【課題】無溶媒で均質なフッ素系高分子薄膜およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 基材表面に、フッ素系モノマーと架橋剤とを真空蒸着させてなるフッ素系高分子薄膜である。フッ素系モノマーと架橋剤を同時に蒸発させ、両者あるいはその一方の蒸気に電子線あるいは紫外線を照射し、前記フッ素系モノマーと架橋剤を同時に基板表面に堆積させて形成することができる。また、フッ素系高分子薄膜はフッ素系モノマーを２個または３個のアクリル基を有する化合物で架橋結合してなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】蒸着装置の大型化を回避することができ、かつ、蒸着量の調節が容易な坩堝、蒸着装置及び有機ＥＬ装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】１つの坩堝５に蒸発材料を収容可能な複数の収容部５ｄ、５ｅが設けられているので、複数種類の蒸着材料を用いる場合であっても坩堝５を２つ以上設ける必要は無い。このため、２つ以上の坩堝を収容する大型の容器は必要なくなる。また、収容部５ｄ及び収容部５ｅの平面視での開口面積が互いに異なっていることとしたので、複数種類の蒸発材料のそれぞれについて蒸発量の調節が容易になる。これにより、蒸着装置の大型化を回避することができ、かつ、蒸着量の調節が容易な坩堝を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】垂直気化の場合にも、安定して材料が気化するるつぼを提供する。
【解決手段】気化るつぼ１００は、電気伝導性本体１２０およびカバー１５０を含み、上記本体は、上記本体に加熱電流を付加するための第１電気接続部１６２と第２電気接続部１６４を有し、上記本体は、溶解／気化範囲を提供するチャンバを含み、上記チャンバはチャンバ底部とチャンバ壁を含み、上記カバーは上記チャンバと共に囲いを形成し、上記気化るつぼはさらに、材料を供給するための供給開口と、上記囲いの蒸気出口を提供するディストリビュータオリフィス１７０とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板に対する均一な薄膜の形成と蒸着材料の利用効率の向上とを容易に図ることができる蒸着技術を提供する。
【解決手段】蒸着用坩堝１０であって、底部１１と、側壁部１２３と、該底部１１および該側壁部１２３の内面によって囲まれ且つ所定軸に沿って形成された孔部Ｃｖとを備え、孔部Ｃｖが、底部１１とは反対側に位置する開口部ＯＰと、該孔部Ｃｖの所定軸（例えば軸Ｐ）に対して垂直な面における断面積が底部１１側から開口部ＯＰ側にかけて略一定である第１の領域（例えば下部孔領域１２ａ）と、該孔部Ｃｖの所定軸（例えば軸Ｐ）に対して垂直な面における断面積が底部１１側から開口部ＯＰ側に近づくにつれて増大する第２の領域（例えば上部孔領域１３ａ）とを有する。 （もっと読む）

