【課題】 、光学部品の両面に反射防止膜を形成しても密着力、耐久性を損ねることなく、良好な特性の反射防止膜を形成する方法を提供するものである。
【解決手段】 本発明に関わる反射防止膜形成方法は、基板に金属フッ化物を蒸着することで反射防止膜を形成する方法において、前記基板の表面を蒸着する基板温度が、前記基板の裏面を蒸着する基板温度より25〜60℃低いものである。また、反射防止膜付き基板は、基板に形成された赤外反射防止膜において、基板を加熱して蒸着した表面反射防止膜と、表面を蒸着した温度よりも25〜60℃低い温度で蒸着した裏面反射防止膜と、を備えるものである。 （もっと読む）

【解決手段】成膜室１０には、基板ステージ１２、蒸着材料１７が充填されている蒸発源１６が備えられている。成膜室１０の外部にレーザビームを発する光源２２が設けられている。光源２２からのレーザビームは光導入窓１４を通り、蒸着材料１６に照射される。レーザビームの照射により蒸着材料１６を気化し、基板３０に膜が形成される。
【効果】気化された蒸着材料は組成比が変化しないため、緻密な薄膜、歪みや欠陥の少ない均質な薄膜を形成することができる。 （もっと読む）

本発明は金属効果顔料に関し、その金属効果顔料は、少なくとも１種の金属Ｍを含み、Ｍおよび酸素の合計含量を基準にして、２５〜５８原子パーセントの平均酸素含量を有する、実質的に均質な化学組成を有している。本発明はさらに、前記金属効果顔料を製造するための方法にも関する。 （もっと読む）

【課題】シンチレータ材料として優れた物質であるＣｓＩをベースとしながら、放射線照射による発光の発光効率を向上させることで発光輝度を向上し、さらに、防湿バリア等を設置しなくとも耐湿性を向上したシンチレータプレートを提供することである。
【解決手段】ＣｓＩに対して、少なくともヨウ化タリウム及びヨウ化銅を含む２種以上の添加剤をそれぞれ０．０１ｍｏｌ％以上含んでなる原材料を供給源として、蒸着により基板上に蛍光体膜を形成したシンチレータプレートにおいて、該ヨウ化銅の蒸着が全蒸着膜厚の８０％終了以降に行われることを特徴とするシンチレータプレート。 （もっと読む）

ターゲット基材上に堆積される物質を加熱するための坩堝は、原料物質を含むように構成されている胴部、胴部の第１の端部に形成された基部、および胴部の第２の端部に形成された放出オリフィスを含む。坩堝は、加熱された原料物質が放出オリフィスを通って通過する前に、中間オリフィスを通過し、そして少なくとも１回坩堝胴部の内側表面に衝突するように、少なくとも配置されかつ構成されている１つの中間オリフィスをさらに含む。
（もっと読む）

【課題】分子線セル坩堝にパイロリティックカーボンを被覆することにより、耐久性等に優れた珪素用分子線セル坩堝を提供する。
【解決手段】珪素用分子線セル坩堝は、グラファイト製の外管１と、パイロリティックカーボン４が被覆されたグラファイト製の内管とから構成された二重管である。前記内管は、開口管の上部３と、片閉口管の下部２とから構成され、この下部２は、下部２の深さｄと内径Ｄ４の比が１以下であり、熱化学気相蒸着法によりパイロリティックカーボン４が被覆されている。 （もっと読む）

【課題】高表面積を有す製品を提供する。
【解決手段】基材と、その少なくとも１表面に存在し、最高約５０ミクロンの範囲で総厚を有し、複数の個別の隣接した層から成る多孔質皮膜であって、各個別の層を、多孔質界面を含めて多孔質とし、金属と金属酸化物から成る群から選択する少なくとも１物質から作製する多孔質皮膜と、を含む製品に関する。この製品を、金属を真空条件下で、選択的には酸化性雰囲気中で、所定の時間間隔を置いて蒸発させ、それにより所望の総厚の堆積を基材上に、複数の個別の隣接する層から成る皮膜として形成して、作製する。 （もっと読む）

