Fターム[4K029DC28]の内容
物理蒸着 (93,067) | スパッタリング装置 (13,207) | スパッタ方式 (5,546) | 放電プラズマによるもの (2,861) | 電極配置 (228)
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Fターム[4K029DC28]に分類される特許
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ウルトラバリア膜の製造方法
本発明は、基板に積層膜を真空薄膜形成することによってウルトラバリア薄膜システムを製造する方法に関しており、積層膜は、平滑膜と透明セラミック膜からなる交互成膜システムとして形成されているが、少なくとも1つの平滑膜は、スパッタリングにより堆積された2つの透明セラミック膜間に含まれており、平滑膜の析出中、モノマーを真空化された成膜チャンバ内に入れ、該成膜チャンバ内でマグネトロンプラズマを作動する。 (もっと読む)
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