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Fターム[4K029DB18]の内容

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Fターム[4K029DB18]に分類される特許

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【課題】従来の撥水膜に対し、滑り性を向上させ、かつ耐久性、耐摩耗性の特性を向上させた薄膜を有する光学部材の製造方法を提供する。
【解決手段】特定のフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物と、特定のシラン化合物との混合物を含有する蒸着材料を光学部材上に蒸着して第1撥水層を形成し、その上に特定のパーフルオロポリエーテル−ポリシロキサン共重合体変性シランと溶媒を含有する浸漬材料に浸漬して第2撥水層を形成することにより、2層からなる撥水膜を形成する光学部材の製造方法。 (もっと読む)


【課題】製造装置を大型化することなく基板に対して表示パネルを合理的に配置しつつも、画素内において蒸着膜の必要膜厚が確保された実効画素領域を広く確保することができ、これにより低コストで表示特性の良好な表示装置を得ることが可能な製造方法を提供する。
【解決手段】開口パターン3aを備えた蒸着マスク3と長尺状のライン蒸着源1とを用いて基板5の画素a上に蒸着パターンを形成する表示装置の製造方法において、基板5上における表示パネル領域Pの配置方向に係わりなく、ライン蒸着源1の長手方向に開口パターン3aおよび画素aの長辺方向をそれぞれ一致させるように蒸着マスク3と基板5とを配置する。蒸着源5に対して基板5と蒸着マスク3とを相対的に移動させることにより、蒸着パターンを各画素aに形成する。 (もっと読む)


【課題】有機材料を変質させることなく、少量ずつ蒸発させられる技術を提供する。
【解決手段】タンク室60内部に配置された粉体の有機材料63を蒸発室20aの内部に移動させ、蒸発室20aの内部で有機材料蒸気を発生させる際に、有機材料63が通過する接続管40内に加熱したシールドガスを導入し、有機材料をシールドガスと共に蒸発室20a内に移動させる。接続管40と蒸発室20aの間の接続部分を小孔42に形成しておき、小孔42からシールドガスを噴出させると蒸発室20a内で発生した有機材料蒸気が接続管40の内部に侵入することがない。 (もっと読む)


【課題】基板表面に異物があった場合でも陰極と陽極とのショートを防止可能な成膜装置および有機EL装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】成膜装置100は、蒸着装置110と蒸着装置120とを備えた成膜装置であって、蒸着装置110と蒸着装置120とのそれぞれは、蒸着槽20,60と、蒸着槽20,60内に配置され基板32を保持する保持部30,70と、蒸着槽20,60内に保持部30,70に対向して配置され膜材料を蒸発させる蒸着源40,42,90と、を備え、蒸着装置110における保持部30の基板保持面30aと蒸着源40,42との距離は、蒸着装置120における保持部70の基板保持面70aと蒸着源90との距離よりも短いことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】有機材料を変質させることなく、少量ずつ蒸発させられる技術を提供する。
【解決手段】接続管40に挿入された供給軸71の下端に侵入防止部材76を設け、接続管40の下端のコンダクタンスを小さくする。タンク室60内部に配置された粉体の有機材料63を蒸発室20aの内部に移動させ、蒸発室20aの内部で有機材料蒸気を発生させる際に、蒸発室20a内で発生した有機材料蒸気が接続管40の内部に侵入しないようにしておく。接続管40内に加熱したシールドガスを導入し、蒸発室20aの内部に噴出させると、有機材料蒸気がシールドガスによって流されるので、一層蒸気が侵入しないようになる。 (もっと読む)


【課題】繰り返し真空蒸着を行なっても、酸化物の形成に起因する蒸発量の変動の生じない抵抗加熱フィラメントを提供する。
【解決手段】抵抗加熱フィラメントの表面に、このフィラメントの表面を酸化してなる、1.0μm以上で均一な厚さを有する酸化物層を有することにより、前記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】圧延膜において、ピンホール部が効果的に封孔された、水素透過効率が高い、ピンホールのない水素分離膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】水素分離膜を製造する製造方法であって、第1金属を圧延して膜1を形成する膜形成工程と、前記膜1に生じたピンホール部2に有機物を主成分とする液状又は顔料を主成分とする粉末状の塗布剤3を塗布する塗布工程と、ピンホール部2に前記塗布剤3を塗布した前記膜1に、第2金属4を蒸着する蒸着工程と、を備えることを特徴とする、水素分離膜製造方法。 (もっと読む)


【課題】簡便な手法で製造可能であり、かつ、短波長領域の光も透過することが可能な透明電極およびその製造方法を提供する。また、作製された透明電極の光透過率が酸化によって低下することがない透明電極およびその製造方法を提供する。
【解決手段】真空蒸着法により複数種の金属を気化させて基板表面へ蒸着して、上記基板表面に透明電極として上記複数種の金属を含む合金薄膜を形成し、上記複数種の金属には少なくともアルミニウムおよび銀が主成分として含まれるようにしたものであり、上記合金薄膜全体に対する上記アルミニウムの割合が、組成比において上記合金薄膜全体の2割乃至8割であるようにした。 (もっと読む)


