【課題】試料を搭載するトップテーブルの微小振動を抑えて観察像の像質あるいは寸法測定値の精度を向上させることができる試料位置決め技術を提供する。
【解決手段】本発明に係る試料位置決め装置は、トップテーブルを停止させるアクティブブレーキ、アクティブブレーキを囲む内枠、内枠を囲む外枠、およびアクティブブレーキを駆動するアクチュエータを備える。アクチュエータは、アクティブブレーキを駆動してトップテーブルをステージに対して停止させた後、外枠を押圧してトップテーブルの位置を調整する。 （もっと読む）

【課題】 試料内複数点の測定時に生じる像ドリフトを低減する。
【解決手段】 測長画像の取得後に測長画像取得より低倍走査での電子ビーム照射により除電を行う。その際に、走査領域が２０μｍ角以上、２００μｍ角以下の倍率に設定される。 （もっと読む）

【課題】環境制御型透過型電子顕微鏡（ETEM）において、活性雰囲気下でサンプルを評価研究する際に、発生するサンプルのドリフトが取得画像の解像度の制限因子とならないようにする。
【解決手段】ドリフトを避けるため、または抑制するため、サンプルを所望の温度で不活性ガスに暴露し、その後不活性ガスを活性ガスに置換する。光、X線、または走査型プローブ顕微鏡に適用できる。 （もっと読む）

【課題】試料の鮮明な画像を撮影することができる電子顕微鏡システム及びその制御方法を提供すること。
【解決手段】電子顕微鏡システムは、電子線を発生させる電子銃と、電子線を試料に照射するための光学系と、当該試料をセットするステージと、当該試料を観察するために、当該試料への電子線の照射を基に試料を撮影する撮影機構と、撮影機構が撮影した当該試料の画像を解析する解析機構と、当該試料と撮影機構との相対的位置を調節する位置調節機構と、を備える。位置調節機構は、解析機構の解析結果を基に、ステージ又は撮影機構の視野のうちの少なくとも一方を移動させる。 （もっと読む）

【課題】深さ方向に高アスペクト比を有するパターンの検査又は測定時に使用する予備帯電（プリドーズ）において、適切な照射条件の設定が、プリドーズ後に撮像された画像を目視するオペレータの判断に委ねられている。すなわち、照射条件の設定が属人的である。
【解決手段】予備帯電（プリドーズ）に使用する電子ビームの照射条件を変更しながら撮像された画像を画像分析し、分析結果に基づいて適切な照射条件を定量的に自動判定する。 （もっと読む）

【課題】超高真空化が不要で、試料表面の破壊を引き起こすことなく、試料表面のコンタミを安定して防止できる電子線を用いた顕微鏡あるいは分析装置用の試料加熱ホルダー、およびそれを用いた試料加熱方法を提供する。
【解決手段】発熱体として、正温度計数(PTC)サーミスタを備えることを特徴とする、観察・分析中のカーボンコンタミネーションの成長と熱ドリフトの抑制能力に優れた、電子線を用いた顕微鏡あるいは分析装置用の試料加熱ホルダー。 （もっと読む）

【課題】漏洩磁場の抑制と駆動性能とのバランスを取る。
【解決手段】開放面を有する第１のヨーク１８と、前記第１のヨーク内にＳ極とＮ極とが交互になるよう直線状に並べられた２列の永久磁石１７とを備えた界磁子９と、前記２列の永久磁石の間に設けられ直線移動する可動子１０とを備えたリニアモータにおいて、前記第１のヨークの開放面から見て前記第１のヨークの開放端部と前記永久磁石とを覆うように、前記第１のヨークの開放端部に第２のヨーク１９を接続する。 （もっと読む）

【課題】試料の表面に生じている電荷分布をミクロンオーダーの高分解能で測定することを可能とする。
【解決手段】表面電荷分布を有する試料を荷電粒子ビームで走査し、試料の表面電荷分布を測定する表面電荷分布測定方法。装置の構成に基づいて試料の表面電荷分布モデルを設定するモデル設定工程と、起点の時点から次点の時点までの時間間隔を設定して荷電粒子ビームの軌道を算出する軌道計算工程と、試料の表面電荷分布の実測値を求める実測工程と、軌道計算工程において算出された電子軌道計算データを、実測工程における実測値と照合する照合工程と、照合工程において電子軌道計算データと実測値との誤差が所定の範囲内であれば表面電荷分布モデルを実際の表面電荷分布として採用する判定工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 絶縁体パターンであっても，撮影中一次荷電粒子線照射起因帯電の影響を抑制し，二次荷電粒子の検出率の変化を抑制することにより視野内の計測歪みを抑制することのできる走査型荷電粒子顕微鏡を提供する。
【解決手段】 試料８上の二次元領域に対し，荷電粒子線４のライン走査の方向が交互に反転するように走査して走査領域の画像を形成する走査型荷電粒子顕微鏡において，荷電粒子線４の走査ライン間距離は，試料８に荷電粒子線４を照射したときの，試料８の帯電特性又は試料８の明度の視野内均一性に基づいて調整される。 （もっと読む）

