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Fターム[5B125EG08]の内容

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Fターム[5B125EG08]に分類される特許

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【課題】回路面積を低減させることのできる電圧生成回路を提供する。
【解決手段】一の実施の形態に係る電圧生成回路は、第1の電圧値の第1電圧を発生させる第1の昇圧回路と、第2の電圧値の第2電圧を発生させる複数の第2の昇圧回路を含む第2昇圧回路群とを有する。複数の第2の昇圧回路は、第1の状態から第2の状態に移行する際に互いに直列に接続され第1昇圧回路とともに第1電圧を発生可能に構成されている。 (もっと読む)


【課題】半導体装置が動作状態から待機状態に移行するとき、内部電源電圧の目標電圧からの上昇を抑制する。
【解決手段】非動作状態の負荷回路への電源電流の供給に用いられる電源回路15において、トランジスタPTRS1は、外部電源電圧を受ける電源ノードと出力ノード18との間に接続される。比較器50は、第1の入力端子および参照電圧が入力される第2の入力端子を有し、第1および第2の入力端子間の電圧差に応じた制御電圧をトランジスタPTRS1の制御電極に出力する。分圧回路40は、出力ノードの電圧を分圧した電圧を比較器50の第1の入力端子に出力する回路であり、分圧比を変更可能である。電源回路15は、負荷回路が動作状態のときに、分圧回路40の分圧比を第1の分圧比から第1の分圧比よりも高い第2の分圧比に変更する。 (もっと読む)


【課題】高速動作が可能な半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】実施形態に係る半導体記憶装置は、制御可能な閾値に基づいてデータを記憶し、データの消去状態において正の閾値分布を有し、制御電極を有する複数のメモリセルを含む。複数のワード線(WL)は、複数のメモリセルの制御電極と選択的に電気的に接続され、メモリセルへのデータの書き込みに先立って特定の電位へと充電される。電圧生成回路(9)は、出力において電圧を出力し、出力の電位を放電する放電経路(DP2)を含む。接続回路(WF)は、電圧生成回路と特定のワード線とに選択的に接続され、接続されているワード線を特定の電位を供給する供給ノードに選択的に接続する。 (もっと読む)


【課題】不揮発性半導体メモリの書き換え時に、適切なパルス電圧および適切なパルス幅を備える信号を印加可能な不揮発性半導体記憶装置を提供することである。
【解決手段】本発明にかかる不揮発性半導体記憶装置は、記録されている情報を所定のパルス電圧および所定のパルス幅を備える信号を印加することで書き換え可能な不揮発性半導体メモリ11と、不揮発性半導体メモリ11の書き換えを制御する書き換え制御部12と、を備える。書き換え制御部12は、不揮発性半導体メモリの総書き換え回数に基づき仮のパルス電圧および仮のパルス幅の少なくとも一つを決定する。更に、決定された仮のパルス電圧および仮のパルス幅の少なくとも一つを不揮発性半導体メモリ11の温度に基づいて補正することで、書き換え時に不揮発性半導体メモリ11に印加する信号のパルス電圧およびパルス幅の少なくとも一つを決定する。 (もっと読む)


【課題】消費電力を低減出来る半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】半導体記憶装置は、選択トランジスタ、メモリセル、ワード線、セレクトゲート線、ドライバ回路12、ロウデコーダ11−0、及び検知回路16を備える。ドライバ回路12は、第1電圧Vss,Vccを出力する。ロウデコーダ11−0内の第1転送トランジスタは、ワード線及びセレクトゲート線の各々に関連付けられ、ドライバ回路12から出力された第1電圧を、ワード線及びセレクトゲート線に転送する。検知回路16は、データの消去時において、ビット線及び/またはソース線に印加される第2電圧を検知して、検知結果に応じてフラグを生成する。ドライバ回路12は、フラグが生成されたことに応答して第1電圧の値を変更して、第1転送トランジスタをカットオフさせる。 (もっと読む)


