裏面反射鏡
【課題】基板がプラスチックで安定性の高い高反射率の裏面反射鏡を提供する。
【解決手段】本発明は、プラスチック基板に構成された裏面反射鏡であって、増反射ミラーコートがプラスチック基板の表面上に設けられ、前記増反射ミラーコートは、基板密着層と、増反射中間層と、反射層と、保護層とからなり、前記増反射中間層は、前記プラスチック基板の屈折率より高い屈折率をもち、波長が４２０nmから７５０nmにおいて、又は、波長が４００nmから７８０nmにおいて、０．３％以下の吸収性をもつ高屈折率層と、前記プラスチック基板の屈折率より低い屈折率をもつ低屈折率層とが交互に積層されてなることを特徴とする。
【解決手段】本発明は、プラスチック基板に構成された裏面反射鏡であって、増反射ミラーコートがプラスチック基板の表面上に設けられ、前記増反射ミラーコートは、基板密着層と、増反射中間層と、反射層と、保護層とからなり、前記増反射中間層は、前記プラスチック基板の屈折率より高い屈折率をもち、波長が４２０nmから７５０nmにおいて、又は、波長が４００nmから７８０nmにおいて、０．３％以下の吸収性をもつ高屈折率層と、前記プラスチック基板の屈折率より低い屈折率をもつ低屈折率層とが交互に積層されてなることを特徴とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、裏面反射鏡、さらに詳しくは、基板がプラスチックで安定性の高い高反射率の裏面反射鏡に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラスチック基板の裏面反射鏡は、機械的に確実に保持することが容易で、かつ反射面の保護を保護層の蒸着や塗布で容易に行うことができる利点があることから、過酷な環境や耐久性を必要とする車載等、広く使用されている。
【０００３】
従来のプラスチック基板の裏面反射鏡、特に増反射を目的とするものとして、ＭｏＯ3及びＷＯ3の少なくとも一方の物質を含む層とＳｉ酸化物からなる層とを交互に形成した増反射層と、前記増反射層のＳｉ酸化物からなる層に接して形成した金属層とを有することを特徴とする裏面反射鏡が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
チタン酸ランタンを裏面反射鏡の増反射層の材料として使用する従来技術は存在しない。
チタン酸ランタンを反射防止コーティングの材料として使用している従来技術として、光ピックアップ装置に使用するものであって、３５０ｎｍ＜λ１＜４５０ｎｍを満足する波長λ１の光を出射する光源を備えた光学装置に用いられる樹脂を基材とした光学素子であって、前記樹脂は脂環式構造を有する重合体を含有する樹脂であり、前記光学素子の少なくとも１つの光学面に反射防止膜が成膜され、前記反射防止膜は、前記波長λの光束を通過させたときに第１の屈折率を有する低屈折率層と、前記波長λの光束を通過させたときに前記第１の屈折率より高い第２の屈折率を有する高屈折率層とを有し、前記低屈折率層が、酸化シリコン、フッ化アルミニウム、フッ化イットリウム、フッ化マグネシウム、酸化シリコンと酸化アルミニウムとの混合物、又は、これらの混合物により形成されているともに、前記高屈折率層が、酸化スカンジウム、酸化ニオビウム、酸化ランタン、チタン酸プラセオジウム、チタン酸ランタン、ランタンアルミネート、酸化イットリウム、酸化ハフニューム、酸化ジルコニューム、酸化タンタル、酸化タンタルとチタンの混合物、窒化シリコン又はこれらの混合物により形成されていることを特徴とする光学素子が提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【０００５】
従来の増反射金属ミラーコーティングを有するプラスチック基板表面反射鏡として、合成樹脂基板に、ＳｉＯの第１層、ＳｉＯ2の第２層、Ａｌの第３層に、低屈折率物質（弗化マグネシュウム、二酸化珪素等）と高屈折物質（酸化ジルコニュウム、酸化セリュウム、五酸化タンタリュウム、チタン酸化物等）の組み合わせによる増反射膜の第４層を施した表面反射鏡が提案されている（例えば、特許文献３参照）。
【０００６】
従来の他の増反射金属ミラーコーティングを有するプラスチック基板反射鏡として、プラスチック部品の表面に金属を真空蒸着し、該金属膜上に、弗化セリュウムＣｅＦ3を少なくとも６０重量％以上含有する物質よりなる反射層を形成し、該反射層の上に、酸化セリュウムＣｅＯ2を少なくとも６０重量％以上含有する物質よりなる層を光学的膜厚（λ0）４０００〜１５０００Åで蒸着した増反射層を設けた増反射金属ミラーコーティングが提案されている（例えば、特許文献４参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特許第３５６０６３８号公報
【特許文献２】特開２００５−２６６７８０号公報
【特許文献３】特開平４−６２３６３号公報
【特許文献４】特開平２−６６１５７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
引用文献１のプラスチック基板の裏面反射鏡は、ＭｏＯ3およびＷＯ3が高温高湿環境で密着性が劣化する恐れが高く、Ｃ−Ｆ基を有する撥水処理剤やシラン化合物を主成分とする封止剤等を塗布する等水分封止め処理を施さなければならない問題がある。また、ＷＯ3は、可視光や紫外線の照射によって分子が励起されて可逆的に着色するエレクトロクロミック性があり、反射光を着色させるおそれがある。
【０００９】
すなわち、引用文献１等によって提案されている裏面反射鏡は、反射層が１００℃の高温試験において、熱膨張による基板伸縮に対応できず、クラック発生や剥離が避けられない問題がある。
【００１０】
引用文献２によって提案されているのは、反射防止膜であって、裏面反射鏡には利用できない。
【００１１】
引用文献３の増反射金属ミラーコーティングを有するプラスチック基板表面反射鏡においては、第１層のＳｉＯが黄（茶）色系であり、第１層によって短波長側の吸収すなわち４００ｎｍ以下の光透過が不良であり、着色・反射低下をもたらす問題がある。さらに、第１層のＳｉＯと第２層のＳｉＯ2は第４層の第３層への密着性を高めるために設けられているが、その密着強度は不十分である。
