【課題】セル面積の小さい不揮発性プログラマブルスイッチを提供する。
【解決手段】第１配線に接続される第１端子と第２配線に接続される第２端子と第３配線に接続される第３端子とを有する第１不揮発性メモリトランジスタと、第４配線に接続される第４端子と第２配線に接続される第５端子と第３配線に接続される第６端子とを有する第２不揮発性メモリトランジスタと、第２配線にゲート電極が接続されたパストランジスタと、を備え、第１および第４配線が第１電源に接続され、第３配線が第１電源の電圧よりも高い電圧に接続されるときに第１不揮発性メモリトランジスタの閾値電圧が増加し、第２不揮発性メモリトランジスタの閾値電圧が低下し、第１および第４配線が第１電源に接続され、第３配線が第１電源の電圧よりも低い電圧に接続されるときに第１不揮発性メモリトランジスタの閾値電圧が低下し、第２不揮発性メモリトランジスタの閾値電圧が増加する。 （もっと読む）

【課題】メモリセルの動作を従来よりも高速化できる半導体装置を提供する。
【解決手段】フローティングゲートFGとコントロールゲートCG、第１導電型ソース13s及び第１導電型ドレイン13dを有する第１導電型ＭＯＳトランジスタ13と、前記フローティングゲートFGと前記コントロールゲートCG、第２導電型ソース１４ｓ及び第２導電型ドレイン14dを有する第２導電型ＭＯＳトランジスタ14と、前記第１導電型ドレイン13d及び前記第２導電型ドレイン14dに接続される第１のソース／ドレイン11bと、第２のソース／ドレイン11aと、ゲートを有する選択トランジスタ１１と、前記第１導電型ソースに接続される第１電源線VpLと、前記第２導電型ソースに接続される第２電源線VnLと、前記選択トランジスタ11の第２のソース／ドレイン11aに接続されるビット線BLと、前記選択トランジスタ11のゲートに接続されるワード線WLと、を有する。 （もっと読む）

【課題】種々の回路ブロックを単一の集積回路（ＩＣ）に集約するために、不揮発性メモリーブロックをロジック機能ブロックにまとめる。
【解決手段】結合素子と第一のセレクトトランジスターを有している。結合素子は第一の伝導領域において形成されている。第一のセレクトトランジスターは、第一の浮遊ゲートトランジスターおよび第二のセレクトトランジスターに直列的に接続されており、それらは全て第二の伝導領域に形成されている。結合素子の電極および第一の浮遊ゲートトランジスターのゲートは、モノリシックに形成された浮遊ゲートである。第二の伝導領域は第一の伝導領域と第三の伝導領域の間に形成され、第一の伝導領域、第二の伝導領域、および第三の伝導領域は、ウェルである。 （もっと読む）

【課題】読出速度が速い半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】フラッシュメモリ３は、選択ビット線ＢＬをプリチャージするプリチャージ回路４５と、定電流源５０と、電流検知型のセンスアンプ２３と、選択ビット線ＢＬがメモリアレイＭＡ２に属する場合は、選択ビット線ＢＬおよび定電流源５０をそれぞれセンスアンプ２３の入力ノードＬＢＴ，ＬＢＢに接続し、選択ビット線ＢＬがメモリアレイＭＡ３に属する場合は、選択ビット線ＢＬおよび定電流源５０を入力ノードＬＢＢ，ＬＢＴに接続する切換回路ＳＷＴ２，ＳＷＢ２，ＳＷとを含む。したがって、ビット線ＢＬのプリチャージとデータ読出を並列に実行できる。 （もっと読む）

