【課題】互いに種類の異なる複数の蒸着源の相互間での汚染の発生を防止した、有機化合物の薄膜を形成するための真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】真空蒸着装置１００は、真空チャンバ１１０の底面壁上に、ルツボ１２１内に有機蒸着材料１２４が充填された第１の蒸着源１２０、およびルツボ１３１内に有機蒸着材料１３４が充填された第２の蒸着源１３０を収容した各防着容器１４０，１５０が配設され、モータ１６２が回転することで、一つのシャッタ１６０が、２個の第１の蒸着源１２０と第２の蒸着源１３０の内の一個の蒸着源を順次、開放し、基板ホルダ１７０に載置された多数の基板１０の表面に、有機蒸着材料１２４および有機蒸着材料１３４からなる有機薄膜を成膜する。 （もっと読む）

【課題】有機膜は苛酷な使用環境下では十分に機能せず、耐え切れないことがあるため、化学的侵食に対して強い膜が望まれている。
【解決手段】実質的には連続的な多孔質蒸着セラミック層で、セラミック層が少なくとも１種類の金属酸化物を含んでいて基材の平均孔幅がセラミック層の孔幅より大きく、あるいは多孔質基材１であって、同様のセラミック層を少なくとも２層を含んでいて、多孔質基材の少なくとも片面に配列し、この多孔質基材により担持されていて、連続するセラミック層２とセラミック層の間に蒸着金属層３が配列していて、この金属層の多孔度および（または）平均孔幅がセラミック層の多孔度および平均孔幅よりも小さい、基材の流体混合物の成分を分離するための複合膜。 （もっと読む）

【課題】 有機化合物を安定して保存できると共に、真空蒸着時に突沸現象の発生を抑えることができ、安定して薄膜を形成することができる真空蒸着用原料ユニット、真空蒸着用蒸発源および真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】薄膜原料を蒸発させて基材表面に薄膜を形成する真空蒸着装置または真空蒸着方法に用いられる薄膜原料が収納された略円筒アンプル形状の真空蒸着用原料ユニットであって、上記薄膜原料と共に、該薄膜原料が蒸発するときの突沸を抑制する突沸抑制部材が収納され、不活性ガスまたは乾燥空気と共に密閉封止されている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ＩＩＩ−Ｖ族窒化物半導体層の新規なエッチング方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ＩＩＩ−Ｖ族窒化物半導体層上に、エッチングマスクの少なくとも一部として、２価または３価の金属元素を含む金属フッ化物層を形成する工程と、この金属フッ化物層をウェットエッチングによりパターンニングする工程と、パターニングされた金属フッ化物層をマスクとして、前記ＩＩＩ−Ｖ族窒化物半導体層をドライエッチングする工程とを有することを特徴とするＩＩＩ−Ｖ族窒化物半導体層のエッチング方法。 （もっと読む）

【課題】放射線像変換パネルの製造において、輝尽性蛍光体層を形成した後の冷却を適正に行うことにより、後工程において別装置により熱処理を不要とした、ＰＳＬ感度等の輝尽発光特性が良好な輝尽性蛍光体層を有する放射線像変換パネルの製造方法、並びにこの方法により製造される優れた性能を有する放射線像変換パネルを提供すること。
【解決手段】気相堆積法による輝尽性蛍光体層の形成を終了した後、形成された輝尽性蛍光体層の温度が７０〜１５０℃の範囲において前記輝尽性蛍光体層の冷却速度を変更する過程を含み、冷却速度を変更する前は平均冷却速度０．５〜５℃／ｍｉｎで前記輝尽性蛍光体層の冷却を行い、冷却速度を変更した後は平均冷却速度０．０１〜１℃／ｍｉｎで前記輝尽性蛍光体層の冷却を行うことを特徴とする変換パネルの製造方法、並びにこの方法により製造された変換パネル。 （もっと読む）

【課題】マスクを用いた真空蒸着法によりアレイ基板上に薄膜パターンを形成した表示装置で輝点及び／又は滅点が発生するのを抑制する。
【解決手段】本発明の表示装置の製造装置は、真空チャンバＶＣと、真空チャンバＶＣ内でアレイ基板ＡＳを保持する基板ホルダＨＬＤ２と、真空チャンバＶＣ内でアレイ基板ＡＳの下面と向き合うようにマスクＭＳＫを保持するマスクホルダＨＬＤ２と、真空チャンバＶＣＸ内であってマスクＭＳＫの下方に配置される坩堝が収容する蒸発材料を加熱して気化させるヒータと、アレイ基板ＡＳ及び／又はマスクＭＳＫの電位を測定する電位計ＳＮＳ２と、電位計ＳＮＳ２の出力に基づいてアレイ基板ＡＳとマスクＭＳＫとの電位差を小さくする電位制御を行うコントローラＣＮＴとを具備する。 （もっと読む）

