【課題】
【解決手段】試料の画像を、試料が欠陥を含むかを判断するために分析する画像処理システムを開示する。システムは、試料からの画像データを受領し、試料が欠陥を有するかを判断するために、こうした画像データの一つ以上の選択されたパッチ（群）を分析する、複数のプロセッサ（２０２、３０６）を含む。システムは、更に、プロセッサを共に結合し、仕様として、毎秒約５０ギガビット以上のデータレートおよび約１０^-16未満のエラーレートを有する複数のバス（２０６、４５０）を含む。一実施例において、バスは、低電圧差分信号バスであり、別の実施形態において、バスは、ハイパートランスポートバスである。 （もっと読む）

本発明は、方法および測定システムを提供する。当該方法は：測定画像情報を含む測定モデルを提供するステップと；上記測定画像情報を利用することにより測定領域を突き止めるステップと；測定結果情報を提供する為に少なくとも一つの測定を実施するステップと；を含む。
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本発明は、顕微鏡により表示された位置（Ｐ）の座標を装置非依存的に決定する方法および装置に関するものであり、最初に、ＤＩＣＯＭ座標系内の少なくとも１個の基準位置の所与の対物レンズに関連付けられた基準座標（Ｘ_１、Ｙ_１、Ｚ_１）に対応する装置依存座標系において、表示された基準位置（Ｅ_１）について装置座標（ｘ_１、ｙ_１、ｚ_１）と、装置依存座標（ｘ、ｙ、ｚ）をＤＩＣＯＭ座標系の座標（Ｘ、Ｙ、Ｚ）へ変換するための変換規則（Φ）とが決定される。最後に、装置非依存座標決定を完了すべく、決定された変換規則（Φ）により、表示された位置（Ｐ）の装置座標（ｘ_ｐ、ｙ_ｐ、ｚ_ｐ）がＤＩＣＯＭ座標系の装置非依存座標（Ｘ_ｐ、Ｙ_ｐ、Ｚ_ｐ）に変換される。
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テンプレートマッチングのために有効な基準パターンを適切に効率良く抽出することのできる基準パターン抽出方法を開示する。本発明において、ウエハを撮像して得た画像情報上の観察視野（ＶＩＥＷ＿Ａｒｅａ）となり得る最大の範囲である最大視野範囲（ＯＲ＿Ａｒｅａ）内において、ユニークさが互いに異なり、かつ、その最大視野範囲（ＯＲ＿Ａｒｅａ）内に任意に配置される観察視野（ＶＩＥＷ＿Ａｒｅａ）内においてもユニークであると認識されるユニークなパターンを複数抽出する。そして、抽出されたユニークなパターンの全てを、観察視野（ＶＩＥＷ＿Ａｒｅａ）が取り得る範囲とは無関係に、基準パターン（テンプレート）として設定する。各ユニークパターンは、各々がユニークなパターンであるエレメント、又は、ほぼユニークなパターンであるエレメントの組み合わせにより表される。
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印刷スクリーンを通してワークピース上に印刷された堆積物を検査する検査システム及び方法である。このシステムは、カメラユニットと、制御ユニットとを備える。カメラユニットは、印刷スクリーン及びワークピースに対して移動可能である。印刷スクリーンは、複数の開口を有した本体を備える。ワークピースは、印刷スクリーンの開口を通してその上に堆積物が印刷されるものである。制御ユニットは、印刷スクリーン及びワークピースの少なくとも一対の対応する領域の画像を捕獲するようにカメラユニットを制御すると共に、画像を処理して、印刷スクリーンの画像を規定する複数の点の各々について、その点が開口のものであるか否かを決定するように動作可能である。そして、その点が開口のものである場合にだけ、対応する複数の点によって規定されたワークピースの対応する画像の対応する点が、堆積物のものであるか否かを決定する。これにより、ワークピースに印刷された堆積物の印刷特性の決定を、堆積物のものであると決定された点と開口のものであると決定された点との関係から可能とするものである。

