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Fターム[4K029BD09]の内容

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Fターム[4K029BD09]に分類される特許

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【課題】反射断熱材の表面の反射膜を高い反射率に維持できる優れた耐久性を確保できるようにすることである。
【解決手段】基材としての樹脂フィルム2の表面の反射膜3を、Agを主成分とし、Bi、SbおよびNdから選ばれる1種以上の合金元素を0.005〜3.2原子%含有するAg基合金で形成することにより、化学的安定性を純Agよりも向上させて、反射膜3を高い反射率に維持できる優れた耐久性を確保できるようにした。 (もっと読む)


【課題】裏面に反射膜を積層したサファイア基板の内部にストリートに沿って改質層を形成することができ、かつ反射膜をストリートに沿って切断することができるサファイア基板の加工方法を提供する。
【解決手段】表面に複数の光デバイスが格子状のストリート22で区画形成されたサファイア基板20をストリートに沿って分割するサファイア基板の加工方法であって、基板に対して透過性を有する波長のレーザー光を裏面側から基板の内部に集光点を位置付けてストリートに沿って照射し、ストリートに沿って改質層を形成する工程と、基板の裏面に反射膜210を積層する工程と、裏面に積層された反射膜側から反射膜に対して吸収性を有する波長のレーザー光線をストリートに沿って照射し、反射膜をストリートに沿って切断する工程と、基板に外力を付与して基板を変質層が形成されたストリートに沿って破断し、個々の光デバイスに分割する工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】 低抵抗かつ高反射率の特性と共に表面粗さが小さく、高い耐硫化性及び耐塩化性を兼ね備えた導電性膜およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 導電性膜が、InおよびSnのうち1種または2種を合計で:0.1〜1.5原子%、Sb:0.1〜1.5原子%を含有し、さらにGa,Mgの内の1種または2種を合計で0.5〜3原子%を含有し、残部がAgおよび不可避不純物からなる成分組成を有した銀合金で構成されている。この導電性膜は、表面に有機EL素子の透明導電膜が積層され、さらにその上に有機EL層を含む電界発光層が積層される有機EL素子用の反射電極膜として好適である。 (もっと読む)


【課題】 膜の良好な平坦性および耐紫外線性を有すると共に酸化による反射率の低下を防ぐことができる光記録媒体の反射膜形成用銀合金スパッタリングターゲットおよびこのターゲットを用いて成膜した光記録媒体の反射膜を提供する。
【解決手段】 反射膜形成用銀合金スパッタリングターゲットが、In:0.5〜10質量%およびZn:0.5〜10質量%を含有し、残部がAgおよび不可避不純物からなる組成の銀合金からなる。または、In:0.5〜10質量%、Zn:0.5〜10質量%およびCu:0.5〜2質量%を含有し、残部がAgおよび不可避不純物からなる組成の銀合金からなる。 (もっと読む)


【課題】反射膜の膜厚が約25nm以下に薄く調整されていても、光情報記録媒体での反射率やジッター値などの初期特性に優れていることは勿論のこと、高温高湿下で長期間保管した場合であってもこれらの特性が劣化することがなく、耐久性に優れた光情報記録媒体用反射膜を提供する。
【解決手段】本発明の光情報記録媒体用反射膜は、Siを0.5〜10%、および/またはGeを0.5〜10%と、高融点金属元素を0.2〜1.0%含むAl基合金からなる。上記反射膜の膜厚は25nm以下である。 (もっと読む)


【課題】少なくとも一方の面に複数の凹凸部を有する長尺シートを用いた場合、凹凸部の一部に蒸着材料を選択的に蒸着することが可能な蒸着装置を提供する。
【解決手段】少なくとも一方の面に複数の凹凸部を有する長尺シートW1に、一方の面が鉛直方向を含む縦平面に沿い、かつ、搬送方向が縦平面内における水平方向に沿う状態で斜方蒸着を行う斜方蒸着装置であって、一方の面が縦平面以外の平面に沿う、又は、搬送方向が縦平面内における水平方向以外の方向に沿う長尺シートW1を、一方の面が縦平面に沿い、かつ、搬送方向が縦平面内における水平方向に沿うようにする第1搬送方向変更部20と、第1搬送方向変更部20の後段に配置され、凹凸部の一部に蒸着材料を斜方蒸着する斜方蒸着部40とを備える斜方蒸着装置1。 (もっと読む)


