【課題】本発明は、低消費電力で高い発光効率を有するプラズマディスプレイパネルを実現することを目的とする。
【解決手段】本発明は、保護層を有した前面板と背面板とを放電空間を形成して対向配置して封着し、前記放電空間内を排気するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記保護層は、下地膜と、金属酸化物粒子とを有し、前記金属酸化物粒子は酸化マグネシウム結晶体であり、前記下地膜はセシウムの炭酸化物を主成分とし、前記保護層形成後に、前記保護層表面に還元性有機ガスを曝す、プラズマディスプレイパネルの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、低消費電力で高い発光効率を有するプラズマディスプレイパネルを実現することを目的とする。
【解決手段】本発明は、保護層を有した前面板と背面板とを放電空間を形成して対向配置して封着し、前記放電空間内を排気するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記保護層は、下地膜と、金属酸化物粒子とを有し、前記金属酸化物粒子は酸化マグネシウム結晶体であり、前記下地膜はセシウムの炭酸化物を主成分とし、前記保護層形成後に、前記保護層表面に還元性有機ガスを曝す、プラズマディスプレイパネルの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】高精細で高輝度の表示性能を備え、かつ低消費電力のプラズマディスプレイパネルを実現することを目的とする。
【解決手段】本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、前面板に保護層を形成し、前記前面板と背面板とを封着する、プラズマディスプレイパネルの製造方法において、前記保護層面におけるＸ線回折分析において、酸化マグネシウムの結晶方位面（１１１）のピークが発生する回折角と、当該ピークと同一方位の前記酸化カルシウムのピークが発生する回折角との間にピークが存在するとともに、前記保護層のカルシウムの濃度は３ａｔｏｍ％以上１５ａｔｏｍ％以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明によればアドレス放電の電力を低減した省電力ＰＤＰを提供することが可能となる。
【解決手段】本発明のプラズマディスプレイパネルは、複数の表示電極を配置した前面基板と、前記表示電極に交差するようにアドレス電極を配置し前記アドレス電極上に絶縁体層を配置した背面基板とを備え、前記絶縁体層にはＳｉＯ₂を主成分とするフィラーを含み、前記フィラーの平均粒径Ｒ（μｍ）と、前記絶縁体層の膜厚Ｔ（μｍ）とが、０．２≦Ｒ／Ｔ≦１の関係であり、前記フィラーを除く前記絶縁体層の比誘電率が８以上であり、前記フィラーの比誘電率が５以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、低消費電力で高い発光効率を有するプラズマディスプレイパネルを実現することを目的とする。
【解決手段】本発明は、保護層を有した前面板と背面板とを放電空間を形成して対向配置して封着し、前記放電空間内を排気するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記保護層は、下地膜と、金属酸化物粒子とを有し、前記金属酸化物粒子は酸化マグネシウム結晶体であり、前記下地膜にはセシウムの炭酸化物を含み、前記保護層形成後に、前記保護層表面に還元性有機ガスを曝す、プラズマディスプレイパネルの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、低消費電力で高い発光効率を有するプラズマディスプレイパネルを実現することを目的とする。
【解決手段】本発明は、保護層を有した前面板と背面板とを放電空間を形成して対向配置して封着し、前記放電空間内を排気するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記保護層は、下地膜と、金属酸化物粒子とを有し、前記金属酸化物粒子は酸化マグネシウム結晶体であり、前記下地膜にはセシウムの炭酸化複合材料物を含み、前記保護層形成後に、前記保護層表面に還元性有機ガスを曝す、プラズマディスプレイパネルの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高精細で高輝度の表示性能を備え、かつ低消費電力のプラズマディスプレイパネルを実現する上で有用である。
【解決手段】本発明のプラズマディスプレイパネルは、保護層を有した前面板と、背面板とを対向配置し、前記保護層は、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウムおよび酸化バリウムからなる群の中から選ばれる１種類以上の金属酸化物層を有し、前記保護層のＮｅガスにおける二次電子放出係数γ（Ｎｅ）に対する、前記保護層のＫｒガスにおける二次電子放出係数γ（Ｋｒ）の比が、０．０２以上、０．１２以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高精細で高輝度の表示性能を備え、かつ低消費電力のプラズマディスプレイパネルを実現する上で有用である。
【解決手段】本発明のプラズマディスプレイパネルは、表示電極対、誘電体層、および保護層を有した前面板と、背面板とを放電空間を形成して対向配置し、前記保護層は、少なくとも第１の金属酸化物と第２の金属酸化物とを含み、前記第１の金属酸化物は、酸化マグネシウムであり、前記第２の金属酸化物は、酸化カルシウム、酸化ストロンチウムおよび酸化バリウムの１種であり、前記保護層の前記放電空間側の前記第２の金属酸化物濃度は、前記保護層中の濃度よりも高いことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイパネルの駆動電圧を低減する。
【解決手段】保護層９は、少なくとも第１の金属酸化物と第２の金属酸化物とを含む。さらに、保護層９は、Ｘ線回折分析において少なくとも一つのピークを有する。ピークは、第１の金属酸化物のＸ線回折分析における第１のピークと、第２の金属酸化物のＸ線回折分析における第２のピークと、の間にある。第１のピークおよび第２のピークは、ピークが示す面方位と同じ面方位を示す。第１の金属酸化物および第２の金属酸化物は、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯからなる群の中から選ばれる２種である。背面板１０は、下地誘電体層１３と下地誘電体層１３上に配置された複数の隔壁１４とを含む。隔壁１４は複数の空隙を有する。隔壁１４の空隙率は、０％を超え、かつ、１．０％未満である。空隙の一つあたりの平均断面積は、０．２３μｍ²以上０．２９μｍ²未満である。 （もっと読む）