【課題】シンチレータ材料として優れた物質であるＣｓＩをベースとしながら、放射線照射による発光の発光効率を向上させることで発光輝度を向上し、さらに、防湿バリア等を設置しなくとも耐湿性を向上したシンチレータプレートを提供することである。
【解決手段】ＣｓＩに対して、少なくともヨウ化タリウム及びヨウ化銅を含む２種以上の添加剤をそれぞれ０．０１ｍｏｌ％以上含んでなる原材料を、供給源として抵抗加熱ルツボ２３に充填し、蒸着により基板１上に蛍光体膜を形成したシンチレータプレートとする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、るつぼの開口部から溶湯があふれ出すのを抑制すると同時にるつぼ内部の温度を安定させることの可能な蒸着用るつぼとその製造方法を提供することを課題とする。また、るつぼが多層構造を有する場合、上記課題に加えてるつぼ内壁からるつぼ内層への溶湯の侵食を防ぐことのできる蒸着用るつぼとその製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】蒸着材料を納め加熱するための収容部と、気化した蒸着材料が蒸着対象へ放出されるための開口部とを備えたるつぼであって、前記るつぼの内壁はスパイラル状の凹凸を備えていることを特徴とする蒸着用るつぼとする。 （もっと読む）

【課題】 酸化物、窒化物、塩化物、フッ化物などの化合物の薄膜を分子線エピタキシー装置で作製する場合、気体材料がチャンバ内に雰囲気ガスとして残留し、他方の材料の分子線セルのるつぼに進入し、気体材料との化合物を作る。化合物になった分は材料の損失となる。材料損失が大きいと、原料の補填のためにたびたび超高真空チャンバを大気圧に戻さなければならず作業能率が悪くなる。
【解決手段】 るつぼ底部または上部に到るようにパージガス導入管を設け、パージガス導入管を通して、不活性ガスをるつぼ内へ吹き込み雰囲気ガスがるつぼ内の材料と接触しないように遮断する。 （もっと読む）

【課題】
簡単な構成で安定した蒸着を継続することができ、蒸着終了後のメンテナンスが容易に実施できる坩堝構造、及び蒸着方法を提供する。
【解決手段】
本発明による蒸着坩堝は、材料を充填する部分並びに当該材料の蒸発による蒸気圧を制御するオリフィス板で形成された蒸発室と、前記オリフィス板と蒸発された前記材料を蒸着坩堝の外側へ吐出する吐出板との間の空間に形成される圧力制御室とを備える。また、前記吐出板上に前記圧力制御室の外側に突き出る突起の上端に前記第２開口部を形成し、この突起部の側面にヒータを対向させ、且つこのヒータの上部で当該第２開口部よりも低い位置に断熱機構を設けてもよい。更に、前記蒸着坩堝には、前記圧力制御室の温度を、前記蒸発室の温度より高く保つように、互いに独立して温度設定が可能な蒸発室用ヒータと圧力制御室用ヒータとを設けた。 （もっと読む）

デバイスを製造する際に表面上に層を形成する方法であって、気化した材料を受け取る分配部材であって、チェンバーを規定する1つ以上の壁面を持ち、1つの壁面の中に複数の開口部からなる多角形二次元パターンが形成されていて、その開口部が気化した材料を分子流として上記表面上に供給する構成の分配部材を用意するステップと；開口部からなる多角形二次元パターンに少なくとも4つの頂部を設け、第1の開口部セット（80）をその頂部に配置し、縁部用の第2の開口部セット（78）を第1の開口部セットの2つの開口部の間に配置して多角形二次元パターンの縁部を規定し、内側用の第3の開口部セット（74）を、第1の開口部セットと第2の開口部セットによって規定される多角形二次元パターンの周辺部の中に配置するステップと；望む流速が得られるように開口部のサイズを決めるステップを含む方法。
（もっと読む）

【課題】蒸着装置および方法において、突沸により発生した物質を捕捉するとともに、十分な膜厚を安定して確保する。
【解決手段】蒸着材料５を加熱して、蒸発した該蒸着材料を基板３に蒸着させる蒸着装置１は、蒸着材料５を収容する本体１１と、蒸着材料５より上方に配置されて蒸着材料５の突沸により発生する物質を捕捉する捕捉部材１２とを有する蒸着ボート６と、蒸着ボート６を加熱する加熱手段７とを備える。蒸着の際に、捕捉部材１２の温度が、蒸着材料５の温度以上となるように構成する。 （もっと読む）

【課題】蒸着装置に用いる原料供給装置であって、蒸着装置の成膜速度の安定性が良好となる原料供給装置、および当該原料供給装置を有する蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着装置の処理容器に、原料を蒸発あるいは昇華させて供給する原料供給装置であって、内部に前記原料を保持する原料容器と、前記原料容器の内部にキャリアガスを供給するガス導入口と、前記キャリアガスと共に蒸発あるいは昇華した前記原料を、前記処理容器に供給するために排出するガス排出口と、を有し、前記原料容器の内部に前記キャリアガスの流れを制御するガス流制御部を設けたことを特徴とする原料供給装置。 （もっと読む）

