機能層を作成する方法において、基材がプロセスチャンバー内に導入される工程と、少なくとも１つのプラズマが、例えばプラズマカスケード発生源のような、少なくとも１つのプラズマ発生源（３）により発生される工程と、前記プラズマ（Ｐ）の影響下で、少なくとも１つの第１蒸着材料を前記基材（１）上に蒸着させる工程と、同時に、少なくとも１つの第２材料（６）が、第２の蒸着工程により前記基材に適用される工程と、を備えた方法である。本発明はまた、少なくとも１つのプラズマを発生させる、例えばプラズマカスケード発生源のような少なくとも１つのプラズマ発生源と、蒸着材料を各プラズマ内へ導入する手段と、前記プラズマ発生源と同時に、前記基材上に少なくとも１つの第２蒸着材料を蒸着するように配置された第２蒸着発生源（６）と、を備えた装置である。
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高いガスバリア性能を持ち、環境耐久性に優れ、かつ曲げてもそのバリア性能が劣化しない透明ハイバリアフィルムが生産性良く提供される。基材の製造方法として、支持体上に少なくとも有機層および無機層を有する基材の製造方法において、前記無機層が、大気圧又はその近傍の圧力下、放電空間に薄膜形成ガスを含有するガスを供給し前記放電空間に高周波電界を印加し前記ガスを励起し基材を励起した前記ガスに晒すことで形成され、前記高周波電界は、第１の高周波電界および第２の高周波電界を重畳したものであり、前記第１の高周波電界の周波数ω１より前記第２の高周波電界の周波数ω２が高く、前記第１の高周波電界の強さＶ_１、前記第２の高周波電界の強さＶ_２と放電開始電界の強さＩＶとがＶ_１≧ＩＶ＞Ｖ_２またはＶ_１＞ＩＶ≧Ｖ_２を満たし、前記第２の高周波電界の出力密度が１Ｗ／ｃｍ^２以上であることを特徴とする基材の製造方法である。 （もっと読む）

本発明は、低温プロセスを用いてｈｉｇｈ−ｋ誘電体膜内に窒素の取り込み（例えば窒化物形成）を促進する。更に、本発明は、原位置法、すなわちｈｉｇｈ−ｋ誘電体膜の形成及び膜の窒化物形成が従来の後処理技術とは対照的に膜の堆積中に同じプロセスチャンバ内で実施される方法を提供する。別の態様では、半導体デバイス内のゲート誘電体層として用いるための多層材料の堆積方法が提供される。 （もっと読む）

差動装置（１０）の耐久性を改良するための方法であって、作動装置（１０）は、ピニオンシャフト（１２）と、ピニオン（１３）の内径の表面と接触するピニオン（１２ａ）とを有する。本方法は、ピニオンシャフト（１２）又はピニオン（１３）又は両方の表面の、ピニオンシャフト（１２）とピニオン（１３）との間の接触面に、ピニオン（１３）の材料と接触する際にピニオンシャフト（１２）の材料より低い摩擦係数及び高い焼き付き抵抗を有するコーティングＣを結合すること、を備える。

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【課題】 基板上に材料を堆積させる方法を提供することである。
【解決手段】 プラズマ増強化学蒸着プロセスを使用して基板上に調整可能な光学的およびエッチング耐性特性を有するＴＥＲＡ膜を堆積させるための方法および装置であって、ＴＥＲＡ膜の堆積の少なくとも一部に対して、プラズマ増強化学蒸着プロセスは、フォトレジストを有する反応を低下させるプリカーサを使用する。この装置は、第１のＲＦ電源に結合された上部電極および第２のＲＦ電源に結合された基板ホルダを有するチャンバと、複数のプロセスおよびプリカーサガスを供給するシャワーヘッドとを含む。 （もっと読む）

本発明の実施形態は、半導体処理システム（３２０）の前駆物質を生成する装置に関する。装置は、側壁（４０２）、上部、底部を有するキャニスタ（３００）を含んでいる。キャニスタ（３００）は、上の領域（４１８）と下の領域（４３４）を有する内容積（４３８）を画成している。一実施形態においては、装置は、更に、キャニスタ（３００）を部分的に取り囲んでいるヒータ（４３０）を含んでいる。ヒータ（４３０）によって、上の領域（４１８）と下の領域（４３４）間に温度勾配が生じる。また、精製ペンタキス(ジメチルアミド)タンタルから原子層堆積によってバリヤ層、例えば、窒化タンタルバリヤ層を形成する方法も特許請求される。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板上に透明電極を形成しても、ガラス基板が高い衝撃強度と優れた切断性を有する太陽電池基板の製造方法を提供する。
【解決手段】アモルファスシリコン太陽電池に使用される透明電極を備えた太陽電池基板の製造方法において、４８０℃〜５７０℃の温度に加熱したガラス基板上に透明電極膜を製膜する製膜工程と、製膜した該基板を２０℃／分以下の冷却速度で該温度から少なくとも４５０℃まで冷却する冷却工程とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 従来に比べて切削時の耐摩耗性、耐衝撃性などの耐久特性を顕著に改善したジルコニクム化合物膜被覆工具およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 基体表面にジルコニウムを必ず含む周期律表のIVａ、Vａ、VIａ族金属の一種または二種以上からなる炭化物、窒化物、炭窒化物、炭酸化物、窒酸化物、炭窒酸化物のいずれか一種の単層皮膜または二種以上の多層皮膜からなるジルコニウム化合物膜、並びに少なくとも一層の酸化アルミニウム膜を被覆してなるジルコニウム化合物膜被覆工具であって、刃先部の最外層が酸化アルミニウム膜で構成され、刃先部以外の最外層がジルコニウム化合物膜で構成されていることを特徴とするジルコニウム化合物膜被覆工具。 （もっと読む）

【課題】 硬質被覆層がすぐれた初期なじみ性を発揮する表面被覆超硬合金製切削チップを提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削チップが、ＷＣ基超硬合金基体の表面に、（ａ）１．５〜２０μｍの平均層厚を有し、かつＴｉＣ層、ＴｉＮ層、ＴｉＣＮ層、Ｔｉ₂ Ｏ₃ 層、ＴｉＣＯ層、ＴｉＮＯ層、およびＴｉＣＮＯ層のうちの１種または２種以上からなるＴｉ化合物層の内層と、（ｂ）１〜２０μｍの平均層を有し、かつ表面側に、表面から前記１〜２０μｍの平均層厚の１０〜４０％に相当する深さに亘って、Ａｌ₂ Ｏ₃ の素地に、Ａｌ₂ Ｏ₃ との合量に占める割合で、１〜１５重量％のＺｒＯ₂ と同じく１〜１５重量％の遊離炭素（ただし、ＺｒＯ₂ と遊離炭素の合量で２０重量％以下）が分散分布した組織を有する靭性化潤滑化帯域が存在し、残りの基体側が実質的にＡｌ₂ Ｏ₃ からなる外層と、（ｃ）必要に応じて０．１〜５μｍの平均層厚を有するＴｉＮ層の最外層と、で構成された硬質被覆層を３〜３５μｍの全体平均層厚で化学蒸着および／または物理蒸着してなる。 （もっと読む）

プラスチック基板と選択不飽和を有するプラズマ重合したシクロシロキサンの結合層とからなる物品及びその形成方法。 （もっと読む）