【課題】リーク電流が少ない、有機エレクトロルミネッセンス素子と、該素子を利用したＥＬパネルの製造方法を提供することが本発明の課題である。
【解決手段】基板上に、Ａ）第一の電極を成膜する工程と、Ｂ）該第一の電極上に発光層を含む一層以上の有機化合物薄膜層を積層する工程と、Ｃ）該有機化合物薄膜層上に第二の電極を積層する工程と、を少なくとも有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、工程Ｂ及びＣと、工程ＢとＣとの間と、工程Ｃ終了後、基板温度が室温となるまでの間と、における該基板温度が７０℃以下であり、かつ、温度変化速度の絶対値が１．５℃／ｓｅｃ以内である有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】微小領域に任意の形状でダイレクトにパターニングできる処理方法及び処理装置、並びにそれらにより作成された電子デバイスを提供すること。
【解決手段】第１の噴出口に反応性ガス及び蒸着物質が供給されつつ前記第１の噴出口の外周に設けられた第２の噴出口から不活性ガスを導入し、前記第１の噴出口の外周に設けられた電極に高周波電力を印加することで、前記第１の噴出口に対向して設けられた基板を処理する処理方法であって、前記蒸着物質は基板上に噴出されるとともにその一部は前記反応性ガスによってアッシング処理されることで解決できる。 （もっと読む）

【課題】ＰＬ用およびＥＬ用として高輝度、高効率な３元系硫化物蛍光体を得ることができる蛍光体の製造方法およびそれにより製造された蛍光体を提供する。
【解決手段】一般式（ＭＩ）（ＭII）_２Ｓ_４：Ｒｅ（但し、ＭＩ＝Ｂａ、Ｃａ、ＭｇまたはＳｒ：ＭII＝Ｇａ、ＩｎまたはＡｌ：Ｒｅ＝Ｅｕ^２＋、Ｅｕ^３＋、Ｃｅ^３＋またはＭｎ^２＋）で表される蛍光体の製造方法において、スパッタ法または電子線蒸着法または多源蒸着法を用いて蛍光体の薄膜を製造するにあたり、フラックス材料として硫化亜鉛を含むものを用いる。好適には、蛍光体がＢａＡｌ_２Ｓ_４：Ｅｕ^２＋で表される青色蛍光体の薄膜である。 （もっと読む）

【課題】広い面積の基板に有機物を均一に蒸着して高速に成膜させ、有機材料混合量の微細調整を可能とする。
【解決手段】気相有機物の蒸着装置は、母材１０を安着せしめる母材安着部１４０を備え、気相有機物を母材の安着部方向へ噴射する噴射部１１０と、保温ヒーター１３０を含んで構成される蒸着チェンバー１００と、気相有機物を運搬する運搬ガスが引き込まれるよう穴形状に形成された運搬ガス引込ホールと、有機物蒸気及び運搬ガスが引き出されうるよう穴形状に形成された気相有機物の引出ホールを備えており、有機物を貯蔵できるるつぼ２２０と、るつぼ内を加熱する有機物加熱ヒーターを内部に含む有機物チェンバー２００と、有機物チェンバー内に引き込まれる運搬ガス量と流速を制御する流量制御部４００と、有機物チェンバー内の気相有機物が噴射部に移動できる気相有機物の移送管２１０と、真空ポンプ１５０とを含んで構成される。 （もっと読む）

【解決手段】真空蒸着法により形成された薄膜であって、膜の密度が１．０５ｇ／ｃｍ^３以上である低分子有機材料からなる薄膜、該薄膜を作成可能な低分子有機材料、および該薄膜を含有してなる有機電界発光素子。
【効果】発光寿命が長く、耐久性に優れ、発光輝度が高い有機電界発光素子を提供することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】 蒸発面での溝形成の程度及びパターンを緩和することによって蒸着ボートの有効寿命をさらに延ばす。
【解決手段】 向上した有効寿命及び耐食性を有する金属蒸発用の耐火性容器であって、容器の蒸発面は底面に形成された複数の溝を有する。かかる溝は、１．２ｍｍ以上の深さ、１．７５ｍｍ以上の幅、又は隣接する溝間（又は隣接する溝の中心間）で２．２ｍｍ以上の間隔、或いはこれらの組合せを有している。 （もっと読む）

【課題】輝尽発光特性が良好で且つ画像の面内ムラを生じない放射線像変換パネルを効率良く製造する。
【解決手段】気相堆積法によって基板上に輝尽性蛍光体層を形成する放射線像変換パネルの製造方法において、基板上に輝尽性蛍光体層を形成した後、輝尽性蛍光体層を加熱する際に、基板面の輝尽性蛍光体層が形成された領域全体に亘って加熱プレートを接触させて加熱する。 （もっと読む）