【課題】 メンテナンス終了後に再度成膜工程を実施可能とするための時間を短縮することで成膜工程の効率を向上させることが可能な膜厚モニタ装置及びこれを備える成膜装置を提供する。
【解決手段】 基板11上に成膜材料10が付着してなる薄膜の膜厚を測定するための膜厚モニタ装置5である。成膜材料10が付着し、成膜材料10の付着量によって共振周波数が変化する水晶振動子と、前記水晶振動子を囲むように形成され内部を熱媒が循環する熱媒循環路5bと、前記熱媒を循環させ、前記水晶振動子のメンテナンス時に前記水晶振動子に付着した成膜材料10を除去するべく前記熱媒の温度を調整する熱媒温度調整手段5cと、を備えてなる。蒸着装置(成膜装置)Aは、基板11上に成膜材料10を付着させて薄膜を形成するための真空室2を備え、真空室2に膜厚モニタ装置5を配設してなる。 (もっと読む)


【課題】均一な金属薄膜が形成されるようにソース容器内のソース量を常にほぼ一定に維持することができるソース量制御が可能な真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】真空蒸着装置は、チャンバー100と、チャンバー100内の上部に設けられる基板130と、基板130の直下に設けられ、内部にソース111が満たされるソース容器110と、ソース容器110の下面に取付けられた質量測定機120と、質量測定機120に接続されてソース容器110の質量の情報を受信する制御部140と、制御部140に接続され、ソース容器110の質量の情報に応じて制御部140で生成されたソース供給信号が伝達され、ソース容器110内にソース111を供給するソース供給機150とを含んでいる。 (もっと読む)


【課題】 蒸発させた金属原子の被処理物への供給量が調節でき、簡単な構造を有する真空蒸気処理装置を提供する。
【解決手段】 所定圧力に保持可能な真空チャンバ12と、この真空チャンバ内に隔絶して設けられた相互に連通する処理容器2及び蒸発容器3と、この処理容器Sに被処理物を配置すると共に蒸発容器に金属蒸発材料Vを配置した状態で処理容器及び蒸発容器の加熱を可能とする加熱手段6a、6bとを備える。そして、加熱手段によって処理容器及び蒸発容器をそれぞれ加熱して被処理物を所定温度まで昇温させつつ金属蒸発材料を蒸発させ、この蒸発した金属原子が処理容器内の被処理物表面に供給されるように構成する。 (もっと読む)


【課題】燐光体又はシンチレータ原材料の支持体への成膜における高歩留まりの蒸着方法を提供する。
【解決手段】るつぼユニットは底部及び周囲側壁を持ち原材料容器としてのるつぼと、穿孔を有する内部蓋5と、煙突と、及び溶融され液化された燐光体原材料が減圧下で蒸発された形でるつぼユニットから逃避して支持体上に燐光体層として蒸着するスリットをさらに含み、煙突2の一つの加熱手段がスリット及びスロット出口3′を有する遮熱材3の下に位置され、遮熱材3はるつぼユニットをカバーし、かつ煙突2の一部を作る。燐光体原材料の蒸気雲がスロット出口3′と支持体の間を通りかつ支持体と平行にとったどのような断面から燐光体プレート又はパネル上に投影されても、蒸気雲の最長半径のそれに垂直な半径に対する比率が少なくとも1.3である。 (もっと読む)


【課題】本発明は、比較的簡単なプロセスにより例えばIII−V族窒化物半導体のようなエッチングが困難な半導体層でも容易にエッチングが可能な半導体エッチング方法を提供することを目的とする。
【解決手段】基体(1,2)の表面に、エッチングマスクの少なくとも一部として、金属フッ化物層3等の固体層を形成する工程と、前記固体層をレジスト組成物等で処理する工程と、前記固体層をマスクとして、前記基体をエッチングする工程とを有することを特徴とするエッチング方法。 (もっと読む)


【課題】仕事関数の低い材料を迅速に有機層と陰極との界面近傍に挿入する。
【解決手段】PM1は、処理容器100と、有機材料を加熱して気化させる蒸着装置200と、第1の蒸着源に連通し、第1の蒸着源にて気化された有機材料を不活性ガスにより運搬させる第1のガス供給路150と、処理容器外に設けられ、陰極を形成する第1の金属よりも仕事関数が小さい第2の金属を加熱して気化させるディスペンサDsと、ディスペンサに連通し、ディスペンサにて気化された第2の金属を不活性ガスにより運搬させる第2のガス供給路320と、各ガス供給路150、320に連通し、気化された第2の金属を気化された有機材料に混入させて処理容器内の被処理体に向けて吹き出させる吹き出し機構120fと、気化された有機材料に混入させる前記気化された第2の金属の割合を制御する制御器50とを有する。 (もっと読む)