【課題】外部応力のバリア層への伝播を緩和し、環境変化による圧縮／膨張応力によっても性能が劣化しない透明なガスバリア積層体を提供すること。
【解決手段】本発明のガスバリア積層体は、無機フィラーを５〜６０重量％含むプラスチック基材１の少なくとも一方の面に、透明プライマー層２、厚さ５〜３００ｎｍである無機蒸着層３と、複合皮膜層４．無機フィラーを５〜６０重量％含む応力緩和層５とを順次積層してなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】蒸着装置の大型化を回避することができ、かつ、蒸着量の調節が容易な坩堝、蒸着装置及び有機ＥＬ装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】１つの坩堝５に異なる蒸発材料を収容可能な複数の収容部５ｄ、５ｅが設けられているので、複数種類の蒸着材料を用いる場合であっても坩堝５を２つ以上設ける必要は無い。このため、２つ以上の坩堝を収容する大型の容器は必要なくなる。また、開口部分７又は開口部分８の少なくとも一部を遮蔽可能であると共に、遮蔽する面積を調節可能なシャッタ部材９が当該開口部分７、８に設けられていることとしたので、複数種類の蒸着材料のそれぞれについて蒸発量の調節が容易になる。これにより、蒸着装置の大型化を回避することができ、かつ、蒸着量の調節が容易な坩堝を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】長穴形状のマスク開口部を複数、梁部を間に挟んで並列させた場合でも、梁部の側面同士の貼り付きを防止することのできる成膜用マスク部材および該成膜用マスク部材の製造方法を提供すること。
【解決手段】成膜用マスク部材１０は、ベース基板をなす矩形の支持基板３０に、チップ２０を複数、取り付けた構成を有しており、チップ２０には、成膜パターンに対応する長孔形状のマスク開口部２２が複数一定間隔で平行に並列した状態で形成されている。チップ２０において、マスク開口部２２で挟まれた梁部２７の側面２７ａには、微小な凸部２８が形成されている。このため、チップ２０の製造工程などにおいて洗浄、乾燥を行なった場合でも、梁部２７の側面２７ａ同士が貼り付いて剥がれなくなるという事態を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】プラズマＣＶＤによる成膜と、蒸発源を用いる成膜とを、成膜空間を大気圧に開放することなく、連続して行うことのできる成膜装置を提供する。
【解決手段】蒸発材料８ａが充填される坩堝８ｂの開口には、開閉可能な遮蔽部材８ｃが配置され、遮蔽部材８ｃは、プラズマ源２の陽極を兼用する。これにより、プラズマＣＶＤ工程では、陽極を兼用する遮蔽部材８ｃによって蒸発材料８ａを遮蔽することができるため、蒸発材料８ａに膜が付着しない。また、遮蔽部材８ｃを陽極とすることにより、遮蔽部材８ｃがプラズマの放電に影響を与えない。また、遮蔽部材８ｃを開放し、蒸発材料８ａを蒸発させて蒸着工程を行うことができる。遮蔽部材８ｃがプラズマ５ａで加熱されるため、遮蔽部材８ｃの内側に付着する蒸発物を蒸発させて除去することも可能である。 （もっと読む）

【課題】セルシャッタに蒸着材料が分厚く堆積することを防止することにより、セルシャッタからの蒸着材料の剥離を防止することのできる蒸着装置を提供すること。
【解決手段】真空蒸着装置１００は、蒸着材料の蒸気流を放出する開口部１２ａを備えた蒸着源１２と、開口部１２ａを上方で覆って蒸気流の被処理基板２０への供給を停止する遮断面１５４を備えたセルシャッタ１５と、セルシャッタ１５が開口部１２ａを開閉するようにセルシャッタ１５を駆動するセルシャッタ駆動装置とを有している。シャッタ板１５３は、下方に向けて開口する半球状に形成され、遮断面１５４は、被処理基板２０側に向けて凹む凹球面になっている。従って、同一体積の蒸着材料が堆積した場合でも、遮断面１５４への蒸着材料の堆積層１７の厚さが薄く、堆積層１７が剥離しにくい。 （もっと読む）

【課題】被処理基板に薄膜を形成した後、被処理基板に成膜用マスク部材を接触する状態で重ねて成膜した場合でも、先に形成した薄膜の損傷や剥離に起因する不具合が発生することのない成膜用マスク部材、成膜用マスク部材の製造方法、マスク成膜方法、および成膜装置を提供すること。
【解決手段】マスク蒸着用の成膜用マスク部材１０を製造する際、支持基板３０に接合されたチップ２０の基板接触面２０ａにプラズマを照射する。その際、導入ガスとしてフッ素系ガスを用いることにより、チップ２０の基板接触面２０ａには撥水性が高いフッ素系重合膜が形成され、基板接触面２０ａの水に対する接触角が１００°以上になる。従って、成膜用マスク部材１０の基板接触面２０ａを被処理基板に対して重ね、この状態で蒸着を行った後、被処理基板から外しても、先に形成された薄膜に剥離などが発生しない。 （もっと読む）