【課題】試料台のドリフトの影響による画像の歪を補正するため、観測用画像より短時間に補正用参照画像を計測し、観測用画像の形状を補正用参照画像の形状を比較することにより補正し、観測用画像の歪を低減する。試料台の移動が停止するまで待たずに、また、より少ない画像より歪を補正することが必要とされる。
【解決手段】観察のために取得する画像と同一の位置と倍率で、歪補正のための参照用画像を計測する。このとき、参照用画像においては、ドリフトの影響を低減するため、本来の観測用画像より短時間で計測を実行する。参照用画像と観測用画像の形状を比較し、観測用画像の形状を、参照用画像の形状に合わせて補正することにより、観測用画像の形状を補正する。 （もっと読む）

【課題】試料のドリフトを抑制できる荷電粒子線装置の試料位置決め装置を提供する。
【解決手段】荷電粒子線装置の試料位置決め装置１００は、減圧状態に維持可能な試料室１と、試料室１に連通する孔１２を有する管状部材１０と、孔１２に移動可能に装着される試料ホルダー２０と、試料ホルダー２０に装着され、管状部材１０の内面に接するＯリング３０と、試料室１における試料ホルダー２０の位置を変える駆動機構６０と、を含み、試料ホルダー２０は、先端部が試料室１に配置される第１部分２２と、孔１２に配置される第２部分２４と、を有し、第１部分２２は、先端部に、試料Ｓを保持可能な試料保持部２３を有し、第２部分２４は、リニアガイドを介して、第１部分２２を移動可能に支持し、Ｏリング３０は、第２部分２４に装着され、駆動機構６０は、第１部分２２を移動させる。 （もっと読む）

【課題】 ウェハを確実に吸着保持する静電チャックを提供すること。
【解決手段】 ウェハを静電的に吸着保持する静電チャック１４１０は、基板１４０５、電極１４１２板及び絶縁層１４０４を重ねて成り、ウェハの印加電圧が０ボルトから所定電圧まで時間とともに増大又は減少されるのに連動する電圧を静電チャックの電極板に印加することにより、ウェハとチャックの間に吸引力を発生する。 （もっと読む）

【課題】
帯電防止用ガスの対物レンズを含む光学系への進入を抑制することのできる荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】
荷電粒子源と、試料台１４と、荷電粒子線を試料７上に収束させる光学系（５）と、真空排気系と、荷電粒子線の照射による試料７の帯電を防止するガスを試料７に吹き付ける吹き付けノズル１６とを備えた荷電粒子線装置において、吹き付けノズル１６は、ガスの進行方向に垂直な断面の面積が先端部で小さくなり、最小値をもった後に大きくなる構造を有する。これにより、ガス流の指向性を高め、ガス拡散を低減する。また、吹き付けガスを排気する排気ダクト２９を設け、ガス拡散を低減する。 （もっと読む）

【課題】 熱膨張または熱収縮による被搭載物の位置ずれを抑え得るマウント装置を提供する。
【解決手段】 マウント装置は、被搭載物を搭載するための搭載板、搭載板を載置する基台、搭載板と基台との間に配設されて搭載板を支持する第１支持部材、第２支持部材および第３支持部材であって、搭載板の被搭載物を搭載する面に平行で互いに垂直な２方向をＸ方向およびＹ方向と定義するとき、基台に対する搭載板のＸ方向の動きを規制し、Ｙ方向の動きを許容する第１支持部材、基台に対する搭載板のＸ方向の動きとＹ方向の動きとを許容する第２支持部材、および基台に対する搭載板のＸ方向の動きとＹ方向の動きとを許容する第３支持部材、ならびに、搭載板と基台との間に配設されて、基台に対する搭載板のＸ方向の動きとＹ方向の動きとを規制する規制部材を有する。 （もっと読む）