【課題】素子の面積を増大させることなく、かつ、コントロールゲート電圧を制御しなくとも、低電圧で書き込み量を大幅に増やすことが可能であり、また、安定して十分な書き込みを行うことが可能である不揮発性半導体装置を提供すること。
【解決手段】ドレインアバランシェホットエレクトロンにより書き込みを行う半導体記憶素子であって、第１導電型の半導体基板に形成された第２導電型の第１の半導体層と、前記第１の半導体層上に絶縁膜を介して設けられたフローティングゲートと、前記フローティングゲート下部の前記第１の半導体層の表面に形成されたチャネル領域と、前記チャネル領域に接触するように前記第１の半導体層上に設けられた第１導電型のソース領域及びドレイン領域とを有するＭＯＳトランジスタであって、前記チャネル領域が２種類以上のキャリア濃度の分布をもつ半導体記憶素子とした。 （もっと読む）

【課題】読み出しデータの精度を高めることが可能な半導体メモリを提供する。
【解決手段】メモリセルから第１ビット線ＢＬ_０〜ＢＬ_ｍ及び第２ビット線ＢＬＶ_０〜ＢＬＶ_ｍを介して読み出された読出信号同士の差分に基づき読出データの値を判定するにあたり、上記第１及び第２ビット線に共に電流が流れている場合にはメモリセルがデータ消去状態にあると判断し、上記判定したデータの値に拘わらず固定のデータ値を読出データとして出力する。 （もっと読む）

【課題】外部からの回路構成情報の呼び出し処理を不要にして、電源投入後すぐに動作できる半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体装置は、ワード線とデータ線とが交差する位置にそれぞれ配置された複数の不揮発メモリセル１１００を有する。不揮発メモリセル１１００の出力にはインバータ回路が接続され、さらに不揮発メモリセルの出力とＷＢＬ（Ｗｒｉｔｅ Ｂｉｔ Ｌｉｎｅ）との間に第１トランジスタＭ１と、第１トランジスタよりも抵抗が低い第２トランジスタＭ２とを備える。インバータ回路の出力とＲＢＬ（Ｒｅａｄ Ｂｉｔ Ｌｉｎｅ）との間にはトランスファーゲートを備える。 （もっと読む）

【課題】フローティングゲート−基板間容量の影響を抑制し、高度な閾値の制御を実現するニューロンＣＭＯＳ回路を提供する。また、そのようなニューロンＣＭＯＳ回路を備える電子回路を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態によると、基板に形成され、ＣＭＯＳ回路を構成し、共通するフローティングゲート及び複数の入力ゲートを有するＰＭＯＳＦＥＴ及びＮＭＯＳＦＥＴを有し、前記共通するフローティングゲートと前記基板との間の容量は、前記複数の入力ゲートのうちの一つの入力ゲート電極と前記共通するフローティングゲートとの間の容量と概略等しいことを特徴とするニューロンＣＭＯＳ回路が提供される。 （もっと読む）

【課題】低操作電圧および低電力消費量のフラッシュメモリを提供する。
【解決手段】フラッシュメモリ装置は、複数のメモリセルと、複数のプログラミング制御電圧生成器とを含む。各メモリセルは、制御エンドポイントを介してプログラミング制御電圧を受信し、プログラミング制御電圧に基づいてデータプログラミング操作を実行する。各プログラミング制御電圧生成器は、プリチャージ電圧送信機と、ポンピングキャパシタとを含む。プリチャージ電圧送信機は、第１期間中に、プリチャージイネーブル信号に基づいて、対応するメモリセルの制御エンドポイントにプリチャージ電圧を提供する。ポンプ電圧は、第２期間中にポンピングキャパシタに提供され、各メモリセルの制御エンドポイントでプログラミング制御電圧を生成する。 （もっと読む）

