【課題】簡単な構成で電極棒と真空チャンバーとの隙間に成膜残滓がたまることを抑制できる成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置１０は、真空排気可能な真空チャンバー１と、真空チャンバー１内で、被覆材料を保持・加熱するボート（蒸発源）２と、真空チャンバー１を貫通してボート２に接続され、ボート２に電力を供給する電極棒５とを備える。さらに、この成膜装置１０は、真空チャンバー１の下面に設けられ、真空チャンバー１から離れる方向に伸び、電極棒５が挿通される管部１３と、管部１３と電極棒５との間に形成され、両者の絶縁を確保する隙間Ｇを覆うように真空チャンバー１の下面に載置される絶縁カバー６とを備える。 （もっと読む）

【課題】被蒸着物と蒸発源の距離が変化し、膜厚制御性および膜厚分布性の再現性を低下させる成膜中の材料の変動を防止した蒸着装置を提供する。
【解決手段】るつぼもしくは抵抗加熱ボート内の溶融した蒸着材料の量を蒸着材料よりも高融点の材料で作成したフロート７を蒸発液面に浮かべて、蒸発源の真横に設置したレーザー光９とレーザーセンサー８によって蒸発液面の高さを監視し、監視した結果に基づき成膜中に給材を行う事により、成膜中の蒸発面の高さを常に一定にする。 （もっと読む）

１つの実施の形態における本発明は、蒸発材料を含んだ複数の気体流を基材に送り出すという形で、蒸発材料を運ぶ第１の気体流を基材に提供して基材上で積層させること、気体流を囲む気体カーテンを形成することにより、目標印刷範囲を越えて気体流が拡散するのを防ぐこと、蒸発材料を目標印刷範囲で凝縮させること、に関する。また、別の実施の形態では、熱を利用して蒸発材料の流れと積層の厚みとを制御する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、真空チャンバ内部の圧力状態に依存せずに、例えば、１辺の長さが１ｍを超える大形基板に対して、蒸発源の安定したスキャン動作が行える駆動機構を備えた信頼性の高いまたは稼働率の高いあるいは安定して蒸着が可能なまたは軽量で製作コスト、装置輸送コストの低減を図った真空蒸着装置を提供することである。
【解決手段】本発明は、前記真空チャンバの内部に設けた剛体の第1基準部材、真空チャンバの外部に設けた剛体の第２基準部材、及び一端を前記第１基準部材に固定し、前記真空チャンバの壁に設けた貫通孔を通して他端を前記第２基準部材に固定された剛体の支柱を複数具備するかご構造体と、前記真空チャンバの気密性を確保する気密部と、前記かご構造体を前記真空チャンバの所定位置に維持する維持手段とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】表面の清浄度及び平坦性に優れた酸化亜鉛基板を得るための酸化亜鉛基板の表面処理方法、及び該方法で処理された酸化亜鉛基板を使用する酸化亜鉛結晶の製造方法の提供。
【解決手段】真空チャンバ１３内で加熱された酸化亜鉛基板３の表面に、ガリウム蒸発源１１からのガリウム分子線ビームを照射して、前記酸化亜鉛基板３の表面をエッチングすることを特徴とする酸化亜鉛基板３の表面処理方法；かかる方法で酸化亜鉛基板３の表面を処理し、次いでその表面において、亜鉛源６、プラズマ励起酸素源５６により、酸化亜鉛結晶を成長させることを特徴とする酸化亜鉛結晶の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は真空チャンバ内部の圧力状態に依存せず、特に１辺の長さが１ｍを超える大形基板に対して精密なパターニングに向けた高精度基板アライメントが可能な成膜装置または成膜システムを提供することである。
【解決手段】本発明は、基板とマスクとのアライメントを行い成膜材料を基板に真空成膜する真空チャンバを有する成膜装置またはシステムにおいて、前記真空チャンバの内部に設けた剛体の第１基準部材、真空チャンバの外部に設けた剛体の第２基準部材及び一端を前記第１基準部材の固定し、前記真空チャンバの壁に設けた貫通孔を通して他端を前記第２基準部材に固定された剛体の支柱を複数具備するかご構造体と、前記かご構造体を前記真空アライメントチャンバの所定位置に維持するフローティング機構と、前記支柱を覆い前記真空チャンバの気密性を確保し、アライメントマークを撮像する撮像手段を前記剛体のいずれかに取付けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】蒸着加工時に発生するガス成分を効果的に除去することにより、良好な蒸着加工を可能とする蒸着装置を提供する。
【解決手段】被処理基板Ｘを収納するチャンバーと、チャンバー内を減圧する減圧手段と、チャンバー内に設けられ、蒸着材料ＤＭを収容する坩堝２１と、蒸着材料ＤＭを加熱する加熱手段２２，３０と、坩堝２１の周囲に設けられた補助排気口４６に接続され、該補助排気口４６から坩堝２１の周囲のガスＧを排気する排気手段と、を有し、蒸着材料ＤＭは、加熱によりガスＧを生成する陰イオンと、該ガスＧの分子の分子半径よりも小さい原子半径を有する金属原子の陽イオンと、の金属塩であり、補助排気口４６は、坩堝２１の高さ方向の上端に設けられた開口部２１ａよりも下方に設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラスを支持基板として個別マスクを複数配置することで、成膜用マスクを大面積化することが可能となるが、蒸着工程後に成膜用マスクと被成膜基板とを離す際に、個別マスクと被成膜基板との間で剥離帯電が起きるため、個別マスクと被成膜基板との間で放電が発生し、被成膜基板中に備えられているＴＦＴや、有機ＥＬ装置の発光部が破壊され、被成膜基板の特性が劣化するという課題がある。
【解決手段】成膜用マスク１００は、個別マスク１０１、支持基板１０２、フレーム１０３、導電性領域１０４、導電性接着剤部１０５を備えている。剥離帯電による静電気により個別マスク１０１に蓄積された電荷は、導電性接着剤部１０５、導電性領域１０４、フレーム１０３を介して接地され、被成膜基板の破損が防止される。 （もっと読む）