【課題】被処理基板以外に堆積する蒸着材料を減らすとともに、被処理基板以外に堆積した蒸着材料を容易に回収、再利用することのできる蒸着装置および蒸着方法を提供すること。
【解決手段】真空蒸着装置１００では、蒸着源１２における蒸気出口１２ａの開口方向の周りを囲む遮断壁１７１、およびこの遮断壁１７１において蒸気出口１２ａと対向する位置で開口する貫通穴からなる蒸気流放出口１７０を備えた蒸着材料回収具１７を蒸気出口１２ａを覆うように配置した状態で蒸着を行う。遮断壁１７１の内面は凹球面になっており、その天頂部に蒸気流放出口１７０が形成されている。真空蒸着後、蒸着材料回収具１７を蒸着室１１から外部に取り出して、遮断壁１７１に堆積している蒸着材料を回収し、再利用する。 （もっと読む）

【課題】ライン型の蒸着源を用いた蒸着成膜において、成膜の進行状態によらずに蒸着源のライン方向における蒸着膜厚の分布をより均一にすることが可能な蒸着成膜装置および蒸着成膜方法を提供する。
【解決手段】蒸着材料が充填されるライン状のルツボ１２と、ルツボ１２を加熱する熱源１４と、ルツボ１２の上方に配置されライン状に沿って複数の開口１１が設けられた天面板１３ａとを備えた蒸着源１０を有し、成膜対象となる基板を蒸着源１０の上方に対向配置した状態でライン状の延設方向と直交する方向に相対的に移動させて基板上に蒸着膜が成膜されるように構成された蒸着成膜装置において、ルツボ１２は、熱源１４での加熱によってルツボ１２から蒸着材料ｍを蒸発させる場合に、ルツボ１２内に充填された蒸着材料ｍがライン状の延設方向で均等に消費されるように、仕切り板１２ａによって仕切られている。 （もっと読む）

【課題】銅系金属層の密着性に優れ、微細エッチングが可能で、信頼性の高いフレキシブル回路基板を提供する。
【解決手段】樹脂フィルム１の表面に、シリコンに対して窒素が当量で０．５〜１．３３含まれるスパッタ法による窒化シリコン層２を形成し、さらに銅系金属層３を形成したことにより、銅系金属層３の密着性が良好となる。さらに、上記窒化シリコン層２は絶縁物であることからエッチングの必要が無く、銅系金属層だけをエッチングすればよいため、サイドエッチングがあまり起こらずに微細エッチングが可能となる。しかも、高温下で仮に樹脂フィルム１側からの水分や酸素が浸透したとしても窒化シリコン層２によってブロックされ、銅系金属層３の酸化や密着力の低下が生じず、信頼性にも優れたフレキシブル回路基板６となる。 （もっと読む）

【課題】蒸着材料蒸発装置による複数の蒸着材料からなる化合物の層の成膜において、均一な成分比を有する蒸着膜を形成する。
【解決手段】蒸着材料を加熱して蒸発させる蒸着材料蒸発装置において、異なる蒸着材料14、15をそれぞれ収容する複数の蒸着容器11a、11bと、これらの蒸着容器11a、11bに収容された蒸着材料14、15を加熱する加熱手段16と、この複数の蒸着容器11a、11b内で蒸発した蒸着材料14、15が共に通過して出て行く共通開口13とを備える。 （もっと読む）

【課題】蒸着装置により基板上に蛍光体層を蒸着する際に、蒸着時の輻射熱で薄い基板が変形し、蒸着膜が均一に堆積できないという問題がある。これに対して、基板を厚くすると、放射線の吸収が大きくなる等の問題がある。
【解決手段】基板に放射線が照射されることにより光を発する蛍光体層を有する放射線用シンチレータプレートの製造方法であって、基板の面上に蛍光体層を形成した後、基板の裏面側をエッチングして、基板の厚さを０．５ｍｍ以下の厚さに作製する放射線用シンチレータプレートの製造方法。 （もっと読む）