【課題】電源投入時における誤書き込みが発生しにくいメモリ回路を提供する。
【解決手段】メモリ回路１０は、書き込み時のみにソース・ドレイン間に電圧を印加されて書き込まれる、書き込み用のＰチャネル型不揮発性メモリ素子１５と、コントロールゲート及びフローティングゲートがＰチャネル型不揮発性メモリ素子１５のコントロールゲート及びフローティングゲートとそれぞれ共通にされ、読み出し時のみにソース・ドレイン間に電圧を印加されて読み出される、読み出し用のＮチャネル型不揮発性メモリ素子１６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】デュアル機能を有する不揮発性半導体メモリセルは、基板、第１ゲート、第２ゲート、第３ゲート、電荷蓄積層、第１拡散領域、第２拡散領域及び第３拡散領域を有する。
【解決手段】第２ゲート及び第３ゲートは、デュアル機能のワンタイムプログラミング機能に対応する第１電圧及びデュアル機能のマルチタイムプログラミング機能に対応する第２電圧を受けるために用いられる。第１拡散領域は、ワンタイムプログラミング機能に対応する第３電圧及びマルチタイムプログラミング機能に対応する第４電圧を受けるために用いられる。第２拡散領域は、マルチタイムプログラミング機能に対応する第５電圧を受けるために用いられる。 （もっと読む）

【課題】電源電圧の供給の停止及び再開を行う構成において、揮発性の記憶装置と不揮発性の記憶装置との間のデータの退避及び復帰の必要のない半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】不揮発性の半導体記憶装置とする際、揮発性の記憶装置と不揮発性の記憶装置を分離することなく構成する。具体的に半導体記憶装置には、酸化物半導体を半導体層に有するトランジスタ及び容量素子に接続されたデータ保持部にデータを保持する構成とする。そしてデータ保持部に保持される電位は、電荷をリークすることなくデータの出力が可能なデータ電位保持回路及び電荷をリークすることなくデータ保持部に保持した電位を容量素子を介した容量結合により制御可能なデータ電位制御回路で制御される。 （もっと読む）

【課題】
バイト、ページおよびブロックで書き込むことができる新単体式複合型不揮発メモリを提供する。
【解決手段】
不揮発メモリアレイは、シングルトランジスタフラッシュメモリセルおよびダブルトランジスタＥＥＰＲＯＭメモリセルを備え、同じ基板上に整合することができ、該不揮発メモリセルは低いカップリング係数の浮遊ゲートを備えて、メモリセル体積を減少でき、該浮遊ゲートをトンネル絶縁層の上に配置し、該浮遊ゲートは該ソース領域の辺縁および該ドレイン領域の辺縁に揃って、且つ該ソース領域辺縁および該ドレイン領域辺縁の幅に画定される幅を備え、該浮遊ゲートと該制御ゲートは５０％より小さい相対的に小さなカップリング係数を備えて、該不揮発メモリセルを縮小できるようにし、該不揮発メモリセルのプログラムはチャネル熱電子方式で達成し、消去は高電圧でＦＮトンネル方式で達成する。 （もっと読む）

【課題】データ書き替えの繰り返しによってメモリセルの閾値電圧が下がりくくなることを防止する。
【解決手段】半導体装置１の各メモリセルＭＣは、共通の浮遊ゲートＦＧを有する第１のトランジスタ（読出用）ＴＲＡと第２のトランジスタ（書込用）とを含む。制御回路１１は、一方のトランジスタに通電したときにメモリセルに流れる電流と、両方のトランジスタに通電したときにメモリセルに流れる電流とを比較することによって、第１および第２のトランジスタにそれぞれ接続されるサブビット線ＳＢＬ＿Ｒ，ＳＢＬ＿Ｐ間のショートを検出する。 （もっと読む）

【課題】消去動作を的確に実行する。
【解決手段】
制御回路は、データ消去動作を実行する場合において、ドレイン側選択トランジスタ及びソース側選択トランジスタの少なくとも一方においてホールを発生させて柱状半導体層に供給して少なくとも第１電圧まで上昇させる。そして、複数のワード線のうちの第１のワード線に対し、第１電圧よりも小さい電圧を第１の期間の間印加する一方、第１のワード線とは別の第２のワード線に対し、第１電圧よりも小さい電圧を第１の期間とは異なる第２の期間の間印加する。 （もっと読む）