【課題】結晶性が良好で、且つ、膜厚分布が均一である蛍光体層を形成することのできる真空蒸着方法を提供することにある。
【解決手段】真空蒸着室内に設けた蒸発部から蒸発させた成膜材料を前記蒸発部の上方を直線状に往復移動する被処理基板の表面に蒸着させる真空蒸着方法において、
前記成膜材料の蒸着は、０．１〜５Ｐａの圧力下で、下記の式（１）の条件を満たす位置に、前記蒸着部および前記往復移動の際の被処理基板の折返し位置を設けて行われることにより、前記課題を解決する。
０＜Ｌ_１／Ｌ_２＜１．２５ （１）
（式中Ｌ_１は、前記蒸発部の蒸発口が属する水平面から前記被処理基板までの垂直距離を示し、Ｌ_２は、前記折り返し位置に位置する被処理基板の前記蒸発部側の端部と前記蒸発部の蒸発口の前記被処理基板側の端部との水平距離を示す。） （もっと読む）

【課題】構造欠陥の発生が少ない蛍光体シートの製造方法を提供すること。
【解決手段】基板上への成膜材料の蒸着により所定の蛍光体膜を形成する蛍光体シートの製造方法であって、少なくとも、前記基板を製造装置上にセットした状態においては防塵用カバーを取り付けておき、前記成膜材料の蒸発開始後に前記防塵用カバーを取り外し、その後に前記基板の搬送を開始し、前記基板上に前記蛍光体膜を形成することを特徴とする蛍光体シートの製造方法。なお、蒸発開始前には、前記基板を前記成膜材料の蒸発源上方から退去させておくことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】つぼの中の薄膜素子材料の残量が減少しても、ニードルバルブにより分子線量を毎時一定に調整出来るようにする。
【解決手段】薄膜堆積用分子線源は、るつぼ３１、４１の中の薄膜素子材料ａ、ｂを加熱するためのヒータ３２、４２と、基板５１の成膜面へ向けて前記るつぼ３１、４１で発生した薄膜素子材料ａ、ｂの分子を放出する量を調節するバルブ３３、４３を備える。さらに、前記成膜面に向けて放出される分子線量を検知する膜厚計１６、２６で検知された分子線量情報を帰還して、サーボモータ３６、４６によりバルブ３３、４３の開度を調節する制御手段と、前記ヒータ３２、４２の加熱のための電力を供給する加熱電源と、前記分子線量情報とバルブ開度情報とから前記加熱電源の投入電力を調整する制御手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】 基板の表面に形成する薄膜に混入する還元作用を有するガスの量を抑制するとともに、基板の表面または基板の表面に形成する薄膜に与える損傷を抑制して基板の表面に結晶性の高い薄膜を形成することができる分子線エピタキシャル成長装置および分子線エピタキシャル成長方法を提供する。
【解決手段】 成長室１３の収容空間１２には、ウエハ１８を保持するマニピュレータ２１、分子線を発生する分子線源２２および液体窒素によって冷却されるシュラウド２３が設けられる。収容空間１２には、ウエハ１８が直接見込めない位置から、分子状態の水素ガスが導入される。収容空間１２に導入された水素ガスの分子は、シュラウド２３の表面に衝突しながら拡散する。収容空間１２に拡散された水素ガスを含む雰囲気において、分子線エピタキシャル成長を行い、ウエハ１８の表面に高品質な薄膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】構造欠陥の発生が少ない蛍光体シートの製造方法を提供すること。
【解決手段】基板上への成膜材料の蒸着により所定の蛍光体膜を形成する蛍光体シートの製造方法であって、前記基板を前記成膜材料の蒸発源上方から退去させておき、前記基板と前記成膜材料の蒸発源との間に設けられている開閉可能なシャッタを閉じた状態で前記成膜材料の蒸発を開始し、一定時間経過後に、前記シャッタを開き、その後に前記基板の搬送を開始し、前記基板上に前記蛍光体膜を形成することを特徴とする蛍光体シートの製造方法。 （もっと読む）

【課題】気化させる材料を保持するためのレセプタクルを有する気化装置を提供する。
【解決手段】この気化装置は、被覆するシートの特定の部分に油膜を付着させる。シートは、後の工程でアルミニウムまたは亜鉛で被覆される。油膜が存在する場所では、アルミニウムまたは亜鉛が付着しない。ロッドバルブに補助されることで、シートにオイルを正確に付着させることができる。このロッドバルブはステッピングモータによって駆動され、わずかな油気を放出する。 （もっと読む）