【００１２】
引用文献４の増反射金属ミラーコーティングを有するプラスチック基板反射鏡においては、弗化セリュウムＣｅＦ3層及び酸化セリュウムＣｅＯ2層を含むことによって機械的強度が弱く、特に表面反射膜としては強度・耐久性に関し大きな問題を有している。酸化セリュウムＣｅＯ2は、短波長側４００ｎｍ以下で２〜４％の吸収があり、波長透過特性は好ましくない。酸化セリュウムＣｅＯ2はまた、吸湿性があり、高温高湿環境で密着性が劣化する恐れがある。
【００１３】
一方、可視域光学部品の薄膜コーティング材料選定で問題となるのは、近紫外域４００nm前後の吸収である。４００nm 以外の４２０〜７５０nmでの吸収が、測定分解能以下で検出できない程度の場合でも、４００nm前後が１％の吸収があると、膜が黄色く着色したように見え、照明系の照明光の外観の色味を損なうこととなる。また、通常、プラスチック樹脂基板自体、この近紫外域４００nmより短い波長域での吸収が多く、透過率が低くなってしまう。従って、透過率を向上させるため、吸収率０．３％以下の膜吸収が少ない材料を選定することが望ましい。
【００１４】
（発明の目的）
本発明は、従来の増反射コーティングや反射防止コーティングに関する上述した問題点に鑑みなされたものであって、プラスチック基板に用いるための、増反射コーティング層を設けることによって高い反射率，特にＬＥＤ光源の発する光に対し高い反射率で無着色で反射する裏面反射鏡を提供することを目的とする。
本発明はまた、高温高湿環境でも密着性が落ちず剥離せず、しかも耐久性の高い裏面反射鏡を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明は、プラスチック基板に構成された裏面反射鏡であって、
増反射ミラーコートが裏面反射鏡に設けられており、
前記増反射ミラーコートは、
基板密着層と、増反射中間層と、反射層と、保護層とからなり、
前記増反射中間層は、前記プラスチィック基板の屈折率より高い屈折率をもち波長４２０〜７５０nm又は波長４００〜７８０nmにおいて０．３％以下の吸収性をもつ高屈折率層と、前記プラスチィック基板の屈折率より低い屈折率をもつ低屈折率層とが交互に積層されてなる、
ことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の裏面反射鏡によれば、プラスチック基板に用い、増反射コーティング層を設けることによって高い反射率，特にＬＥＤ光源の発する光に対し高い反射率で無着色で反射する裏面反射鏡を形成することができる。
本発明の裏面反射鏡によればまた、高温高湿環境でも密着性が落ちず剥離せず、しかも耐久性の高い裏面反射鏡を形成することができる。
【００１７】
（発明の実施態様）
本発明の実施態様は、以下のとおりである。
前記プラスチック基板の表面上には、第１層から第７層が、この順序でコーティングされてなり、
前記第１層は、前記基板密着層を構成し、かつ、酸化ケイ素（SiOx ｘ＜２）からなり、
前記第２層は、前記増反射中間層のうちの１つの層を構成し、かつ、前記低吸収高屈折率の材料からなり、
前記第３層は、前記増反射中間層のうちの１つの層を構成し、かつ、前記低屈折率の材料からなり、
前記第４層は、前記増反射中間層のうちの１つの層を構成し、かつ、前記低吸収高屈折率の材料からなり、
前記第５層は、前記増反射中間層のうちの１つの層を構成し、かつ、前記低屈折率の材料からなり、
前記第６層は、前記反射層を構成し、かつ、アルミニュウムからなり、
前記第７層は、前記基板密着層を構成し、かつ、二酸化ケイ素（SiO2）からなる、
ことを特徴とする。
【００１８】
本発明の他の実施態様は、以下のとおりである。
前記前記低吸収高屈折率の材料が、チタン酸ランタン（LaTiO3）であることを特徴とする。
前記チタン酸ランタン（LaTiO3）が、屈折率１．９０以上にチタン酸ランタン（LaTiO3）であることを特徴とする。
前記低屈折率の材料が、二酸化ケイ素（SiO2）であることを特徴とする。
前記二酸化ケイ素（SiO2）が、屈折率１．４０〜１．５０の二酸化ケイ素（SiO2）であることを特徴とする。
前記酸化ケイ素（SiOx）が、一酸化ケイ素（SiO）を主成分とすることを特徴とする。
前記一酸化ケイ素（SiO）が、屈折率１．４５〜１．５５、膜厚０．４５λ以上であることを特徴とする。
前記反射層が、膜厚１００nm以上であるアルミニュウムからなることを特徴とする。
【００１９】
本明細書において、酸化ケイ素（SiOx ｘ＜２）は、一酸化ケイ素（SiO）と二酸化ケイ素（SiO2）が存在する状態を示し、一酸化ケイ素（SiO）のみが存在する状態や、二酸化ケイ素（SiO2）のみが存在する状態は含まない。
【００２０】
前記実施態様で選出したチタン酸ランタン、酸化アルミニウム、二酸化珪素は、４００nmにおける膜吸収は、いずれも０．１〜０．３％であり、膜自体の着色はほとんど見られない。
【００２１】
しかし、この吸収に対する仕様は、使用する光源によって異なる。例えば、図３に示す車載用白色ＬＥＤの場合、輝度が４００nmから立ち上がり始め、４５０nmと５６０nmに２つのピークをもち、７５０nmにかけて減少する特性をもつ。この場合、４００nm以下の吸収は問題にならず、４２０〜７５０nmの吸収が仕様上すなわち使用上問題となる演色性が低く、青白い光を避けることができ、かつ高輝度・高効率を得ることができる。ここで、高演色性白色とは、一般に発光効率は高くないが、ブロードスペクトルが得られ、対象物を照明したとき、対象物の色調を正しく表現できる性質をいう。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】図１は、本発明の実施形態の裏面反射鏡の蒸着膜構成図である。
【図２】図２は、本発明の実施形態の裏面反射鏡の分光反射率特性図である。
【図３】図３は、本発明の裏面反射鏡を適切に使用の車載用白色ＬＥＤの分光反射率特性図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下に、本発明の実施形態の裏面反射鏡の構成及び製造方法について説明する。本発明の実施形態の裏面反射鏡は、光源ランプがＬＥＤ である車載ヘッドライト等に好適に使用されるものである。