【課題】メンテナンスが簡単な蒸着装置を提供することを目的とする。また、蒸着材料の電極への付着を防止する電極カバーを提供することを目的とする。
【解決手段】蒸着室と、被処理物を保持する保持部と、蒸発源と、電極と、電極カバーと、電源と有し、蒸着室は、上方に保持部を有し、下方に蒸発源と電極と電極カバーとを有し、電極カバーは、電極の露出面の少なくとも一部を覆っており、電極と前記電源とは電気的に接続されており、蒸発源と電源とは電気的に接続されており、抵抗加熱によって、蒸発源が加熱され、蒸発源に保持された材料が、前記蒸発源の上方に保持された被処理物に成膜される蒸着装置および蒸着装置に用いられる電極カバーを提供する。 （もっと読む）

【課題】気相堆積法による蛍光体層を有する放射線画像変換パネルであって、蛍光体層の密着性が良好な放射線画像変換パネルを提供する。
【解決手段】蛍光体層１４が、球状結晶層２４と、その上の複数の球状結晶が融着した塊からなるドメイン層２６と、その上の柱状結晶層２８とを有する。ドメイン層２６は、複数の球状結晶が厚さ方向のみならず面方向にも融着してなる塊が凝集している。小さな歪力は球状結晶層２４で緩和し、剪断力のような大きい歪力はドメイン層２６で緩和する。 （もっと読む）

【課題】 複数のルツボを利用した有機発光素子薄膜製作のための線形蒸発源を提供する。
【解決手段】 上面は開放されており、長い筒状に形成されるハウジングと、上面は開放されており、内部に蒸着用物質を入れるものであり、ハウジングに挿入される複数のルツボと、前記ルツボを加熱する加熱装置と、を備え、ルツボで蒸発された蒸着用物質がルツボの開口から広がる高さの各々異なる有機発光素子薄膜製作のための線形蒸発源。 （もっと読む）

【課題】点欠陥などの発生を抑制し、欠陥が少ない高品位な画像が得られる放射線像変換パネルを製造することができる気相堆積膜の製造方法および気相堆積膜の製造装置並びに放射線像変換パネルの製造方法を提供すること。
【解決手段】真空時蒸着装置の真空チャンバ内に基板がセットされた状態で、前記真空チャンバ内を真空に排気した後に、蒸着前の前記基板の表面状態を確認する工程と、前記基板表面に蛍光体層を形成する工程とを有することを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法。ここで、前記基板の表面状態を確認する工程は表面状態検査手段により行われることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】真空蒸着によって蛍光体層を形成する蛍光体パネルの製造において、蛍光体層に含まれる不純物を低減することができ、蛍光体層中の不純物に起因する輝度劣化の無い、高輝度で高性能な蛍光体パネルを安定して製造することができる蛍光体パネルの製造方法を提供することにある。
【解決手段】抵抗加熱による真空蒸着によって基板に蛍光体層を形成する蛍光体パネルの製造において、蒸着源としてタンタル製のルツボを用い、前記ルツボへの印加電圧を２．５Ｖ以下として、前記蛍光体層を成膜することにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】プールカラー具現のために基板上に有機薄膜を形成する時に、バッチタイプで基板装着後、ポンピング、蒸着及び基板取出しを一ラインで連続的に遂行することで、蒸着物質の加熱及び昇温にかかる時間を最小化することができる薄膜蒸着装置及びこれを利用した薄膜蒸着方法を提供する。
【解決手段】内部を真空で維持させるポンプ部を具備して、基板上に蒸着物質を蒸着する工程を遂行する少なくとも一つのチャンバと、前記チャンバ内部に蒸着物質が蒸着される前記基板及びマスクを支持する基板ホルダーと、前記チャンバ内部に前記基板と対向するように設置されて、少なくとも一つの蒸着物質を収納・加熱して蒸発させる多重蒸着物質るつぼと、前記蒸着物質の中で選択されるいずれか一つを局所的に加熱する加熱部とを具備する蒸発源と、前記チャンバを少なくとも一つのチャンバ安着位置に順次移動させるチャンバ移動手段と、を含む。 （もっと読む）

【課題】大型の基板上への蒸着膜の成膜を、基板面内での膜厚分布の均一性を保ちつつ、長時間にわたって安定して行えるようにする。
【解決手段】真空蒸着チャンバー１内において、基板２に対して直線移動する第１の蒸着源３および第２の蒸着源４より有機ＥＬ材料を蒸発させて蒸着膜を成膜する。各蒸着源は蒸発材料を放出する微小面積の開口を有しており、各蒸着源毎に蒸発速度を検知する。そして検知された蒸発速度に基いて、基板への蒸着膜の堆積速度が一定になるように各蒸着源の直線移動の速度制御を個別に行う。例えば蒸発速度が低減した場合には直線移動速度を遅く、蒸発速度が増大した場合には直線移動速度を速くすることで堆積速度を一定に保つ。これにより膜厚分布の均一性が向上する。 （もっと読む）