【課題】本発明はＸ線分析方法及び装置に関し、ステージ走査でも良好なドリフト補正を行うことができるＸ線分析方法及び装置を提供する。
【解決手段】試料上の面分析領域の内部を複数のブロックに分けて、ブロック内での各ラインのステージ走査に基づく特性Ｘ線の測定が第１ブロックから各ブロック毎に順次行うようにされており、各ブロックにおいて最初に走査が行われるラインについてのステージ走査の開始前に、試料の電子線走査画像を取得し、第２ブロック以降における特性Ｘ線の測定開始時においては、当該ブロックにおいて取得された電子線走査画像と、その直前のブロックにおいて取得された電子線走査画像との照合を行って、ステージのドリフト量を求め、該ドリフト量に基づいて電子線のビームシフトを行うことにより、試料上での電子線の照射位置を補正してから当該ブロック内での特性Ｘ線測定を開始するように構成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、不感帯等の存在に依らず、高速且つ安定した位置決めを行う試料ステージの提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するために、試料ステージのテーブルと駆動機構との間の結合を機械的に分離可能な結合部と、当該結合部を駆動機構によるテーブルの移動停止の前に分離するように制御する制御装置と、テーブル位置の位置を検出する位置検出器を備え、制御装置は、テーブルの粗動時には位置検出器によるテーブルの位置情報に基づいて、フィードバック制御を実施し、微動時には予め設定した速度変位パターンを用いて前記駆動機構をオープン制御するシーケンス制御を実施する試料ステージを提案する。 （もっと読む）

【課題】試料ステージ装置における、ギャップの初期状態等の駆動条件に影響されることなく、熱ドリフトや振動によるノイズを抑えることが可能で、安定した試料テーブルの高速な位置決め制御方式を提供する。
【解決手段】試料ステージ装置１０は、ギャップ２５，２６等による駆動条件の影響を受けない所定周期毎の理想的な位置情報ｘtg(i) ， tg(i)を算出し、この所定周期毎に、レーザー干渉計３３，３４等により構成される位置検出器によるリアルタイムな測定位値ｘ(i) ，ｙ(i)と理想的な位置情報ｘtg(i) ， tg(i)との偏差ｄｘ(i) ，ｄｙ(i)をリアルタイムに求める構成になっている。その上で、この求められた偏差ｄｘ(i) ，ｄｙ(i)から測定値ｘ(i) ，ｙ(i)が理想的な位置情報ｘtg(i) ， tg(i)に追従するようなモータ２７，２８の速度指令値ｖｘ(i) ，ｖｙ(i)を算出し、リアルタイムな速度制御を行うフィードバック制御により、安定した試料テーブル１１の高速な位置決め制御を行う。 （もっと読む）

【課題】本発明は、透過型電子顕微鏡グリッドに関する。
【解決手段】本発明の透過型電子顕微鏡グリッドは、キャリヤーと、カーボンナノチューブ支持体と、固定体と、を含む。前記キャリヤーが少なくとも一つの第一スルーホールを有し、前記固定体が少なくとも一つの第二スルーホールを有し、前記第一スルーホールと前記第二スルーホールとが対向して設置され、前記カーボンナノチューブ支持体が前記キャリヤーと前記固定体との間に設置され、前記第一スルーホールと前記第二スルーホールとの間に位置する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、透過型電子顕微鏡グリッドの製造方法に関する。
【解決手段】本発明の透過型電子顕微鏡グリッドの製造方法は、少なくとも一つの第一スルーホールを有するキャリヤー、及び少なくとも一つの第二スルーホールを有する固定体を提供する第一ステップと、カーボンナノチューブ支持体を提供し、該カーボンナノチューブ支持体を前記第一スルーホールに被覆する第二ステップと、前記固定体及び前記キャリヤーを積層して、前記カーボンナノチューブ支持体を前記キャリヤーと前記固定体との間に固定する第三ステップと、を含む。また、本発明は、複数の透過型電子顕微鏡グリッドの製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、透過型電子顕微鏡グリッドの製造方法に関する。
【解決手段】本発明の透過型電子顕微鏡グリッドの製造方法は、少なくとも一つの第一スルーホールを有するキャリヤー、カーボンナノチューブ構造体及び少なくとも一つの第二スルーホールを有する固定体を提供する第一ステップと、前記キャリヤーと前記固定体とを積層して、前記カーボンナノチューブ構造体を前記キャリヤーと前記固定体との間に設置する第二ステップと、前記キャリヤーと前記固定体とを溶接して固定する第三ステップと、を含む。また、本発明は、複数の透過型電子顕微鏡グリッドの製造方法を提供する。 （もっと読む）