【課題】従来技術に比べ材料使用効率が高く、また、多数の基板に対して連続して成膜することができ、スループットの高い製造装置を提供することを課題とする。
【解決手段】予備加熱された有機材料を供給管を通して成膜室に導入し、さらに供給管の先端に設けられたノズルから加熱された容器に導入し、容器の加熱温度によって有機材料が蒸発し、容器と重なる位置に配置された基板に成膜が行われる成膜装置とする。有機材料を予備加熱することによって、基板への蒸着が開始できるまでに要する時間を短縮することができる。 （もっと読む）

【課題】ガス供給量が低減されたガスデポジション装置を提供すること
【解決手段】
上記課題を解決するための、本発明の一形態に係るガスデポジション装置１は、搬送管４に嵌合する位置と嵌合しない位置のいずれかをとる可動部材１５を有するガス規制機構と、微粒子流ｆの流路上の位置とそれ以外の位置をとる吸引口１８を有する吸引機構７とを具備する。
成膜停止時において、可動部材１５が搬送管４と嵌合することで、搬送管４の第１の開口４ｃに流入するガスの流量が規制される。同時に吸引口１８が上記規制されたガス流量を微粒子流ｆの経路上において吸引する。成膜時に搬送管４を流通して微粒子を搬送するガス流量の一部を、成膜停止時において微粒子の排出に流用することにより必要なガス供給量が低減される。 （もっと読む）

【課題】９９％を超える高反射率のＡｕ膜ミラーを作成することは困難であった。
【解決手段】真空蒸着装置の電子銃により蒸着材料の金Ａｕを加熱して溶融蒸発させ、基板上に厚さ３０ｎｍ〜１０００ｎｍのＡｕ膜を形成して構成したミラーにおいて、電子銃による蒸着時の平均真空度を１×１０^−３Ｐａ以下とし、かつ、電子銃の投入電力量を１ＫＷ以下として、Ａｕを溶融蒸発させることによりＡｕ膜を基板の表面に形成し、波長１０．６μｍの光において、入射角４５度のｎ偏光に対し９９％超の反射率を有する、もしくは、入射角４５度のＳ偏光に対し９９．３％超の反射率を有する高反射率Ａｕ膜が実現する。 （もっと読む）

【課題】水分等による腐食を防ぐことにより、耐久性を向上させて銀系光反射鏡の高反射率という利点を長期間維持できる光反射鏡及びその製造方法を提供する。
【解決手段】水分に対する耐腐食性が銀より優れる、所定の銀合金を使用し、さらに、形成される各構成膜の密着性および緻密性を高めることによって、高反射率と高耐久性を両立させ得る多層膜構造の銀合金光反射鏡及びその製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 高反射光学素子の性能を改善するための適切な高／低屈折率コーティング系を提供する。
【解決手段】 選択された基体およびこの基体上の式（Ｈ_oＬ_o）ⁱＨ_oの非晶質コーティングを有してなる光学素子であって、（Ｈ_oＬ_o）ⁱは、基体上のＨ_o層およびＬ_o層からなる複数ｉのコーティング周期の積層体であり、ｉは１４〜２０の範囲にあり、Ｈ_oは非晶質ＭｇＡｌ₂Ｏ₄であり、Ｌ_oは非晶質ＳｉＯ₂であり、それによって、基体上に非晶質ＭｇＡｌ₂Ｏ₄−ＳｉＯ₂コーティングを形成し、第１の周期のＨ_o層が基体に接触しており、ｉの周期の厚さが６００ｎｍから１２００ｎｍの範囲ある。 （もっと読む）