【課題】蒸着膜の膜厚の精度が向上する蒸着膜形成体の製造方法を提供する。
【解決手段】蒸着装置及び被蒸着物が準備される。蒸着装置は、真空槽及び蒸着源を備える。蒸着源は、真空槽内に設置され、蒸着材料を蒸発させる。蒸着装置及び被蒸着物が準備された後に、真空槽内に被蒸着物が収容される。真空槽内に被蒸着物が収容された後に、真空槽内からの排気が開始され、真空槽内が減圧状態にされる。真空槽内が減圧状態にされた後に、蒸着源からの蒸着材料の蒸発が開始させられ、蒸着材料からなる蒸着膜が被蒸着物に形成される。蒸着源からの蒸着材料の蒸発が開始させられた後に、蒸着源からの蒸着材料の蒸発が終了させられる。同時に、真空槽内からの排気が終了させられ、真空槽内へ気体が導入され、減圧状態が解消される。 (もっと読む)


【課題】表面に凹凸形状が形成されている長尺シートを用いた場合に、凹凸形状のうち一部に蒸着材料を選択的に蒸着することが可能な蒸着装置を提供する。
【解決手段】表面に凹凸形状が形成されている長尺シートW1における凹凸形状の一部に、蒸着材料Mを選択的に蒸着する蒸着装置であって、長尺シートW1を搬送する搬送部20と、蒸着時において蒸着材料Mを収容し加熱する蒸着源30と、蒸着材料Mの放出方向を制限する放出方向制限部40とを備えることを特徴とする蒸着装置1。 (もっと読む)


【課題】 ターゲットの大型化に伴い、ターゲットに大電力が投入されてもスプラッシュを抑制することができると共に、耐食性および耐熱性に優れ、低電気抵抗の膜を形成可能な導電性膜形成用銀合金スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 導電性膜形成用銀合金スパッタリングターゲットが、In:0.1〜1.5質量%を含有し、さらにCe,Euの内の1種または2種を合計で0.05〜0.8質量%を含有し、残部がAgおよび不可避不純物からなる成分組成を有した銀合金で構成され、銀合金の結晶粒の平均粒径が120〜250μmであり、結晶粒の粒径のばらつきが、平均粒径の20%以下である。 (もっと読む)


【課題】支持基材および反射電極としての機能を兼ね備え、かつ、熱伝導性に優れた、電極箔ならびにそれを用いた有機デバイスが提供される。
【解決手段】金属箔と、前記金属箔上に直接設けられる反射層とを備えてなり、フレキシブル電子デバイス用の支持基材を兼ねたアノードまたはカソードとして用いられる、1〜100μmの厚さを有する電極箔。 (もっと読む)


【課題】金属反射膜が加熱成形により軟化した樹脂基板に追従しクラックや白化を起こさない金属光沢を有した合成樹脂鏡を提供する。
【解決手段】アクリル樹脂基板1上に金属反射膜2および保護塗膜3がこの順に積層された合成樹脂鏡であって、金属反射膜がスズ13〜51質量%、インジウム87〜49質量%を含有する合金からなる合成樹脂鏡;並びに、金属反射膜2をスパッタリングまたは真空蒸着により形成する工程と、金属反射膜2上に保護塗膜3を形成する工程を有する前記合成樹脂鏡の製造方法。 (もっと読む)


【課題】本発明は、薄肉部分を有する部品の成形において、シルバーや曇りなどの発生を抑制し、かつ、金属蒸着、例えばアルミ蒸着後において、熱エージング前後の外観、特に表面反射率の保持に優れ、さらに剛性および耐熱性にも優れた高輝度・低ガス性薄肉樹脂反射鏡を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の高輝度・低ガス性薄肉樹脂反射鏡は、樹脂組成物からなる高輝度・低ガス性薄肉樹脂反射鏡であって、前記反射鏡が金属蒸着されたものであり、前記金属蒸着された部分の成形品厚みが平均2mm以下であり、前記金属蒸着された部分(蒸着面)の初期表面反射率が90%以上であり、前記金属蒸着された部分の表面粗さが12nm以下であり、かつ前記樹脂組成物についてフォギング試験を行った後のガラス板のヘイズ値が1.0以下である。 (もっと読む)


【課題】本発明の課題は、反射防止効果に優れ、且つ膜強度、耐環境信頼性に優れた反射防止膜を提供することである。
【解決手段】複数の層からなる反射防止膜であって、該複数層のうち少なくとも一層が、複数の微細な管状空間を有する構造体からなる光学薄膜であって、前記光学薄膜が有する全ての管状空間が基板の接平面垂直方向において平行に配列されていることを特徴とする構成とした。 (もっと読む)