【００２４】
（構成）
裏面反射鏡１は、図１に示すように、ポリカーボネートＰＣの基板１０に、第１層１１〜第７層１７をコーティングしてなる。第１層１１〜第７層１７の物質、屈折率、波長５５０ｎｍの光学的膜厚、物理膜厚を、表１に示す。
【表１】
基板１０のポリカーボネート（ＰＣ）は、例えば、帝人化成株式会社によって販売されているパンライトＬ−１２２５ＺＬ１００（登録商標）である。
第１層を、密着層と呼ぶ。
第２層１２から第５層１５を、反射率を向上させるためのもので、反射中間層と呼ぶ。
第６層を、反射層と呼ぶ。
第７層を、保護層と呼ぶ。
【００２５】
（製造方法）
基板１０を、蒸着装置（図示せず）に配置し、４０℃程度に加熱し、真空度２．０×１０-3Ｐａまで真空排気する。排気時間は可能な限り長くして、基板１０表面の付着水分を離脱させて排除することが望ましい。４０℃程度の加熱は蒸着終了まで保持される。４０℃程度の低温の加熱は、基板１０の変形を防ぐとともに、後述する第６層１６が散乱面化することを防ぐためにも望ましい。
【００２６】
２．０×１０-3Ｐａまで真空排気後、酸素を導入し、真空度２．０×１０-2Ｐａを保持しながら、第１層１１を蒸着する。第１層１１の蒸着材料は、屈折率１．４９〜１．５４の酸化珪素（ＳｉＯｘ，ｘ＝１又は２、層が形成されていく程酸化が進み、ＳｉＯに加えてＳｉＯ2が形成される。層の組成としては、ＳｉＯｘ，ｘ＜２の酸化数となる）で、光学的膜厚０．４５λである。
第１層１１の蒸着開始時の蒸着材料は、酸化珪素（ＳｉＯ）である。蒸発源として抵抗加熱源又は電子ビーム加熱源を使用することは、基板１０と第１層１１の密着性を向上させるために望ましい。
【００２７】
ポリカーボネートＰＣ基板１０の屈折率は、１．５８である。酸素流入量を少なくすると、第１層１１の酸化珪素の屈折率を１．５４とすることができる。第１層１１の酸化珪素の屈折率１．５４は、基板１０の屈折率１．５８に非常に近くなり、基板１０と第１層１１の界面反射が少なくなる利点がある。
【００２８】
第２層１２は、高屈折率蒸着物質の１つである、屈折率１．８５〜１．９０のチタン酸ランタン（ＬａＴｉＯ3）を使用し、膜厚を０．４５λとする。蒸着は、電子ビーム加熱源を使用し、酸素流入量を調節することによって真空度７．０×１０-2Ｐａを保持しながら、成膜速度０．６ｎｍ／ｓｅｃで行う。
【００２９】
第３層１３は、低屈折率蒸着物質の１つである、屈折率１．４３〜１．４６の二酸化珪素（ＳｉＯ2）を使用し、膜厚を０．３６λとする。蒸着は、プラズマガンを使用し、酸素流入量を調節することによって真空度２．３×１０-2Ｐａを保持しながら、成膜速度０．６ｎｍ／ｓｅｃで行う。
【００３０】
イオンエネルギーにより膜充填密度を高めることができるプラズマガンは、放電電圧１００〜１１０Ｖ、放電電流２９Ａ程度の低出力で作動させる。低出力に調整されたプラズマガンを使用することによって、プラズマガンを使用しないときに較べ、二酸化珪素（ＳｉＯ2）膜への応力が緩和され、耐熱性が向上し、さらに、高温環境でのクラック発生が少なくなる。
【００３１】
第４層１４は、第２層１２と同様に、高屈折率蒸着物質の１つである、屈折率１．８５〜１．９０のチタン酸ランタン（ＬａＴｉＯ3）を使用し、膜厚を０．２７λとする。蒸着は、電子ビーム加熱源を使用し、酸素流入量を調節することによって真空度７．０×１０-2Ｐａを保持しながら、成膜速度０．６ｎｍ／ｓｅｃで行う。
【００３２】
第５層１５は、第３層と同様に、低屈折率蒸着物質の１つである、屈折率１．４３〜１．４６の二酸化珪素（ＳｉＯ2）を使用し、膜厚を０．２１５λとする。蒸着は、プラズマガンを使用し、酸素流入量を調節することによって真空度２．３×１０-2Ｐａを保持しながら、成膜速度０．６ｎｍ／ｓｅｃで行う。
【００３３】
第６層１６は反射層であり、抵抗加熱源を使用し、アルミニュウム（Ａｌ）を、成膜速度２ｎｍ／ｓｅｃで、物理膜厚１００ｎｍに蒸着した。成膜速度は、速い程表面の平滑性がよい蒸着を行うことができ、散乱を抑え反射率を向上させることができるため、早い成膜速度が望ましい。蒸着温度が４０℃を超えると、蒸着表面が散乱反射面になる恐れが高くなる。
【００３４】
第７層１７は、保護層であり、低屈折率蒸着物質の１つである、屈折率１．４５〜１．４７の二酸化珪素（ＳｉＯ2）を使用し、膜厚を０．２５λとする。蒸着は、抵抗加熱源又は電子ビーム加熱源を使用し、酸素流入量を調節することによって真空度２．３×１０-2Ｐａを保持しながら、成膜速度０．６ｎｍ／ｓｅｃで行う。
【００３５】
上述した本発明の実施形態の裏面反射鏡について、さらに説明する。
（１）実施形態の裏面反射鏡の分光反射率は、図２に示すように、特に可視域、４３０〜６８０ｎｍの反射率を９０％以上と高い反射率を有する。
【００３６】
（２）密着層である第１層の酸化珪素（ＳｉＯｘ，ｘ＝１又は２）は、ポリカーボネート（ＰＣ）はじめ他のプラスチック樹脂に対しても高い密着性を有する。簡易な粘着テープを使用した剥離試験でもまったく問題はない。また、基板の種類や形状に合わせて膜厚を調整することによって、反射率を大きく変化させることなく密着力を制御することができる。
【００３７】
第１層の酸化珪素（ＳｉＯｘ，ｘ＝１又は２）による密着性の高さは、ポリカーボネート（ＰＣ）基板が自由曲面のような複雑な面形状に対しても反射増加膜を均一厚さかつ確実に密着させ、反射面への入射角度０〜６０°の広い角度範囲において変化の少ない反射特性を得ることができる。
【００３８】
また、第１層の酸化珪素（ＳｉＯｘ，ｘ＝１又は２）の光学的膜厚を０．４５λまで厚くすることで、ポリカーボネート（ＰＣ）基板の熱膨張や収縮によって発生する反射増加膜にかかる応力を軽減して、高温耐久性を高めている。その結果、１００℃の高温試験やヒートショック試験においても、反射増加膜や全反射層のクラックの発生を有効に阻止することができる。さらに、６０℃、９０％、２４０時間の高温高湿試験でも、剥離、金属反射膜の変質・変色、クラック発生等についてまったく問題がなく、過酷な車載用途にも十分耐えるものである。
【００３９】