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光学スキャナからのマルチチャネル欠陥データのような、それぞれが３つ以上のパラメータを関連付けられる複数のデータ点から成る母集団が３次元でプロットされ、データ点のグループが特定される。データ点のグループを画定するために、３次元空間において境界面が定義される。異なるグループは異なるデータ分類又はタイプに対応する。境界面に基づいて分類アルゴリズムが定義される。欠陥分類に適用されるとき、そのアルゴリズムは、欠陥を実行時分類するために光学スキャナにエクスポートすることができる。データ点の特定のグループを特定するためのアルゴリズムを、２つ以上の異なるｎ次元表現からの分類規則のブール演算による組み合わせとして定義することができる。ただし、ｎは表現毎に２又は３にすることができる。
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【課題】絶縁ワニスで被覆した絶縁電線を接着剤層を固定することによって製造されるマルチワイヤ配線基板に対する検査を高速で確実に検査する。
【解決手段】マルチワイヤ配線基板に光を垂直に照射し、色フィルタで所定の波長の光を選択し、撮像カメラによって色フィルタで選択した光マルチワイヤ配線基板の全面を撮像し、この全面の画像に所定の画像処理を施すことによって、絶縁電線の始点部、終点部が所定の領域内に入っているかの検査と始点部と終点部の間の経路の配線不良の検査を高速で確実に実現する。 （もっと読む）

【課題】 電子素子をエンボス内に適切に収容できるようにする。
【解決手段】 エンボス付きキャリアテープ２１を送りエンボス２３を所定位置に配置するキャリアテープ送り手段５０と、電子素子１５を保持する保持手段４１と、この保持手段４１を移動させ電子素子１５を所定位置に搬送する第１の移動手段４７と、保持手段４１による電子素子１５の保持位置を検出する保持位置検出手段と、この検出手段による検出結果に基づき少なくとも第１の移動手段４７を制御しエンボス２３に対する電子素子１５の位置決めを行なう位置決め制御手段とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 分類精度が高く、且つ処理効率が高い半導体欠陥分類方法を提供する。
【解決手段】 半導体欠陥分類方法は、検査対象物上に存在する欠陥を検出する第１のステップ（Ｓ０１）と、検出した欠陥を分類して複数の母集団を形成する第２のステップ（Ｓ０２）と、各母集団ごとにサンプリングプランを立てる第３のステップ（Ｓ０３）と、各母集団に属する欠陥をそれぞれサンプリングプランにしたがってサンプリングする第４のステップ（Ｓ０４）と、各母集団に属する総欠陥数に対するサンプリングした欠陥の個数の割合をそれぞれ算出する第５のステップ（Ｓ０５）と、サンプリングされた欠陥を自動分類する第６のステップ（Ｓ０６）と、自動分類された欠陥の個数を、それぞれ各母集団に属する総欠陥数に対するサンプリングした欠陥の個数の割合で除する第７のステップ（Ｓ０７）とからなる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、精度の高い画質改善を可能にした画質改善方法を提供する。
【解決手段】取得済み画像取得手段１より取得された取得済み画像の各画素Ｉ（ｉ，ｊ）の近傍画素から求められた平均画素値を用い平均値画像計算手段２により平均値画像Ａ（ｉ，ｊ）を生成するとともに、取得済み画像の各画素Ｉ（ｉ，ｊ）の近傍画素から求められた傾き評価値を用い、傾き評価値画像計算手段３により傾き評価値画像Ｊ（ｉ，ｊ）を生成し、その後、画質改善手段４により傾き評価値画像Ｊ（ｉ，ｊ）の各画素値に応じて、取得済み画像の各画素Ｉ（ｉ，ｊ）の画素値と平均値画像Ａ（ｉ，ｊ）の各画素値との差を強調して画質改善画像を生成し取得済み画像の画質を改善する。 （もっと読む）

【課題】 回路パターンが形成されたウエハの欠陥の種類を分類するウエハ検査装置を提供する。
【解決手段】 検査の対象となるウエハがウエハ欠陥検査部11で検査され、該ウエハ欠陥検査部11から座標値データS11 が出力される。座標値データS11 は画像データ生成部12に入力され、該画像データ生成部12でウエハの欠陥を表す図形が各チップ毎に作成されて画像データS12 が生成される。画像データS12 はパターン重なり評価部13に入力され、該パターン重なり評価部13で該画像データS12 に対応した第１の画像と回路の配線情報に基づいた回路パターンを表す第２の画像との重なりの状態が解析されて解析データS13 が出力される。解析データS13 は欠陥種自動分類部14に入力され、該欠陥種自動分類部14で各チップの被検査面上に存在する欠陥の種類が分類される。 （もっと読む）