【課題】効果的な修飾微粒子の形成方法の提供。
【解決手段】微粒子を単層固定させる基板表面に金を所定の厚さで蒸着する。一方、1-ethyl-3(3-dimethylaminopropyl)carbodiimidehydrochloride(通称EDC)、NaCl、あるいは、KCl等の微粒子間の静電反発力を抑制するための材料を利用した粒子固定液を作製し、これに微粒子を混合した粒子懸濁液として上記基板上に塗布することにより、金を所定の厚さで蒸着された基板表面に微粒子を単層固定させる。また、単層固定された微粒子表面に遷移金属、金属または半導体を蒸着させて修飾微粒子を形成する。基板から修飾微粒子剥離させるには、超音波洗浄装置等を利用して、基板に超音波を作用させて、剥離を促進する。修飾微粒子を生体機能分子によって修飾して生体物質の検査のための標識として利用する場合、修飾微粒子からの反射電子を利用する。 (もっと読む)


【課題】ホスト材料に対するゲスト材料の割合が非常に小さい場合、ワークの表面に蒸着するゲスト材料の割合やゲスト材料の分布状態を精度良く保つことが困難である。
【解決手段】真空チャンバ11と、この真空チャンバ11内に配される第1および第2の蒸着源16,17と、これら第1および第2の蒸着源16,17から供給されるゲスト材料14およびホスト材料15が表面に蒸着される基板13を真空チャンバ11内にて固定状態で保持するワーク保持手段33とを具えた本発明による真空蒸着装置10は、第1の蒸着源16とワーク保持手段33に保持される基板13との間に位置して基板13の表面に対するゲスト材料14の蒸着量をホスト材料15の蒸着量よりも低減させるための遮蔽部材18と、この遮蔽部材18を第1の軸線O2回りに回転させると共に第2の軸線O1に関して運動させる遮蔽部材駆動機構19と、この遮蔽部材駆動機構19を介して遮蔽部材18を駆動する単一の駆動モータ25とをさらに具える。 (もっと読む)


【課題】 フォトリソグラフィーの技術、金属の延伸工程を用いない新たな大面積のワイヤーグリッド偏光板およびその製造方法の提供。
【解決手段】 樹脂製の表面が平坦な基材の少なくとも片面上に硬質層を設けてあるシートを1軸方向に加熱収縮させることによって特徴的に得られるナノバックリング形状を有するシート上に金属蒸着層を設ける。また、前記金属層が金属蒸着層であることを特徴とする偏光板である。前記ナノバックリング形状を有するシートが、ナノバックリングシートおよび/またはナノバックリングシートのナノバックリング形状を転写したナノバックリング形状レプリカシートであることを特徴とする偏光板である。 (もっと読む)


【課題】ホスト材料とドーパントとからなる膜層のドーパントの混合比率を、コストを抑制しつつ測定する。
【解決手段】第1の基板11を、周縁部を除いて開放した状態で基準面25上を第1の方向線51に沿って搬送する第1の搬送手段31と、第1の搬送手段31と隣り合う搬送手段であって、第2の基板12を周縁部を除いて開放した状態で基準面25上を第1の方向線51に沿って搬送する第2の搬送手段32と、基準面25上において第1の方向線51と直行する第2の方向線52を中心とする所定の幅を有する帯状の領域40と第1の基板11とが重なり得る第1の領域41及び帯状の領域40と第2の基板12とが重なり得る第2の領域42、の双方の領域に第2の蒸着材料を同時に飛翔させることが可能な第2の蒸着源62と、第1の蒸着材料を第1の領域41にのみ飛翔させることが可能な第1の蒸着源61と、を備えることを特徴とする蒸着装置。 (もっと読む)


【課題】蒸発源群の配置によって、材料放出口の温度制御を容易に行えるようにして、安定した成膜ができるようにすること。
【解決手段】蒸着装置1は、蒸発材料の設定温度が異なる3つ以上の材料放出口8a,8b,8cを一列に配列された蒸発源群7を複数備え、複数の蒸発源群は、各蒸発源群の隣り合う材料放出口8c(8a)の設定温度が同じ設定温度であるように配設され、蒸発源群と被蒸着部材との少なくとも一方が他方に対して移動可能になっている。 (もっと読む)


【課題】膜材料の利用効率を向上させることが可能な蒸着装置、蒸着方法、および有機EL装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】蒸着装置100は、膜材料を蒸発させて基板表面に成膜する蒸着装置であって、蒸着槽20と、蒸着槽20内に配置され、基板36を保持する保持部30と、蒸着槽20内に保持部30の基板保持面34aに対向して配置され、膜材料を蒸発させる蒸着源40と、保持部30を冷却する冷却機構50と、を備えていることを特徴とする。 (もっと読む)


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