酸化チタン（ＴｉＯ2）は、光触媒効果を有し、紫外線ＵＶが照射されると光触媒効果によってポリカーボネート（ＰＣ）基板を分解して光吸収層を形成する恐れがある。酸化珪素（ＳｉＯｘ，ｘ＝１又は２）は、光触媒効果を有しない。
【００４０】
密着層として、従来公知の炭素を含む有機薄膜を使用すると、樹脂基板の熱膨張による応力変化をある程度吸収する。しかし、膜形成を浸漬法等湿式成膜法を使用するため、光学的面精度が低く、複雑な形状になり、膜厚がばらつき、高精度の反射膜を形成することはできない。
【００４１】
（２）反射増加膜に、屈折率１．８５〜１．９０のチタン酸ランタン（ＬａＴｉＯ3）層を含めることで、耐環境性の高い裏面反射鏡としている。
仮に、チタン酸ランタン（ＬａＴｉＯ3）に代えて酸化チタン（ＴｉＯ2）を使用すると、屈折率は２．３５と高く高い反射率を得ることができる。しかし、蒸着による樹脂基板の変形・変質を避けるために、無加熱すなわち常温で蒸着すると、膜の充填密度が低くなり、曇りや表面の粗面化による散乱が発生し、耐環境性も低い。
【００４２】
仮にまた、チタン酸ランタン（ＬａＴｉＯ3）に代えて酸化ランタン（Ｌａ2Ｏ3）を使用し、蒸着による樹脂基板の変形・変質を避けるために、無加熱すなわち常温で蒸着すると、屈折率は１．８０と低く、高い反射率を得ることができない。
仮にまた、チタン酸ランタン（ＬａＴｉＯ3）に代えて酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）を使用した場合も、酸化ランタン（Ｌａ2Ｏ3）を使用した場合と同様に、蒸着による樹脂基板の変形・変質を避けるために、無加熱すなわち常温で蒸着すると、屈折率は１．８０と低く、高い反射率を得ることができない。
【００４３】
（３）反射増加膜に、低屈折率蒸着物質の１つである、屈折率１．４３〜１．４６の二酸化珪素（ＳｉＯ2）を使用し、電子ビーム加熱源を使用し、低エネルギーのイオンアシスト蒸着又はプラズマアシスト蒸着によって、膜厚を０．３６λとした。イオンアシスト蒸着又はプラズマアシスト蒸着は、弱い圧縮応力の蒸着膜を成膜することができ、膜の基板への高い密着力と高い高温耐久性を実現した。
【００４４】
（４）反射層の第６層１６は、抵抗加熱源を使用し、アルミニュウム（Ａｌ）を、成膜速度２ｎｍ／ｓｅｃで、物理膜厚１００ｎｍに蒸着した。
アルミニュウム（Ａｌ）は、可視域反射率が８８％であり、可視域反射率に関し銀（Ａｇ）に劣るが、機械的強度が高く耐蝕性に優れている。アルミニュウム（Ａｌ）の反射率は、理論的に物理膜厚が７０ｎｍで最大になるが、機械的耐久性を考慮すると、１００ｎｍ以上が好ましい。
【００４５】
仮に、アルミニュウム（Ａｌ）に代えて金（Ａｕ）を使用すると、可視域反射率が約４０％であり、不都合である。
【００４６】
仮にまた、アルミニュウム（Ａｌ）に代えて銀（Ａｇ）を使用すると、可視域反射率が９８％と高く好ましい。しかし、銀（Ａｇ）は、腐食性が高く、大気に曝されると硫化銀（ＡｇＳ）が形成され、さらにオゾンと化合して、黒褐色の酸化物を形成し、反射率を低下させる。
【００４７】
（５）保護層の第７層１７を、屈折率１．４５〜１．４７の二酸化珪素（ＳｉＯ2）を使用して、膜厚と０．２５λとすることにより、優れた機械的強度、耐酸性、耐環境性を実現し、厳しい車載用途にも十分耐えるものである。例えば、イソプロピルアルコール、エチルアルコール、メチルアルコール等各種アルコール系溶剤をシルボン紙に含ませ、約２００ｇの加重で１０往復擦っても、膜に異常は現れなかった。
保護層は、二酸化珪素（ＳｉＯ2）に代えて酸化アルミニュウム（Ａｌ2Ｏ3）を使用してもよい。
【符号の説明】
【００４８】
１０ 基板
１１ 第１層
１２ 第２層
１３ 第３層
１４ 第４層
１５ 第５層
１６ 第６層
１７ 第７層
【技術分野】
【０００１】
本発明は、裏面反射鏡、さらに詳しくは、基板がプラスチックで安定性の高い高反射率の裏面反射鏡に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラスチック基板の裏面反射鏡は、機械的に確実に保持することが容易で、かつ反射面の保護を保護層の蒸着や塗布で容易に行うことができる利点があることから、過酷な環境や耐久性を必要とする車載等、広く使用されている。
【０００３】
従来のプラスチック基板の裏面反射鏡、特に増反射を目的とするものとして、ＭｏＯ3及びＷＯ3の少なくとも一方の物質を含む層とＳｉ酸化物からなる層とを交互に形成した増反射層と、前記増反射層のＳｉ酸化物からなる層に接して形成した金属層とを有することを特徴とする裏面反射鏡が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
チタン酸ランタンを裏面反射鏡の増反射層の材料として使用する従来技術は存在しない。
チタン酸ランタンを反射防止コーティングの材料として使用している従来技術として、光ピックアップ装置に使用するものであって、３５０ｎｍ＜λ１＜４５０ｎｍを満足する波長λ１の光を出射する光源を備えた光学装置に用いられる樹脂を基材とした光学素子であって、前記樹脂は脂環式構造を有する重合体を含有する樹脂であり、前記光学素子の少なくとも１つの光学面に反射防止膜が成膜され、前記反射防止膜は、前記波長λの光束を通過させたときに第１の屈折率を有する低屈折率層と、前記波長λの光束を通過させたときに前記第１の屈折率より高い第２の屈折率を有する高屈折率層とを有し、前記低屈折率層が、酸化シリコン、フッ化アルミニウム、フッ化イットリウム、フッ化マグネシウム、酸化シリコンと酸化アルミニウムとの混合物、又は、これらの混合物により形成されているともに、前記高屈折率層が、酸化スカンジウム、酸化ニオビウム、酸化ランタン、チタン酸プラセオジウム、チタン酸ランタン、ランタンアルミネート、酸化イットリウム、酸化ハフニューム、酸化ジルコニューム、酸化タンタル、酸化タンタルとチタンの混合物、窒化シリコン又はこれらの混合物により形成されていることを特徴とする光学素子が提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【０００５】