【課題】適切に電源電圧を負荷回路に供給することができる、半導体装置を提供する。
【解決手段】電圧トランスファ20及びセンスノード配線33が設けられており、電圧トランスファ20は、各Sub−Arrayに応じて設けられたNMOSトランジスタTRにより、ノード32とノード30との間が接続される。電圧トランスファ20のトランジスタTRは、ソース及びドレインの一方が電源線31の各Sub−Arrayに応じた位置に接続されており、ソース及びドレインの他方がセンスノード配線33に接続されている。また、トランジスタTRのゲートには、対応するSub−Arrayのデコード信号A0〜AXが入力される。 (もっと読む)


【課題】 メモリアレイ上のワード線に印加される電界を低減し、チップ面積を低減可能な半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】 フラッシュメモリ100は、メモリアレイ110と、メモリアレイ110の行方向の端部に配置され、アドレス信号に基づきメモリアレイ内の特定のメモリブロックを選択し、選択されたメモリブロックに選択信号を出力するワード線デコーダ120と、
メモリアレイ110Aと110Bの間に配置され、選択信号に基づきメモリセルに供給される動作電圧のスイッチングを行うスイッチ回路、および選択信号を昇圧する昇圧回路を含むワード線駆動回路130とを有する。ワード線デコーダ120は、選択信号を搬送する配線WR(i)を有し、配線WR(i)は、ワード線駆動回路130のスイッチ回路に接続される。 (もっと読む)


【課題】セル間干渉によるしきい値電圧の変動を低減させる。
【解決手段】不揮発性半導体記憶装置は、第1及び第2の選択ゲートトランジスタ、並びに第1及び第2の選択ゲートトランジスタ間に設けられ電気的に書き換え可能なデータを記憶する複数のメモリセルが直列接続されたメモリストリングからなるセルユニットと、メモリセルに第1の選択ゲートトランジスタ側から第2の選択ゲートトランジスタ側へ下位ページデータ及び下位ページデータに応じた上位ページデータを順次書き込むデータ書き込み手段とを備える。データ書き込み手段は、選択メモリセルに対して下位ページデータを書き込む第1の書き込み動作と、選択メモリセルに対して第2の選択ゲートトランジスタ側に隣接するn個(nは2以上の整数)の非選択メモリセルに対する第1の書き込み動作が終了した後に、選択メモリセルに対して上位ページデータを書き込む第2の書き込み動作とを行う。 (もっと読む)


【課題】データ書き込みを高速化した不揮発性半導体記憶装置を提供することを目的とする。
【解決手段】実施形態に係る不揮発性半導体記憶装置は、メモリセルアレイと、プログラム動作並びにベリファイ動作を有する書き込みループを繰り返し実行する制御回路とを備え、ベリファイ動作は、メモリセルの閾値電圧が、メモリセルの所望の閾値電圧の下限を示す本ベリファイ電圧よりも低い値で設定された予備ベリファイ電圧まで遷移したことを確認する予備ベリファイステップ、並びに、メモリセルの閾値電圧が本ベリファイ電圧まで遷移したことを確認する本ベリファイステップからなり、書き込みループは、各データに対応した1又は2以上のベリファイ動作からなり、制御回路は、所定の第1条件を具備した後、所定のデータに対応したベリファイ動作の予備ベリファイステップを省略させた書き込みループを実行する。 (もっと読む)


【課題】容量素子が占有する回路面積の増大を抑制する。
【解決手段】メモリストリングは、複数の第1導電層、メモリゲート絶縁層、及び半導体層を有する。複数の第1導電層は、半導体基板に対して実質的に垂直方向に所定ピッチをもって配列され、メモリトランジスタのゲートとして機能する。半導体層は、複数の第1導電層と共にメモリゲート絶縁層を一方の側面で挟み、半導体基板に対して実質的に垂直方向に延び、メモリトランジスタのボディとして機能する。第1キャパシタは、複数の第2導電層を有する。複数の第2導電層は、半導体基板に対して実質的に垂直方向に所定ピッチをもって配列され、第1キャパシタの電極として機能する。制御回路は、複数の第1導電層に印加される電圧に応じて、複数の第2導電層の各々に印加する電圧を制御し、これにより第1キャパシタの容量を変化させる。 (もっと読む)