【課題】必要な蒸発流の指向性を得られる真空蒸着用ルツボ、および、これを用いて層厚均一性の高い蒸着層を形成できる真空蒸着を家を提供する。
【解決手段】ルツボ本体から突出する筒状の蒸気排出口を有し、この蒸気排出口の側面が、蒸気排出方向に広がるように少なくとも一方向に傾斜しているルツボにより、および、前記ルツボを一方向に配列すると共に、この配列方向と直交する方向に基板を往復搬送し、かつ、ルツボの蒸気排出口がルツボの配列方向に傾斜することにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】 本発明はメタライズされたウェブ（３）、特にホイルキャパシタのためのメタライズされたプラスチックェブを生成するためのプロセス及びデバイスに関する。
【解決手段】金属層（１７）は蒸気若しくはガス層により堆積され、前記金属層の堆積の前に、プラズマにより活性化された蒸気又はガス層による金属シード層の堆積が生じ、その厚さは数個の原子の層の範囲のものである。さらに、本発明は金属層とプラスチックホイルとの間に数個の原子の層の厚さのシード層を伴ったプラスチックホイルに関する。 （もっと読む）

第１および第２の別個に蒸発した材料を混合して基板表面に堆積させて層を形成する方法である。この方法では、第１の材料が金属を含み、第２の材料は非金属であり、蒸発した材料が基板表面上に供給可能になるように配設された混合マニホールドを提供すること；第１および第２の材料を別個に蒸発させる第１および第２の加熱素子を提供し、蒸発した材料が混合マニホールド内に供給可能になるように加熱素子を配設すること；および、第１および第２の材料を制御された速度で計量して第１および第２の加熱素子にそれぞれ供給し、金属を含んだ蒸発した材料を混合マニホールドに供給し、ここで第１および第２の材料を混合した後、基板表面に堆積させて、金属を含んだ層を形成することを含む。
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【課題】表面粗さが非常に小さく、しかも結晶の配向性がきわめて良好な単結晶質であり、光学特性に優れた緻密な金属膜および金属膜被覆部材、さらに光学被膜を提供する。
【解決手段】表面の算術平均粗さが２ｎｍ以下であり、かつＸ線回折による（１１１）ピーク強度がその他のピーク強度の合計の２０倍以上である金属膜、およびこの金属膜が基材に形成された金属膜被覆部材である。光学被膜は金属膜からなり、可視光領域での反射率の純金属における理論値との差が０．２％以内であり、光の入射角が１０〜５０°の範囲において反射率の変化量が０．５％以下であるか、光波長が２５０〜４００ｎｍでの反射率の純金属における理論値との差が０．２％以内である。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも部分的に防食加工され、特に光沢のある、金属及び／又は非金属支持体の製造方法であって、ａ）支持体に、少なくとも部分的に被覆され得る少なくとも１つの面を設ける段階と、ｂ）第１の金属、第１の貴金属又は第１の金属合金を含む少なくとも１層の金属保護層と、第２の金属、第２の貴金属及び／又は第２の金属合金の少なくとも１種の酸、酸化物、複酸化物、酸化物水和物、硫化物、ハロゲン化物、窒化物、炭化物、窒化炭素、ホウ化物、ケイ化物、オキシハロゲン化物及び／又は塩と、を付与する段階と、を含む製造方法に関する。更に本発明は、少なくとも部分的に防食加工され、特に、光沢の在る支持体であって、支持体と、第１の金属、第１の貴金属又は第１の金属合金及び第２の金属、第２の貴金属及び／又は第２の金属合金の少なくとも１種の酸、酸化物、複酸化物、酸化物水和物、硫化物、ハロゲン化物、窒化物、炭化物、窒化炭素、ホウ化物、ケイ化物、オキシハロゲン化物、特にオキシフッ化物及び／又は塩を含む少なくとも１層の金属保護層と、を含む支持体に関する。 （もっと読む）

【課題】蒸着源のスプラッシュを低減し、安定した蒸着速度でかつ蒸着速度の速い蒸着を行う。
【解決手段】ルツボ１内に複数のドーナツ型平板２を上下に積み重ねて、各ドーナツ型平板２上に蒸着材料３を薄く載置する。ルツボ１を囲むヒーター１２の加熱により各段のドーナツ型平板２上の蒸着材料３から発生する蒸気を、各段の流動スペースＡを経て上下方向の流動路Ｂに流動させ、その上端の開口部１０ａから被蒸着基板に向かって放出する。流動スペースＡのコンダクタンスは流動路Ｂのコンダクタンスよりも小さい。 （もっと読む）

【課題】離型性と耐久性が高いコーティング膜を提供する
【解決手段】成膜対象物４ａ、４ｂの表面にクロムを注入し、クロム膜を形成した後、クロム膜の表面に白金イオンを注入し、その表面に白金薄膜を形成し、その表面に白金イオンを注入する。本発明ではクロムイオンと白金イオンの注入は、トリガ電圧によって注入装置３２₁、３２₂内でトリガ放電を発生させ、アーク放電を誘起させ、カソード電極からクロムや白金のイオンを放出させると共に、成膜対象物４ａ、４ｂにはアーク放電と同期して負のバイアス電圧をパルス的に印加する。注入層と薄膜との間の密着性が向上する。 （もっと読む）