従来の増反射金属ミラーコーティングを有するプラスチック基板表面反射鏡として、合成樹脂基板に、ＳｉＯの第１層、ＳｉＯ2の第２層、Ａｌの第３層に、低屈折率物質（弗化マグネシュウム、二酸化珪素等）と高屈折物質（酸化ジルコニュウム、酸化セリュウム、五酸化タンタリュウム、チタン酸化物等）の組み合わせによる増反射膜の第４層を施した表面反射鏡が提案されている（例えば、特許文献３参照）。
【０００６】
従来の他の増反射金属ミラーコーティングを有するプラスチック基板反射鏡として、プラスチック部品の表面に金属を真空蒸着し、該金属膜上に、弗化セリュウムＣｅＦ3を少なくとも６０重量％以上含有する物質よりなる反射層を形成し、該反射層の上に、酸化セリュウムＣｅＯ2を少なくとも６０重量％以上含有する物質よりなる層を光学的膜厚（λ0）４０００〜１５０００Åで蒸着した増反射層を設けた増反射金属ミラーコーティングが提案されている（例えば、特許文献４参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特許第３５６０６３８号公報
【特許文献２】特開２００５−２６６７８０号公報
【特許文献３】特開平４−６２３６３号公報
【特許文献４】特開平２−６６１５７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
引用文献１のプラスチック基板の裏面反射鏡は、ＭｏＯ3およびＷＯ3が高温高湿環境で密着性が劣化する恐れが高く、Ｃ−Ｆ基を有する撥水処理剤やシラン化合物を主成分とする封止剤等を塗布する等水分封止め処理を施さなければならない問題がある。また、ＷＯ3は、可視光や紫外線の照射によって分子が励起されて可逆的に着色するエレクトロクロミック性があり、反射光を着色させるおそれがある。
【０００９】
すなわち、引用文献１等によって提案されている裏面反射鏡は、反射層が１００℃の高温試験において、熱膨張による基板伸縮に対応できず、クラック発生や剥離が避けられない問題がある。
【００１０】
引用文献２によって提案されているのは、反射防止膜であって、裏面反射鏡には利用できない。
【００１１】
引用文献３の増反射金属ミラーコーティングを有するプラスチック基板表面反射鏡においては、第１層のＳｉＯが黄（茶）色系であり、第１層によって短波長側の吸収すなわち４００ｎｍ以下の光透過が不良であり、着色・反射低下をもたらす問題がある。さらに、第１層のＳｉＯと第２層のＳｉＯ2は第４層の第３層への密着性を高めるために設けられているが、その密着強度は不十分である。
【００１２】
引用文献４の増反射金属ミラーコーティングを有するプラスチック基板反射鏡においては、弗化セリュウムＣｅＦ3層及び酸化セリュウムＣｅＯ2層を含むことによって機械的強度が弱く、特に表面反射膜としては強度・耐久性に関し大きな問題を有している。酸化セリュウムＣｅＯ2は、短波長側４００ｎｍ以下で２〜４％の吸収があり、波長透過特性は好ましくない。酸化セリュウムＣｅＯ2はまた、吸湿性があり、高温高湿環境で密着性が劣化する恐れがある。
【００１３】
一方、可視域光学部品の薄膜コーティング材料選定で問題となるのは、近紫外域４００nm前後の吸収である。４００nm 以外の４２０〜７５０nmでの吸収が、測定分解能以下で検出できない程度の場合でも、４００nm前後が１％の吸収があると、膜が黄色く着色したように見え、照明系の照明光の外観の色味を損なうこととなる。また、通常、プラスチック樹脂基板自体、この近紫外域４００nmより短い波長域での吸収が多く、透過率が低くなってしまう。従って、透過率を向上させるため、吸収率０．３％以下の膜吸収が少ない材料を選定することが望ましい。
【００１４】
（発明の目的）
本発明は、従来の増反射コーティングや反射防止コーティングに関する上述した問題点に鑑みなされたものであって、プラスチック基板に用いるための、増反射コーティング層を設けることによって高い反射率，特にＬＥＤ光源の発する光に対し高い反射率で無着色で反射する裏面反射鏡を提供することを目的とする。
本発明はまた、高温高湿環境でも密着性が落ちず剥離せず、しかも耐久性の高い裏面反射鏡を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明は、プラスチック基板に構成された裏面反射鏡であって、
増反射ミラーコートが裏面反射鏡に設けられており、
前記増反射ミラーコートは、
基板密着層と、増反射中間層と、反射層と、保護層とからなり、
前記増反射中間層は、前記プラスチィック基板の屈折率より高い屈折率をもち波長４２０〜７５０nm又は波長４００〜７８０nmにおいて０．３％以下の吸収性をもつ高屈折率層と、前記プラスチィック基板の屈折率より低い屈折率をもつ低屈折率層とが交互に積層されてなる、
ことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の裏面反射鏡によれば、プラスチック基板に用い、増反射コーティング層を設けることによって高い反射率，特にＬＥＤ光源の発する光に対し高い反射率で無着色で反射する裏面反射鏡を形成することができる。
本発明の裏面反射鏡によればまた、高温高湿環境でも密着性が落ちず剥離せず、しかも耐久性の高い裏面反射鏡を形成することができる。
【００１７】
（発明の実施態様）
本発明の実施態様は、以下のとおりである。
前記プラスチック基板の表面上には、第１層から第７層が、この順序でコーティングされてなり、
前記第１層は、前記基板密着層を構成し、かつ、酸化ケイ素（SiOx ｘ＜２）からなり、
前記第２層は、前記増反射中間層のうちの１つの層を構成し、かつ、前記低吸収高屈折率の材料からなり、
前記第３層は、前記増反射中間層のうちの１つの層を構成し、かつ、前記低屈折率の材料からなり、
前記第４層は、前記増反射中間層のうちの１つの層を構成し、かつ、前記低吸収高屈折率の材料からなり、
前記第５層は、前記増反射中間層のうちの１つの層を構成し、かつ、前記低屈折率の材料からなり、
前記第６層は、前記反射層を構成し、かつ、アルミニュウムからなり、
前記第７層は、前記基板密着層を構成し、かつ、二酸化ケイ素（SiO2）からなる、
ことを特徴とする。
【００１８】
本発明の他の実施態様は、以下のとおりである。
前記前記低吸収高屈折率の材料が、チタン酸ランタン（LaTiO3）であることを特徴とする。