【課題】 樹脂基板と金属膜との密着力を充分に得ることのできる金属膜付基板の製造方法及び該方法を用いて得られる金属膜付基板を得ることを課題とする。
【解決手段】 基板上にクロムまたはクロム系合金からなる第１下地層を形成する第１ステップと、第１ステップにより形成された第１下地層の上に第２の下地層の形成後，第１及び第２下地層が形成された基板を酸素雰囲気中にてプラズマ処理する第２ステップと、第２ステップによりプラズマ処理された第２下地層の上に金属層を形成する第３ステップと、を有する。 （もっと読む）

【課題】放出される油気の量を設定可能な、基材にオイルを蒸着するための装置を提供する。
【解決手段】この構成は、オイルパンと、線状に配置された孔を有するカバーとを有する。このカバーの上に密封装置が載っており、この密封装置も開口部を有する。この密封装置によって、カバーの孔を開閉可能であり、全ての孔を同時に処理することができる。密封装置によって、極めて短時間に、異なる気化速度を設定することができる。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ装置に用いられる基板に蒸着材料を真空蒸着する坩堝において、蒸着材料を最大限使い切ることができる発明を提供する。
【解決手段】その長手方向が基板１０の一辺と略同じ長さを有する直方体の箱形であって、その内部に蒸着材料を貯留するための貯留部２４と、貯留部２４に貯留された蒸着材料を加熱する加熱手段と、貯留部２４の上面に配置され、加熱手段により加熱されて昇華した蒸着材料が出射する吹出口２８を備えた蓋体２６とを備え、貯留部２４が複数の区画壁３０により長手方向に沿って複数に区画され、区画壁３０は、蓋体２６と距離をおいて配され、かつ、長手方向の中央部に対し周辺部で高さが低くなるよう形成される。 （もっと読む）

【課題】真空蒸着装置において、膜厚の設計自由度を高めるとともに微調整を容易とし、かつ、膜厚設計用の可動部材の収納性を高める。
【解決手段】真空槽内に、基板の保持手段と蒸着源とを備える真空成膜装置において、さらに、基板の成膜面に蒸着源に対する遮蔽領域を形成する少なくとも１つの遮蔽部材、遮蔽部材の駆動源、および、駆動源の制御装置を備え、制御装置が、遮蔽部材が遮蔽領域を形成しない状態における基板の面内膜厚分布の実測値または計算値および基板の面内膜厚分布の目標値を予め記憶しておく記憶手段、並びに、記憶手段に入力された各値に基づいて、基板上の各点の位置に対応する成膜時間を算出し、成膜時間に基づいて駆動源の操作量を決定する演算手段からなり、駆動源がその操作量に基づいて遮蔽領域の位置を移動させて所望の面内膜厚分布を得るよう構成した。 （もっと読む）

【課題】 不純物を低減して、リン分子を分子線として照射することができる分子線源および分子線源使用方法を提供する
【解決手段】 充填空間１１に赤リン材料を充填し、充填空間１１と精製空間１２とを連通させた状態で、充填部２１を第１気化温度ｔ１ｇに加熱して充填空間１１に存在する赤リンを昇華して、精製空間１２に白リンを凝縮する。次に精製空間１２と貯留空間１３とを連通させた状態で、精製部２２を第１気化温度ｔ１ｇよりも低い第２気化温度ｔ２ｇに加熱して精製空間１２に存在する白リンを気化して、貯留空間１３に白リンを凝縮する。このようにして貯留空間１３に生成した白リンを分子線の照射材料として用いて、リン分子線を照射する。 （もっと読む）

【課題】フォトクロミック機能を有する塩化銀または塩化銀を主成分とする薄膜を、真空蒸着手法のみによって容易に形成できるようにする。
【解決手段】塩化銀または塩化銀を主成分とする蒸着材料を、１００℃以上の温度での複数段階の昇温加熱で熔解させて真空蒸着する。 （もっと読む）

【課題】カソードの抵抗を減少させることができると共に、素子の暗点不良を最小化することができる蒸発源及びこれを用いた真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】本発明は、蒸発源及びこれを用いた真空蒸着装置に関し、本発明は、薄膜材料が収容された空間部及び薄膜材料を外部に吐出する開口部を含むるつぼと；前記るつぼの空間部に位置し、１つ以上の孔を有するインナープレートと；前記るつぼの外周面に位置する加熱装置と；を備え、前記インナープレートは、多段に積層されることを特徴とする蒸発源及び真空蒸着装置を開示する。
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