸発源に収容された蒸着材料を加熱する。各蒸発源は、予備加熱位置から成膜位置に移動させられる。成膜位置は、回転台の回動方向から見て、予備加熱位置の下流側に隣接して配置される。予備加熱位置で加熱された蒸発材料は、その温度が保持されたまま、成膜位置へ移動させられるので、蒸発に要する時間を短くすることができる。 （もっと読む）

【課題】 微細な蒸着パターンに対応することができ、また、作業性を向上させることが可能な蒸着用マスクを提供する。
【解決手段】 蒸着源３から蒸発した蒸着材料４を被蒸着部材（透光性基板）１に所定のパターンで蒸着させるための開口部２ａを有する１層の金属板からなる蒸着用マスク２である。開口部２ａは、大きさの異なる被蒸着部材側開口部２ａ１と蒸着源側開口部２ａ２とからなり、蒸着源側開口部２ａ２は被蒸着部材側開口部２ａ１より大きく形成されてなることを特徴とする蒸着用マスクである。前記金属板の両面からエッチング処理を行うことによって被蒸着部材側開口部２ａ１及び蒸着源側開口部２ａ２を形成してなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】チャンバ内で第１基板に対する基板の移送及びアライン工程の実行と同時に、第２基板に対する蒸着工程を行えるようにすることで、基板の移送及びアライン工程時に消耗する有機物質材料の損失を減らして材料効率を最大化し、工程のタックタイムを最小化できる有機物蒸着装置及び蒸着方法を提供する。
【解決手段】有機物蒸着装置は、内部が第１基板蒸着領域及び第２基板蒸着領域に区分されるチャンバと、前記第１又は第２基板蒸着領域内のから第１方向に移動して第１基板又は第２基板上に有機物粒子を噴射させる有機物蒸着源と、前記有機物蒸着源がそれぞれ第１又は第２基板蒸着領域に位置するように前記有機物蒸着源を第２方向に回転移動させる第２移動手段とを含んで構成される。 （もっと読む）

【課題】蒸着ソース及び有機発光素子の製造方法を提供する。
【解決手段】熱源と、熱源上に配置されて熱源から発生した熱を伝達する熱伝逹プレートと、蒸着材料を配置するように熱伝逹プレート上に配置された平坦化層と、を備え、熱源は、熱伝逹プレートの領域の中央領域より中央領域を取り囲む熱伝逹プレートのエッジ領域にさらに多くの熱を供給するように形成された蒸着ソース及び有機発光素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ダイシングによりコーティング層が剥離することを防止できる光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】基材１１上にコーティング層１６が形成された光学素子の製造方法において、親基材１の裏面にダイシングシート２を貼着し、前記親基材１の表面側をダイシングして複数の前記基材１１に分割するダイシング工程と、前記ダイシング工程を行なった後、前記ダイシングシート２に貼着された複数の前記基材１１の表面に前記コーティング層１５を成膜する成膜工程と、前記コーティング層１５が成膜された複数の前記基材１１を、前記ダイシングシート２から剥離するピックアップ工程とを備えること構成とする。 （もっと読む）

【課題】結晶中に欠陥の発生や不純物の混入を防止することにより結晶品質の改善を図ることが可能な結晶成長方法を提供する。
【解決手段】基板上に結晶９０を成長させる際に、結晶９０中の格子欠陥の欠陥準位に対応する波長を含む光を結晶成長時に照射し、照射した光に基づいて格子欠陥に対して近接場光を発生させ、発生させた近接場光による近接場光相互作用に基づいて格子欠陥を構成する不純物３３又は欠陥周辺の原子を脱離させる。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ用マスクの開口部に形成されているテーパ面に付着している蒸着物質を高い洗浄度でクリーニングすることを目的とする。
【解決手段】テーパ面５Ａ乃至５Ｄを有する開口部３を複数形成した有機ＥＬ用マスク１のクリーニングを行う有機ＥＬ用マスククリーニング装置であって、各開口部３に形成される４つのテーパ面５Ａ乃至５Ｄのうち相互に隣接する２つのテーパ面に向けて、開口部３の対角線Ｄ１を挟んで反対側から第１のレーザＬ１を入射させて開口部３の斜め方向に走査させる第１のレーザ光学系１７Ａと、対角線Ｄ１を挟んで２つのテーパ面の反対側から第１のレーザＬ１が入射するように、有機ＥＬ用マスク１と第１のレーザ光学系１７Ａとを相対的に移動させる第１のレーザ移動部２４Ａと、を備えている。 （もっと読む）

【課題】２以上の物質の組成比率を高精度に調整して、ＣＩＧＳ膜などの薄膜を形成する。
【解決手段】多源蒸着薄膜の組成制御方法では、チャンバ１１内に第１物質（Ｓｅ）を供給して加熱した状態において、同じ成膜工程においてチャンバ１１内へ供給される２以上の物質（Ｇａ，Ｉｎ）の組成比率を、チャンバ１１内に配設された振動子２５の付着物による発振周波数の変化に基づいて検出することにより制御し、異なる成膜工程において多段的にチャンバ１１内へ供給される２以上の物質（Ｇａ，ＩｎとＣｕと）の組成比率を、チャンバ１１内に配設された計測板３３の付着物の膜厚を光の薄膜干渉により検出することにより制御する。 （もっと読む）

【課題】大型基板の量産工程に容易に適用でき、製造収率が向上した薄膜蒸着装置を提供する。
【解決手段】基板上に薄膜を形成するための薄膜蒸着装置において、蒸着物質を放射する蒸着源と、蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数の蒸着源ノズルが形成される蒸着源ノズル部と、蒸着源ノズル部と対向して配され、第１方向に沿って複数のパターニングスリットが形成されるパターニングスリットシートと、蒸着源ノズル部とパターニングスリットシートとの間に第１方向に沿って配されて、蒸着源ノズル部とパターニングスリットシートとの間の空間を複数の蒸着空間に区切る複数の遮断板を備える遮断板アセンブリと、基板と蒸着源との間に配される遮断部材と、を備え、薄膜蒸着装置は、基板と所定程度離隔するように形成され、基板は、薄膜蒸着装置に対して相対的に移動自在に形成され、遮断部材は、基板の少なくとも一部を遮蔽するように基板と共に移動することを特徴とする薄膜蒸着装置。 （もっと読む）

比較的短い遅延時間での堆積を可能にするために、異なる伝導率を有する多数の流路を使用しうる高−スループットＯＶＪＰシステムおよび方法が提供される。高−スループットＯＶＪＰシステムが、堆積の間にソース材料が排出されうる１つまたはそれ以上の開口の直径よりも極めて大きな断面積を有する流管を含みうる。このような構造の使用により、低減された遅延時間での堆積が可能になりうる。
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