前記チタン酸ランタン（LaTiO3）が、屈折率１．９０以上にチタン酸ランタン（LaTiO3）であることを特徴とする。
前記低屈折率の材料が、二酸化ケイ素（SiO2）であることを特徴とする。
前記二酸化ケイ素（SiO2）が、屈折率１．４０〜１．５０の二酸化ケイ素（SiO2）であることを特徴とする。
前記酸化ケイ素（SiOx）が、一酸化ケイ素（SiO）を主成分とすることを特徴とする。
前記一酸化ケイ素（SiO）が、屈折率１．４５〜１．５５、膜厚０．４５λ以上であることを特徴とする。
前記反射層が、膜厚１００nm以上であるアルミニュウムからなることを特徴とする。
【００１９】
本明細書において、酸化ケイ素（SiOx ｘ＜２）は、一酸化ケイ素（SiO）と二酸化ケイ素（SiO2）が存在する状態を示し、一酸化ケイ素（SiO）のみが存在する状態や、二酸化ケイ素（SiO2）のみが存在する状態は含まない。
【００２０】
前記実施態様で選出したチタン酸ランタン、酸化アルミニウム、二酸化珪素は、４００nmにおける膜吸収は、いずれも０．１〜０．３％であり、膜自体の着色はほとんど見られない。
【００２１】
しかし、この吸収に対する仕様は、使用する光源によって異なる。例えば、図３に示す車載用白色ＬＥＤの場合、輝度が４００nmから立ち上がり始め、４５０nmと５６０nmに２つのピークをもち、７５０nmにかけて減少する特性をもつ。この場合、４００nm以下の吸収は問題にならず、４２０〜７５０nmの吸収が仕様上すなわち使用上問題となる演色性が低く、青白い光を避けることができ、かつ高輝度・高効率を得ることができる。ここで、高演色性白色とは、一般に発光効率は高くないが、ブロードスペクトルが得られ、対象物を照明したとき、対象物の色調を正しく表現できる性質をいう。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】図１は、本発明の実施形態の裏面反射鏡の蒸着膜構成図である。
【図２】図２は、本発明の実施形態の裏面反射鏡の分光反射率特性図である。
【図３】図３は、本発明の裏面反射鏡を適切に使用の車載用白色ＬＥＤの分光反射率特性図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下に、本発明の実施形態の裏面反射鏡の構成及び製造方法について説明する。本発明の実施形態の裏面反射鏡は、光源ランプがＬＥＤ である車載ヘッドライト等に好適に使用されるものである。
【００２４】
（構成）
裏面反射鏡１は、図１に示すように、ポリカーボネートＰＣの基板１０に、第１層１１〜第７層１７をコーティングしてなる。第１層１１〜第７層１７の物質、屈折率、波長５５０ｎｍの光学的膜厚、物理膜厚を、表１に示す。
【表１】
基板１０のポリカーボネート（ＰＣ）は、例えば、帝人化成株式会社によって販売されているパンライトＬ−１２２５ＺＬ１００（登録商標）である。
第１層を、密着層と呼ぶ。
第２層１２から第５層１５を、反射率を向上させるためのもので、反射中間層と呼ぶ。
第６層を、反射層と呼ぶ。
第７層を、保護層と呼ぶ。
【００２５】
（製造方法）
基板１０を、蒸着装置（図示せず）に配置し、４０℃程度に加熱し、真空度２．０×１０-3Ｐａまで真空排気する。排気時間は可能な限り長くして、基板１０表面の付着水分を離脱させて排除することが望ましい。４０℃程度の加熱は蒸着終了まで保持される。４０℃程度の低温の加熱は、基板１０の変形を防ぐとともに、後述する第６層１６が散乱面化することを防ぐためにも望ましい。
【００２６】
２．０×１０-3Ｐａまで真空排気後、酸素を導入し、真空度２．０×１０-2Ｐａを保持しながら、第１層１１を蒸着する。第１層１１の蒸着材料は、屈折率１．４９〜１．５４の酸化珪素（ＳｉＯｘ，ｘ＝１又は２、層が形成されていく程酸化が進み、ＳｉＯに加えてＳｉＯ2が形成される。層の組成としては、ＳｉＯｘ，ｘ＜２の酸化数となる）で、光学的膜厚０．４５λである。
第１層１１の蒸着開始時の蒸着材料は、酸化珪素（ＳｉＯ）である。蒸発源として抵抗加熱源又は電子ビーム加熱源を使用することは、基板１０と第１層１１の密着性を向上させるために望ましい。
【００２７】
ポリカーボネートＰＣ基板１０の屈折率は、１．５８である。酸素流入量を少なくすると、第１層１１の酸化珪素の屈折率を１．５４とすることができる。第１層１１の酸化珪素の屈折率１．５４は、基板１０の屈折率１．５８に非常に近くなり、基板１０と第１層１１の界面反射が少なくなる利点がある。
【００２８】
第２層１２は、高屈折率蒸着物質の１つである、屈折率１．８５〜１．９０のチタン酸ランタン（ＬａＴｉＯ3）を使用し、膜厚を０．４５λとする。蒸着は、電子ビーム加熱源を使用し、酸素流入量を調節することによって真空度７．０×１０-2Ｐａを保持しながら、成膜速度０．６ｎｍ／ｓｅｃで行う。
【００２９】
第３層１３は、低屈折率蒸着物質の１つである、屈折率１．４３〜１．４６の二酸化珪素（ＳｉＯ2）を使用し、膜厚を０．３６λとする。蒸着は、プラズマガンを使用し、酸素流入量を調節することによって真空度２．３×１０-2Ｐａを保持しながら、成膜速度０．６ｎｍ／ｓｅｃで行う。
【００３０】
イオンエネルギーにより膜充填密度を高めることができるプラズマガンは、放電電圧１００〜１１０Ｖ、放電電流２９Ａ程度の低出力で作動させる。低出力に調整されたプラズマガンを使用することによって、プラズマガンを使用しないときに較べ、二酸化珪素（ＳｉＯ2）膜への応力が緩和され、耐熱性が向上し、さらに、高温環境でのクラック発生が少なくなる。
【００３１】
第４層１４は、第２層１２と同様に、高屈折率蒸着物質の１つである、屈折率１．８５〜１．９０のチタン酸ランタン（ＬａＴｉＯ3）を使用し、膜厚を０．２７λとする。蒸着は、電子ビーム加熱源を使用し、酸素流入量を調節することによって真空度７．０×１０-2Ｐａを保持しながら、成膜速度０．６ｎｍ／ｓｅｃで行う。
【００３２】
第５層１５は、第３層と同様に、低屈折率蒸着物質の１つである、屈折率１．４３〜１．４６の二酸化珪素（ＳｉＯ2）を使用し、膜厚を０．２１５λとする。蒸着は、プラズマガンを使用し、酸素流入量を調節することによって真空度２．３×１０-2Ｐａを保持しながら、成膜速度０．６ｎｍ／ｓｅｃで行う。