【課題】クロスコンタミネーションを低減させながら、同一処理容器内にて複数層の膜を連続的に形成する。
【解決手段】蒸着装置１０は、収納された異なる成膜材料をそれぞれ気化させる複数の蒸着源２１０と、複数の蒸着源２１０にて気化された成膜材料を吹き出し口Ｏｐから吹き出す複数の吹き出し機構１１０と、隣り合う吹き出し機構１１０を仕切る１または２以上の隔壁１２０と、有している。１または２以上の隔壁１２０は、各隔壁１２０から基板ＷまでのギャップＧ、各吹き出し口Ｏｐから各隔壁１２０の上面までの高さＴ、各隔壁の厚みＤおよび各蒸着源２１０の中心位置から各隔壁１２０の中心位置までの距離Ｅの関係が、Ｅ＜（Ｇ＋Ｔ）×Ｄ×Ｇ／２となるようにそれぞれ配設される。また、成膜材料の最長飛距離は、成膜材料の平均自由工程よりも短くなるように蒸着装置１０の内部圧力を０．０１Ｐａ以下に制御する。 （もっと読む）

【課題】長穴形状のマスク開口部を複数、梁部を間に挟んで並列させた場合でも、梁部の側面同士の貼りつきを防止することのできる蒸着用マスクおよび該蒸着用マスクの製造方法を提供すること。
【解決手段】蒸着用マスク１０は、ベース基板をなす矩形の支持基板３０に、複数のチップ２０を複数、取り付けた構成を有しており、チップ２０には、成膜パターンに対応する長孔形状のマスク開口部２２が複数一定間隔で平行に並列した状態で形成されている。チップ２０において、マスク開口部２２で挟まれた梁部２７の側面２７ａには、微細な凹凸２７ｂが形成されている。このため、チップ２０の製造過程で乾燥工程を行なった際、梁部２７の側面２７ａ同士が貼り付いて剥がれなくなる事態を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】蛍光体層と基板とを隔離するパリレン膜を有することにより、蛍光体層による基板の腐食を防止すると共に、パリレン膜の密着性が高く、かつ、パリレン膜の形成に先立つ処理に起因する点欠陥等の画質劣化を防止できる放射線画像変換パネルを提供する。
【解決手段】基板の洗浄をケイ酸塩を含有する洗浄剤で行い、パリレン膜の密着性を向上するためのプライマとして、トリメトキシシリルプロピルメタクリレートを用いることにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】高い感度を維持しながら、鮮鋭度の向上した放射線画像を形成するシンチレータパネルを提供すること。
【解決手段】基板上に蒸着により形成された蛍光体層を少なくとも有するシンチレータシート、該シンチレータシートを被覆する保護フィルムよりなるシンチレータパネルにおいて、該保護フィルムが蛍光体層からの発光光を吸収するように着色された発光光吸収層を有することを特徴とするシンチレータパネル。 （もっと読む）

【課題】蒸気流の放出の開始時および終了時の切り換えを短時間に行なうことができ、かつ、蒸着材料の無駄な消費を抑えることができる蒸着用蒸気流放出装置、および蒸着装置を提供すること。
【解決手段】蒸着用蒸気放出装置１２Ａにおいて、加熱容器４１は、容器本体４２と蓋部材４３とから構成され、蓋部材４３の上底部４３ｂの一部には蒸気出口４３ａが形成されているが、成膜停止時、蒸気出口４３ａは閉塞部材４５によって塞がれた閉状態にある。この状態から、閉塞部材４５を回転させると、閉塞部材４５の蒸気入口４５ｄが蒸気出口４３ａと重なり、蒸気出口４３ａは、蒸気入口４５ｄおよび閉塞部材４５の内部空間４５ｒを介して連通する開状態になり、蒸気流放出口４５ｅから蒸気流が放出される。 （もっと読む）