【課題】保守管理を容易に行うことができる蒸発装置を提供する。
【解決手段】蒸発材料１を貯蔵するホッパ１１４と、内径を上方側ほど拡げるように円錐状に開口させた接続口部１１２ａを上端側に有する第一の接続管１１２と、第一の接続管１１２の下方側とホッパ１１４とを接続する連絡管１１３と、外径を下方側ほど狭めるように円錐状に形成されて第一の接続管１１２の接続口部１１２ａに着脱可能に嵌合する接続口部１１５ａを下端側に有する第二の接続管１１５と、第二の接続管１１５の上端側に接続された坩堝１１６と、坩堝１１６を加熱する電熱ヒータ１１８と、坩堝１１６と共に電熱ヒータ１１８を包囲する冷却ジャケット１２０と、第一の接続管１１２の接続口部１１２ａを冷却する冷却コイル１２１と、前記接続管１１２，１１５内に回転可能に配設されたスクリュシャフト１２２とを備えて蒸発装置１００を構成した。 （もっと読む）

【課題】より安定に記憶保持が行えるメモリ装置が構成できるなど、金属酸化物を用いて安定した動作が得られる素子を提供できるようにする。
【解決手段】強誘電体層（１０４）を下部電極層（１０３）と上部電極（１０５）とで挾み、下部電極層（１０３）と上部電極（１０５）との間に所定の電圧（ＤＣ，パルス）を印加して強誘電体層（１０４）の抵抗値を変化させ、安定な高抵抗モードと低抵抗モードを切り替えれば、メモリ動作が得られる。読み出しは、上部電極（１０５）に、所定の電圧を印加したときの電流値を読み取ることで容易に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】被処理基板と蒸着マスクとの重ね合わせ構造を改良して、蒸着マスクの軽量化や成膜精度の向上を図ることのできるマスク蒸着装置、蒸着マスク、およびマスク蒸着法を提供すること。
【解決手段】マスク蒸着装置においては、被処理基板２００の被成膜面２００ａとは反対側の面２００ｂが重ねて配置される基板支持面５５、および磁石５２を備えた磁石ユニット５０を用いる。磁石ユニット５０の基板支持面５５に対して被処理基板２００の被成膜面２００ａとは反対側の面２００ｂを重ねて配置した後、被処理基板２００の被成膜面２００ａに金属製の蒸着マスク４０を重ねて配置すると、磁石ユニット５０に設けた磁石５２による磁気吸引力によって、蒸着マスク４０と基板支持面５５との間に被処理基板２００を挟持するように蒸着マスク４０が磁石ユニット５０に吸着される。 （もっと読む）

【課題】搬送チャンバを小型化できる、生産性の高い、あるいは、稼働率の高い有機ＥＬデバイス製造装置または成膜装置あるいはシャドウマスク交換装置または同交換方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、真空チャンバであって、基板とシャドウマスクとのアライメントを行い、真空チャンバ内で蒸発源内の蒸着材料を基板に蒸着する真空蒸着チャンバと大気雰囲気部とに隣接し、前記２つの隣接部を介して前記真空蒸着チャンバに前記シャドウマスクを搬入出する手段を有するシャドウマスク交換室を設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

微粒子材料を気化するための装置１００であって、計量装置であって、微粒子材料を受け取るための貯留室１３０と、なお、該貯留室は該微粒子材料を気化チャンバ２１０内に吐出するための開口部１６０を有し、貯留室内に配置される回転可能なワイヤホイールブラシ１７０とを備え、該貯留室及び該ワイヤホイールブラシの寸法は、該ワイヤホイールブラシが該貯留室の内壁と協動して微粒子材料を流動化するように選択され、微粒子材料の計量された部分がワイヤホイールブラシの先端に同伴され、その後、貯留室開口部内に強制的に放出される、計量装置と、計量された材料を受け取り、気化するフラッシュ蒸発器１２０とを備える、微粒子材料を気化するための装置。
（もっと読む）

【課題】高温・高湿環境でガスバリア性に対して優れた耐久性を有するガスバリア積層体を提供することを目的とする。
【解決手段】プラスチックフィルム基材の両面または片面に酸化珪素膜を積層するガスバリア積層体において、前記プラスチックフィルム基材の前記酸化珪素膜を積層する面の中心線平均粗さＲａが３〜３０ｎｍであり、高分解能ラザフォード後方散乱法（ＨＲ−ＲＢＳ法）測定によって算出される前記酸化珪素膜の密度が１．９〜２．６ｇ／ｃｍ^３の範囲内であること、酸素と珪素の比（Ｏ／Ｓｉ）が１．４〜２．０の範囲内であることにより、高温高湿環境下でガスバリア性の劣化を抑えることができるガスバリア積層体を提供することができる。 （もっと読む）

本発明は、第一の外側面および第二の外側面を有する微小板形状のＰＶＤメタリック効果顔料に関し、その微小板形状のＰＶＤメタリック効果顔料は少なくとも１層のＰＶＤ層を有しており、その少なくとも１層のＰＶＤ層は、元素金属のクラスターを伴う元素金属および金属酸化物を含み、そのＰＶＤメタリック効果顔料の第一の外側面の中および第二の外側面の中の元素金属の量が相互に異なっていて、その差が少なくとも１０原子％である。本発明はさらに、この微小板形状のＰＶＤメタリック効果顔料を製造するための方法、およびさらにはその使用にも関する。 （もっと読む）