【００３３】
第６層１６は反射層であり、抵抗加熱源を使用し、アルミニュウム（Ａｌ）を、成膜速度２ｎｍ／ｓｅｃで、物理膜厚１００ｎｍに蒸着した。成膜速度は、速い程表面の平滑性がよい蒸着を行うことができ、散乱を抑え反射率を向上させることができるため、早い成膜速度が望ましい。蒸着温度が４０℃を超えると、蒸着表面が散乱反射面になる恐れが高くなる。
【００３４】
第７層１７は、保護層であり、低屈折率蒸着物質の１つである、屈折率１．４５〜１．４７の二酸化珪素（ＳｉＯ2）を使用し、膜厚を０．２５λとする。蒸着は、抵抗加熱源又は電子ビーム加熱源を使用し、酸素流入量を調節することによって真空度２．３×１０-2Ｐａを保持しながら、成膜速度０．６ｎｍ／ｓｅｃで行う。
【００３５】
上述した本発明の実施形態の裏面反射鏡について、さらに説明する。
（１）実施形態の裏面反射鏡の分光反射率は、図２に示すように、特に可視域、４３０〜６８０ｎｍの反射率を９０％以上と高い反射率を有する。
【００３６】
（２）密着層である第１層の酸化珪素（ＳｉＯｘ，ｘ＝１又は２）は、ポリカーボネート（ＰＣ）はじめ他のプラスチック樹脂に対しても高い密着性を有する。簡易な粘着テープを使用した剥離試験でもまったく問題はない。また、基板の種類や形状に合わせて膜厚を調整することによって、反射率を大きく変化させることなく密着力を制御することができる。
【００３７】
第１層の酸化珪素（ＳｉＯｘ，ｘ＝１又は２）による密着性の高さは、ポリカーボネート（ＰＣ）基板が自由曲面のような複雑な面形状に対しても反射増加膜を均一厚さかつ確実に密着させ、反射面への入射角度０〜６０°の広い角度範囲において変化の少ない反射特性を得ることができる。
【００３８】
また、第１層の酸化珪素（ＳｉＯｘ，ｘ＝１又は２）の光学的膜厚を０．４５λまで厚くすることで、ポリカーボネート（ＰＣ）基板の熱膨張や収縮によって発生する反射増加膜にかかる応力を軽減して、高温耐久性を高めている。その結果、１００℃の高温試験やヒートショック試験においても、反射増加膜や全反射層のクラックの発生を有効に阻止することができる。さらに、６０℃、９０％、２４０時間の高温高湿試験でも、剥離、金属反射膜の変質・変色、クラック発生等についてまったく問題がなく、過酷な車載用途にも十分耐えるものである。
【００３９】
酸化チタン（ＴｉＯ2）は、光触媒効果を有し、紫外線ＵＶが照射されると光触媒効果によってポリカーボネート（ＰＣ）基板を分解して光吸収層を形成する恐れがある。酸化珪素（ＳｉＯｘ，ｘ＝１又は２）は、光触媒効果を有しない。
【００４０】
密着層として、従来公知の炭素を含む有機薄膜を使用すると、樹脂基板の熱膨張による応力変化をある程度吸収する。しかし、膜形成を浸漬法等湿式成膜法を使用するため、光学的面精度が低く、複雑な形状になり、膜厚がばらつき、高精度の反射膜を形成することはできない。
【００４１】
（２）反射増加膜に、屈折率１．８５〜１．９０のチタン酸ランタン（ＬａＴｉＯ3）層を含めることで、耐環境性の高い裏面反射鏡としている。
仮に、チタン酸ランタン（ＬａＴｉＯ3）に代えて酸化チタン（ＴｉＯ2）を使用すると、屈折率は２．３５と高く高い反射率を得ることができる。しかし、蒸着による樹脂基板の変形・変質を避けるために、無加熱すなわち常温で蒸着すると、膜の充填密度が低くなり、曇りや表面の粗面化による散乱が発生し、耐環境性も低い。
【００４２】
仮にまた、チタン酸ランタン（ＬａＴｉＯ3）に代えて酸化ランタン（Ｌａ2Ｏ3）を使用し、蒸着による樹脂基板の変形・変質を避けるために、無加熱すなわち常温で蒸着すると、屈折率は１．８０と低く、高い反射率を得ることができない。
仮にまた、チタン酸ランタン（ＬａＴｉＯ3）に代えて酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）を使用した場合も、酸化ランタン（Ｌａ2Ｏ3）を使用した場合と同様に、蒸着による樹脂基板の変形・変質を避けるために、無加熱すなわち常温で蒸着すると、屈折率は１．８０と低く、高い反射率を得ることができない。
【００４３】
（３）反射増加膜に、低屈折率蒸着物質の１つである、屈折率１．４３〜１．４６の二酸化珪素（ＳｉＯ2）を使用し、電子ビーム加熱源を使用し、低エネルギーのイオンアシスト蒸着又はプラズマアシスト蒸着によって、膜厚を０．３６λとした。イオンアシスト蒸着又はプラズマアシスト蒸着は、弱い圧縮応力の蒸着膜を成膜することができ、膜の基板への高い密着力と高い高温耐久性を実現した。
【００４４】
（４）反射層の第６層１６は、抵抗加熱源を使用し、アルミニュウム（Ａｌ）を、成膜速度２ｎｍ／ｓｅｃで、物理膜厚１００ｎｍに蒸着した。
アルミニュウム（Ａｌ）は、可視域反射率が８８％であり、可視域反射率に関し銀（Ａｇ）に劣るが、機械的強度が高く耐蝕性に優れている。アルミニュウム（Ａｌ）の反射率は、理論的に物理膜厚が７０ｎｍで最大になるが、機械的耐久性を考慮すると、１００ｎｍ以上が好ましい。
【００４５】
仮に、アルミニュウム（Ａｌ）に代えて金（Ａｕ）を使用すると、可視域反射率が約４０％であり、不都合である。
【００４６】
仮にまた、アルミニュウム（Ａｌ）に代えて銀（Ａｇ）を使用すると、可視域反射率が９８％と高く好ましい。しかし、銀（Ａｇ）は、腐食性が高く、大気に曝されると硫化銀（ＡｇＳ）が形成され、さらにオゾンと化合して、黒褐色の酸化物を形成し、反射率を低下させる。
【００４７】
（５）保護層の第７層１７を、屈折率１．４５〜１．４７の二酸化珪素（ＳｉＯ2）を使用して、膜厚と０．２５λとすることにより、優れた機械的強度、耐酸性、耐環境性を実現し、厳しい車載用途にも十分耐えるものである。例えば、イソプロピルアルコール、エチルアルコール、メチルアルコール等各種アルコール系溶剤をシルボン紙に含ませ、約２００ｇの加重で１０往復擦っても、膜に異常は現れなかった。
保護層は、二酸化珪素（ＳｉＯ2）に代えて酸化アルミニュウム（Ａｌ2Ｏ3）を使用してもよい。
【符号の説明】
【００４８】
１０ 基板
１１ 第１層
１２ 第２層
１３ 第３層
１４ 第４層
１５ 第５層
１６ 第６層
１７ 第７層
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラスチック基板に構成された裏面反射鏡であって、