【課題】メモリセルの劣化がある程度進行している状態と、要求仕様を満たさなくなるまで劣化が進行した状態とを外部で認識できるようにする。
【解決手段】半導体装置１において、メモリセルＭＣは、閾値電圧の相違を利用してデータを不揮発的に記憶する。制御回路１１は、データ消去時、メモリセルの閾値電圧が第１ベリファイ電圧以下でない場合にはメモリセルに閾値電圧を小さくするための消去電圧を印加する。制御回路は、消去電圧の印加時間が第１の判定値を超えると第１の劣化状態を表わす信号を出力し、消去電圧の印加時間が第１の判定値より大きい第２の判定値を超えると第２の劣化状態を表わす信号を出力する。 （もっと読む）

【課題】メモリユニットの過消去／過書込を回避するとともに書込時間を短縮する。
【解決手段】メモリ制御回路は、メモリユニット(MU11)に格納されたデータ値を読み出すリード動作を実行し、リード動作によって読み出されたデータ値の反転値(XRD1)がメモリユニット(MU11)に書き込まれるようにメモリユニット(MU11)の第１および第２のフローティングゲートの電荷量を制御する反転書込動作を開始し、メモリユニット(MU11)への反転値(XRD1)の書き込みが完了する前に反転書込動作を終了し、メモリユニット(MU11)に書き込むべき書き込みデータ値(WD1)がメモリユニット(MU11)に書き込まれるようにメモリユニット(MU11)の第１および第２のフローティングゲートの電荷量を制御する通常書込動作を実行する。 （もっと読む）

【課題】 プリチャージ動作を不要にすることで、読み出しアクセス時間を短縮する。
【解決手段】 メモリセルは、第１電圧線と第２電圧線の間に接続ノードを介して直列に接続され、相補の論理を記憶する一対のセルトランジスタを有する。第１制御回路は、読み出し動作時に、一対のセルトランジスタのコントロールゲートを活性化レベルに設定する。第２制御回路は、読み出し動作時に、第１電圧線を第１電圧に設定し、第２電圧線を第１電圧より高い第２電圧に設定する。読み出し回路は、読み出し動作時に、接続ノードに生成される電圧に応じて、メモリセルに保持されている論理を判定する。これにより、読み出し動作において、メモリセルに保持されている論理に応じて、接続ノードを第１電圧または第２電圧に設定できる。 （もっと読む）

【課題】チャージポンプ等の高電圧生成部の回路面積を削減する。
【解決手段】半導体記憶装置は、ワードライン及びビットラインが接続されマトリクス状に配置された複数のメモリセル２１と、ワードラインを駆動する複数のワードラインドライバ２３ａ及び２３ｂ、電源電圧を昇圧して高電圧を生成するチャージポンプ１１と、複数のメモリセル２１のうちアクセスに関係のある箇所には高電圧が印加され、アクセスに関係のない箇所には電源電圧が印加されるように制御するＸ方向高電圧制御回路３１及びＹ方向高電圧制御回路３２とを備える。 （もっと読む）

【課題】ウェイクアップ時間を短縮することでシステムの消費電力を低減する。
【解決手段】マイクロコンピュータは中央処理装置と不揮発性メモリとを含む。上記不揮発性メモリは、それぞれ電気的に書換え可能な第１記憶素子ＭＣ１と第２記憶素子ＭＣ２とを１ビットのツインセルとして複数個備えたメモリアレイ１９と、読出し選択されたツインセルの第１記憶素子と第２記憶素子から出力される相補データを差動増幅してツインセルの記憶情報を判定する読出し回路ＳＡとを含んで構成することで、記憶情報読出し時のリード比較電流の供給が不要とされる。前記マイクロコンピュータは、スタンバイモードからの復帰に際して、上記リード比較電流の安定化に要する時間を待つことなく、アクティブモードに遷移することでウェイクアップ時間を短縮する。 （もっと読む）