【課題】スモーク色の見栄えを有する膜上に酸化膜のみが形成されている場合や、スモーク色の見栄えを有する膜上に保護膜のみが形成されている場合よりも、スモーク色の見栄えを有する膜の耐アルカリ性を飛躍的に向上させる。
【解決手段】スモーク色の見栄えを有する膜７を備えた部材において、スモーク色の見栄えを有する膜７として金属を含有するものを形成し、次いで、スモーク色の見栄えを有する膜７に含まれる金属であって、その膜７の表面に位置する金属を酸化させることにより、スモーク色の見栄えを有する膜７上に酸化膜８を形成し、次いで、酸化膜８上に保護膜９を形成した。 （もっと読む）

【課題】成膜速度の制御を精度良く行うことが可能であると共に、素子の量産が可能な高い再現性の成膜を可能とする成膜装置および成膜方法を実現する。
【解決手段】本発明のＭＢＥ装置１は、基板３４に向けて粒子線を照射する分子線源３１ａ・３１ｂと、分子線源３１ａ・３１ｂから照射された粒子線に含まれる粒子数を測定する原子吸光式成膜モニタ２４と、基板３４上に成膜された膜の物理的特性および／または化学的特性や自装置の状態の特性を検査・計測する第１〜第３検査装置４３ａ・４３ｂ・４３ｃと、分子線源３１ａ・３１ｂを制御する演算処理装置３９とを備えている。演算処理装置３９は、原子吸光式成膜モニタ２４の測定結果と、第１〜第３検査装置４３ａ・４３ｂ・４３ｃの検査結果および計測結果とに基づいて分子線源３１ａ・３１ｂを制御する。 （もっと読む）

【課題】 ハンダ膜の融解時間を短縮することにより、ハンダ工程の高速化を実現し、かつ半導体素子等に対する熱影響を確実に回避するとともに、融解温度及び融解時間の安定化による膜品質及び均質性の向上に貢献する。
【解決手段】 Ａｕ−Ｓｎ合金１０を基板２０に蒸着してハンダ膜１を形成するに際し、Ａｕ−Ｓｎ合金１０を構成するＡｕを５０〜８０〔重量％〕含むとともに、ＡｕとＳｎを二つの蒸発源３１ｘ，３１ｙからそれぞれ同時に蒸発させて蒸着を行うことによりＡｕ−Ｓｎ合金１０を形成し、Ａｕ−Ｓｎ合金１０を構成するＡｕとＳｎの結晶成分として、少なくとも、Ａｕ₅Ｓｎ，ＡｕＳｎ及びＡｕＳｎ₂を含有するハンダ膜１を形成する。 （もっと読む）

【課題】 複雑な蒸着パターンを形成可能で、蒸着パターンの精度を向上できる蒸着パターン形成方法及び蒸着パターン形成装置を実現する。
【解決手段】 蒸着パターン形成装置１０は、蒸着源基板１４の上面に収容部材１１を取り付けて構成される。蒸着源基板１４は、収容部材１１を加熱するためのヒータ１２を支持基板１３の上面に取り付けて構成される。収容部材１１の上面１１ｂには、半導体基板に形成する所定の蒸着パターンと対応した形状に開口した開口面１１ｄが形成されている。半導体基板３１の基板面３１ａを、収容部１１ａに金属ナノ粒子２１が収容された収容部材１１の開口面１１ｄに対向させて配置し、収容部材１１をヒータ１２により加熱すると、金属ナノ粒子２１は収容部１１ａの内部で蒸発し、開口面１１ｄを通じて基板面３１ａに蒸着され、所定の蒸着パターン３２が形成される。 （もっと読む）

【課題】膜厚均一性に優れた薄膜を蒸着法によって形成可能とする。
【解決手段】本発明の蒸発源ＥＢは、蒸着装置において蒸発材料ＥＭを蒸発させるのに使用する蒸発源であって、前記蒸発材料ＥＭが供給されるべき凹部ＲＳが上面に設けられると共に前記上面と下面とを連絡する貫通孔ＴＨが前記凹部ＲＳと隣り合って設けられた抵抗発熱体ＨＲを含んだことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】リーク電流が少ない、有機エレクトロルミネッセンス素子と、該素子を利用したＥＬパネルの製造方法を提供することが本発明の課題である。
【解決手段】基板上に、Ａ）第一の電極を成膜する工程と、Ｂ）該第一の電極上に発光層を含む一層以上の有機化合物薄膜層を積層する工程と、Ｃ）該有機化合物薄膜層上に第二の電極を積層する工程と、を少なくとも有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、工程Ｂ及びＣと、工程ＢとＣとの間と、工程Ｃ終了後、基板温度が室温となるまでの間と、における該基板温度が７０℃以下であり、かつ、温度変化速度の絶対値が１．５℃／ｓｅｃ以内である有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 （もっと読む）