増反射ミラーコートがプラスチック基板の表面上に設けられ、
前記増反射ミラーコートは、
基板密着層と、増反射中間層と、反射層と、保護層とからなり、
前記増反射中間層は、前記プラスチック基板の屈折率より高い屈折率をもち、波長が４２０nmから７５０nmにおいて、又は、波長が４００nmから７８０nmにおいて、０．３％以下の吸収性をもつ高屈折率層と、前記プラスチック基板の屈折率より低い屈折率をもつ低屈折率層とが交互に積層されてなる、
ことを特徴とする裏面反射鏡。
【請求項２】
前記プラスチック基板の表面上には、第１層から第７層が、この順序でコーティングされてなり、
前記第１層は、前記基板密着層を構成し、かつ、酸化ケイ素（SiOx ｘ＜２）からなり、
前記第２層は、前記増反射中間層のうちの１つの層を構成し、かつ、前記低吸収高屈折率の材料からなり、
前記第３層は、前記増反射中間層のうちの１つの層を構成し、かつ、前記低屈折率の材料からなり、
前記第４層は、前記増反射中間層のうちの１つの層を構成し、かつ、前記低吸収高屈折率の材料からなり、
前記第５層は、前記増反射中間層のうちの１つの層を構成し、かつ、前記低屈折率の材料からなり、
前記第６層は、前記反射層を構成し、かつ、アルミニュウムからなり、
前記第７層は、前記基板密着層を構成し、かつ、二酸化ケイ素（SiO2）からなる、
ことを特徴とする請求項１に記載の裏面反射鏡。
【請求項３】
前記低吸収高屈折率の材料が、チタン酸ランタン（LaTiO3）であることを特徴とする請求項１又は２に記載の裏面反射鏡。
【請求項４】
前記チタン酸ランタン（LaTiO3）は、屈折率が１．９０以上のチタン酸ランタン（LaTiO3）であることを特徴とする請求項３に記載の裏面反射鏡。
【請求項５】
前記低屈折率の材料が、二酸化ケイ素（SiO2）であることを特徴とする請求項１又は４に記載の裏面反射鏡。
【請求項６】
前記二酸化ケイ素（SiO2）は、屈折率が１．４０から１．５０の二酸化ケイ素（SiO2）であることを特徴とする請求項５に記載の裏面反射鏡。
【請求項７】
前記酸化ケイ素（SiOx）は、一酸化ケイ素（SiO）を主成分とすることを特徴とする請求項１又は６に記載の裏面反射鏡。
【請求項８】
前記一酸化ケイ素（SiO）は、屈折率が１．４５から１．５５であり、膜厚が０．４５λ以上であることを特徴とする請求項７に記載の裏面反射鏡。
【請求項９】
前記反射層が、膜厚１００nm以上であるアルミニュウムからなることを特徴とする請求項１又は８に記載の裏面反射鏡。
【請求項１】
プラスチック基板に構成された裏面反射鏡であって、
増反射ミラーコートがプラスチック基板の表面上に設けられ、
前記増反射ミラーコートは、
基板密着層と、増反射中間層と、反射層と、保護層とからなり、
前記増反射中間層は、前記プラスチック基板の屈折率より高い屈折率をもち、波長が４２０nmから７５０nmにおいて、又は、波長が４００nmから７８０nmにおいて、０．３％以下の吸収性をもつ高屈折率層と、前記プラスチック基板の屈折率より低い屈折率をもつ低屈折率層とが交互に積層されてなる、
ことを特徴とする裏面反射鏡。
【請求項２】
前記プラスチック基板の表面上には、第１層から第７層が、この順序でコーティングされてなり、
前記第１層は、前記基板密着層を構成し、かつ、酸化ケイ素（SiOx ｘ＜２）からなり、
前記第２層は、前記増反射中間層のうちの１つの層を構成し、かつ、前記低吸収高屈折率の材料からなり、
前記第３層は、前記増反射中間層のうちの１つの層を構成し、かつ、前記低屈折率の材料からなり、
前記第４層は、前記増反射中間層のうちの１つの層を構成し、かつ、前記低吸収高屈折率の材料からなり、
前記第５層は、前記増反射中間層のうちの１つの層を構成し、かつ、前記低屈折率の材料からなり、
前記第６層は、前記反射層を構成し、かつ、アルミニュウムからなり、
前記第７層は、前記基板密着層を構成し、かつ、二酸化ケイ素（SiO2）からなる、
ことを特徴とする請求項１に記載の裏面反射鏡。
【請求項３】
前記低吸収高屈折率の材料が、チタン酸ランタン（LaTiO3）であることを特徴とする請求項１又は２に記載の裏面反射鏡。
【請求項４】
前記チタン酸ランタン（LaTiO3）は、屈折率が１．９０以上のチタン酸ランタン（LaTiO3）であることを特徴とする請求項３に記載の裏面反射鏡。
【請求項５】
前記低屈折率の材料が、二酸化ケイ素（SiO2）であることを特徴とする請求項１又は４に記載の裏面反射鏡。
【請求項６】
前記二酸化ケイ素（SiO2）は、屈折率が１．４０から１．５０の二酸化ケイ素（SiO2）であることを特徴とする請求項５に記載の裏面反射鏡。
【請求項７】
前記酸化ケイ素（SiOx）は、一酸化ケイ素（SiO）を主成分とすることを特徴とする請求項１又は６に記載の裏面反射鏡。
【請求項８】
前記一酸化ケイ素（SiO）は、屈折率が１．４５から１．５５であり、膜厚が０．４５λ以上であることを特徴とする請求項７に記載の裏面反射鏡。
【請求項９】
前記反射層が、膜厚１００nm以上であるアルミニュウムからなることを特徴とする請求項１又は８に記載の裏面反射鏡。
【図１】
【図２】
【図３】
【図２】
【図３】
【公開番号】特開２０１１−９５６５８（Ｐ２０１１−９５６５８Ａ）
【公開日】平成２３年５月１２日（２０１１．５．１２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２５１９４３（Ｐ２００９−２５１９４３）
【出願日】平成２１年１１月２日（２００９．１１．２）
【出願人】（０００１３３２２７）株式会社タムロン (355)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年５月１２日（２０１１．５．１２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年１１月２日（２００９．１１．２）
【出願人】（０００１３３２２７）株式会社タムロン (355)
【Ｆターム（参考）】
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