【課題】メモリセルの過消去を防止し、データの誤書き込みを低減した不揮発性半導体記憶装置を提供することを目的とする。
【解決手段】実施形態に係る不揮発性半導体記憶装置は、メモリストリングに隣接するダミーに接続された第1配線、並びに、メモリセル毎に接続された第2配線を有するセルアレイを備え、ダミーセルに隣接する前記メモリセルを第1対象メモリセル、第1対象メモリセルに隣接する前記メモリセルを第2対象メモリセルとし、第1配線に印加される電圧を隣接第1配線電圧とし、第1対象メモリセルに接続された第2配線に印加される電圧を第2配線電圧とし、第2対象メモリセルに接続された第2配線に印加される電圧を第3配線電圧とした場合、駆動回路は、消去動作時において、第1配線電圧よりも第3配線電圧が小さい場合、第1配線電圧と第3配線電圧の差を第1配線電圧と第2配線電圧の差よりも小さくする。 (もっと読む)


【課題】ライトパラメータを効率よく探索することができる半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】半導体記憶装置は、パラメータセットを初期値から変更して生成した新たな2以上のパラメータセットを用いて半導体メモリセルに情報を書き込み、その半導体メモリセルについて変換回路の出力を取得し、変換回路の出力の最大値が得られたパラメータセットと、最小値が得られたパラメータセットとをパラメータ空間上で結ぶ延長上に位置する、他のパラメータセットを、新たな初期値として設定して検証を再実施し、書き込んだ情報と読み出した情報が一致する半導体メモリセルについては、初期値を用いた検証を終了する。 (もっと読む)


【課題】回路面積の縮小を図る。
【解決手段】半導体記憶装置は、第1メモリセルに接続される第1ワード線CG1と、第2メモリセルに接続される第2ワード線CG2と、各メモリセルに対する書き込み動作を制御し、第1ワード線および第2ワード線と電気的に接続された電源回路21を有する制御回路2と、第1ワード線と電源回路の間に設けられた第1転送スイッチCGSW1と、第2ワード線と電源回路の間に設けられた第2転送スイッチCGSW2と、を具備する。制御回路は、第1メモリセルに対する書き込み動作において、第1時刻で、第1転送スイッチおよび第2転送スイッチをオンし、第1ワード線および第2ワード線を昇圧させて、第1時刻後の第2時刻で、電源回路と第2ワード線との電気的な接続を切断して第2ワード線を浮遊状態とし、第2ワード線は書き込みパス電圧まで到達する。 (もっと読む)


【課題】テスト時間の短縮化を図ることが可能な半導体装置を提供する。
【解決手段】このチャージポンプ回路12では、通常動作時は、ポンプキャパシタC0,C2の一方電極にポンプクロック信号φPを与えるとともにポンプキャパシタC1,C3の一方電極にポンプクロック信号φPの相補信号を与え、ポンプキャパシタC0〜C3の欠陥を検出するテストモード時は、ポンプキャパシタC0〜C3の各々の電極間に外部電源電圧VCCを静的に印加する。したがって、MOSトランジスタのオン耐圧を超える高電圧をポンプキャパシタC0〜C3に印加できるので、テスト時間を短縮化できる。 (もっと読む)


【課題】複数のメモリストリングのうち特定のメモリストリングに対して選択的に消去動作を実行可能な不揮発性半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】制御回路は、選択メモリストリング内の選択メモリトランジスタのデータを選択的に消去し、選択メモリストリング内の非選択メモリトランジスタ及び非選択メモリストリングに対する消去動作を禁止する。制御回路は、選択メモリストリングの半導体層をフローティング状態としたのち、選択メモリストリング内の非選択メモリトランジスタのゲートに接続される非選択ワード線に第1電圧を印加し、選択メモリストリング内の選択メモリトランジスタのゲートに接続される選択ワード線に前記第1電圧よりも小さい第2電圧を印加する。 (もっと読む)