【課題】可視域から赤外域まで高反射率な光学特性を有するとともに、折り曲げても剥離を抑制できる密着性を有し、耐性が高く、スパッタリングによる成膜のための設備を簡易なものにすることができるAgリフレクタとその製造方法を提供する。
【解決手段】ステンレス基板と、その表面に設けられたNiW膜からなる密着層と、その表面に設けられたAg膜からなる反射層と、その表面に設けられた第1のITO膜と、その表面に設けられた第2のITO膜と、その表面に順に設けられたSiO2膜およびNb25膜からなる増反射層とを備えることを特徴としている。 (もっと読む)


【課題】界面拡散を抑えつつ基板上に薄膜を形成すること。
【解決手段】基板上に薄膜を形成する成膜装置であって、薄膜を構成する物質のスパッタ粒子を基板に向けて放出する放出部と、放出されたスパッタ粒子のうち少なくとも一部を帯電させる帯電部と、帯電した状態で基板に到達するスパッタ粒子の運動エネルギーの大きさを調整する調整部とを備える。 (もっと読む)


【課題】高い反射率を有しながら、膜に欠陥が存在していても、白濁部が発生したり白濁部が粗大化しないAg基合金からなる反射膜およびそれらを形成するためのスパッタリングターゲット材または蒸着材料を提供すること。
【解決手段】0.005〜1.0mass%のP、0.01〜5.0mass%のCu、0.9mass%より多く5.0mass%以下のAuを含有し、残部がAg及び不可避不純物より構成されるAg基合金からなることを特徴とする反射膜。 (もっと読む)


【課題】薄膜間の剥離を防止すると共に、イオンダメージのない薄膜を効率的に製造することができる成膜装置を提供する。
【解決手段】基板Sに薄膜を形成する第1の成膜処理装置13及び第2の成膜処理装置15と、反応室141内に供給される水素ガスを触媒体に接触させてラジカルを発生させ、当該ラジカルを基板Sに供給して当該基板Sの表面処理を行う表面処理装置14とを備え、表面処理装置14は、第1の成膜処理装置13の後であり、かつ第2の成膜処理装置15の前で基板Sの表面処理をするように設置されている。 (もっと読む)


【課題】仕事関数が、汎用のAg基合金膜と酸化物導電膜との積層構造の仕事関数と同程度に高い、新規なAl基合金反射膜を備えた有機ELディスプレイ用の反射アノード電極を提供する。
【解決手段】基板上に形成された有機ELディスプレイ用の反射アノード電極であって、反射アノード電極は、純Al膜またはAl合金膜6と、Al合金膜上に直接接触する酸化物導電膜7との積層構造であり、酸化物導電膜がAgを0.1〜5原子%含有する。 (もっと読む)


【課題】性能低下が抑制される干渉フィルターを提供すること。
【解決手段】干渉フィルター5は、ギャップGを介して対向する2つの反射膜56,57と、反射膜56,57を支持する基板51,52と、を備え、反射膜56,57は、純銀膜561,571と銀合金膜562,572とを含み、基板51,52には、基板51,52側から順に純銀膜561,571、及び銀合金膜562,572が設けられ、銀合金膜562,572は、銀(Ag)、サマリウム(Sm)、及び銅(Cu)を含有するAg−Sm−Cu合金膜、又は銀(Ag)、ビスマス(Bi)、及びネオジム(Nd)を含有するAg−Bi−Nd合金膜であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】生産性を低下させずに良好な安定性、耐久性を得ることができ、また良好な光学特性を得ることができる日射調整フィルム。
【解決手段】日射調整フィルム1は、ポリエステルフィルム2の一方の主面にハードコート層3を有し、他方の主面に日射反射積層膜4を有する。日射反射積層膜4は、ポリエステルフィルム2側から順に、第1の亜鉛酸化物層41、第1の銀合金層42、第2の亜鉛酸化物層43、第2の銀合金層44、第3の亜鉛酸化物層45が積層されてなるものである。第1〜第3の亜鉛酸化物層41、43、45は、亜鉛および亜鉛以外の金属元素の酸化物からなり、これら亜鉛と亜鉛以外の金属元素とにおいて亜鉛が主たる酸化物構成元素となるものであり、第1〜第2の銀合金層42、44は、パラジウムおよび金から選ばれる少なくとも1種の金属を含有する銀合金からなるものである。 (もっと読む)


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