【課題】チップ面積を削減することのできる不揮発性半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】一の実施形態に係る不揮発性半導体記憶装置は、半導体基板と、半導体基板上に積層され、垂直方向に直列接続された複数のメモリセルを含むメモリセルアレイと、半導体基板上に設けられ、所望の電圧をメモリセルアレイに供給する電源回路とを備える。電源回路は、電圧を生成するポンプ回路と、ポンプ回路の出力端子に接続され、出力端子の電圧値が所定の値を下回った場合にポンプ回路へ制御信号を出力するリミッタ回路と、出力端子に一端が接続され、出力端子の電圧を調整するように構成されたキャパシタと、キャパシタの他端に接続され、制御信号に基づき所定の電流値の定電流を用いてキャパシタを充電するブースト回路と、ブースト回路の充電動作を停止させるスイッチとを備える。キャパシタは、メモリセルアレイの直下に設けられる。 (もっと読む)


【課題】フラッシュメモリの動作速度及び耐久性を向上させる技術の提供。
【解決手段】メモリが、行及び列を含むメモリセルのアレイを有している。該メモリは、アレイ内の単数又は複数のワード線上の第1の離隔位置のセットに第1のバイアス電圧を印加するとともに、単数又は複数のワード線上の第2の離隔位置のセットに第1のバイアス電圧とは異なる第2のバイアス電圧を印加する、ワード線に結合された回路部を有し、第1の離隔位置のセットにおける位置は、第2の離隔位置のセットの位置の間に介在しており、それにより、第1の離隔位置のセットにおける位置と第2の離隔位置のセットにおける位置との間に、単数又は複数のワード線の加熱をもたらす電流の流れが誘導される。 (もっと読む)


【課題】読み出しストレス(Read Stress)を減少でき、読み出し不良(Read Disturb不良)の減少に有利な半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、半導体記憶装置は、電流経路が直列に接続される複数のメモリセルと、その両端に接続される選択トランジスタにより構成されるセルユニットを備えるメモリセルアレイ1と、前記メモリセルアレイに与える電圧を発生させる電圧発生回路7と、前記メモリセルアレイおよび前記電圧発生回路を制御する制御回路4とを具備する。前記メモリセルのデータ読み出し動作において、前記制御回路4は、前記セルユニットの非選択ワード線に与えられる電圧を、第1読み出しパス電圧に達するまでの第1傾きθVR1が、前記選択トランジスタの選択電圧に達するまでの傾きθVSGよりも小さくなるように、かつ、前記非選択ワード線が、前記選択電圧よりも遅く立ち上げられるように制御する。 (もっと読む)


【課題】消費電力および消費電流を低減することが可能な不揮発性半導体メモリを提供する。
【解決手段】複数のメモリセルを含むメモリセルアレイと、入出力パッドと、メモリセルから読み出したデータを、入出力パッドを介して外部に出力し、且つ、外部から書き込みデータおよびコマンドを、入出力パッドを介して入力するためのI/O回路と、メモリセルの、書き込み、読み出し、又は消去動作に必要な第1の電源電圧が印加される第1の電源電圧パッドと、第1の電源電圧よりも低く且つI/O回路に供給するための第2の電源電圧が印加される第2の電源電圧パッドと、第1の電源電圧を降圧し、第2の電源電圧よりも高い第1の降圧電圧を出力する第1の降圧回路と、第2の電源電圧を降圧し、第1の降圧電圧よりも低い第2の降圧電圧を出力する第2の降圧回路と、第1の降圧電圧が供給される第1の内部回路と、第2の降圧電圧が供給される第2の内部回路を備える。 (もっと読む)


【課題】消費電力を削減することが可能な不揮発性半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】不揮発性メモリセルは、電気的に書き換え可能である。電源回路15a,15b,15cは、不揮発性メモリセルを駆動するポンプ回路を含んでいる。接地パッド14dには、接地電圧が供給される。第1の電源パッド14aには、第1の電源が供給される。第2の電源パッド14eには、第1の電源の電圧より高い第2の電源が供給される。降圧回路は、第2の電源パッドに接続され、第2の電源を降圧し、第2の電源より低い電圧を出力する。ポンプ回路は、第1の電源に基づき、第2の電源の電圧より高い電圧をする。 (もっと読む)


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