【課題】隔壁設置部幅４５μｍという細幅の隔壁を歩留まり低下なく形成することを可能とし、高効率、高精細なプラズマディスプレイパネルを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のプラズマディスプレイパネルは、前面板と、データ電極、誘電体層および隔壁を有した背面板とを対向配置し、前記データ電極の厚みが５μｍ以上であり、前記隔壁が前記誘電体層と接する領域に凹み部が形成され、前記隔壁の幅方向の、前記隔壁と前記誘電体層とが接する距離Ｌ２が、前記隔壁の底部幅Ｗ２よりも１μｍ以上長いことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、基板上に形成した電極や誘電体などを正確な温度で加熱処理しつつ、表示品質を維持できるフラットパネルディスプレイの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、基板を支持材３１に搭載し加熱処理を行うフラットパネルディスプレイの製造方法であって、前記基板と前記支持材との間に、加熱処理温度以下で揮発する液体３２を配置することを特徴とした、フラットパネルディスプレイの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】ＰＤＰの放電電圧が高くならずに、放電遅れ時間を短くする技術を提供する。
【解決手段】
真空槽１０内部を真空雰囲気にし、処理対象物２７のＳｒＣａＯ膜から成る保護膜の表面に、転写部材５のＭｇＯ微粒子３を接触させて付着させ、離間させた後、処理対象物２７を真空槽１０の外部に搬出する。転写部材５は、微粒子用基板４上に、ＭｇＯ微粒子３が蒸発性溶液や蒸発性ペーストに分散された分散液や分散ペーストを、噴霧や塗布によって微粒子用基板４に付着させ、加熱し、蒸発性溶液や蒸発性ペーストを蒸発させて除去した後、真空槽１０内に配置しておく。一枚の転写部材５によって所定枚数の処理対象物２７にＭｇＯ微粒子３を付着させると、転写部材５を交換する。 （もっと読む）

【課題】隔壁前駆体と同時焼成に際し、昇温速度を大きくした場合であっても誘電体層の剥離や隔壁の断線を生じない誘電体ペースト、および生産性が高く、高品位なプラズマディスプレイの製造方法を提供する。
【解決手段】 軟加点ガラス（Ａ）、熱重合開始剤（Ｂ）、下記一般式（１）で表される化合物（Ｃ）を含むことを特徴とするガラスペーストであること、である。
【化１】


（式中、Ｒ_１〜Ｒ_６のうち１〜３個がアルキロイル基であり、残りの５〜３個がアクリル基またはメタクリル基である。）とする。 （もっと読む）

【課題】塗布、加熱処理を行った後も塗布膜の反射率のばらつきが少なく、フォトリソグラフィ法によりパターン加工を行う際の下地層として用いた場合に、パターンの底部幅のばらつきの少ないガラスペーストを提供する。
【解決手段】低軟化点ガラス粉末（Ａ）、熱重合開始剤（Ｂ）、下記一般式（１）で示される化合物（Ｃ）およびビスフェノール骨格を有するアクリルモノマー（Ｄ）を含むことを特徴とするガラスペーストとする。
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【課題】省電力のプラズマディスプレイパネルおよびそれを製造するためのガラスペーストを提供する。
【解決手段】 低軟化点ガラス粉末および有機成分を含むガラスペーストであって、前記低軟化点ガラスは、ＦｅＯとＦｅ_２Ｏ_３を重量基準で合計１〜１０００ｐｐｍの範囲内含み、ＦｅＯとＦｅ_２Ｏ_３の含有量の合計に対するＦｅＯの含有量の比が重量基準で０．４０〜０．９５の範囲内であることを特徴とするガラスペーストとする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、低コストにて、高温処理を必要とせず、高品質（結晶性の良い）酸化マグネシウム絶縁膜を成膜する技術を提供する。
【解決手段】本発明では、金属源を含む溶液（４）をミスト化させる。一方、酸化マグネシウム絶縁膜が成膜される基板（２）を加熱する。そして、加熱中の基板の第一の主面上に、ミスト化された溶液を経路（Ｌ１）にて供給すると共に、オゾン発生器（７）で生成されたオゾンを経路（Ｌ２）にて供給する。ここで、金属源はマグネシウムである。 （もっと読む）

【課題】各表示セルの特定の箇所に塗布するプライミング粒子放出粉体の量を制御することで発光効率の高いプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。
【解決手段】静電塗布法を用いて、プライミング粒子放出粉体の塗布量を制御する。走査電極２、維持電極３の電極近傍にプライミング粒子放出粉体を塗布する一方で放電ギャップ３０１及び電極とリブ６との間の空間３０２にはプライミング粒子放出粉体は塗布しない。また、走査電極２の電極近傍、維持電極３の電極近傍で濃淡をつけることで、放電を開始するまでの時間バラつきである統計遅れを調節する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ＭｇＣａＯ保護層を、高温の大気中における封着プロセスに導入した場合に、安定した低い放電電圧特性を有するプラズマディスプレイパネル及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】表示電極１２、１３を覆う誘電体層１４上に保護層１５が形成された前面板１０と、アドレス電極２２を覆う誘電体層２３上に隔壁２４が形成された背面板２０とが対向配置されたプラズマディスプレイパネルであって、
前記保護層は、酸化カルシウムと酸化マグネシウムの組成比の合計が少なくとも９５％以上のＣａＭｇＯ膜であり、表面に形成される炭素が１％以上存在する炭酸塩層１７の厚さが３．３ｎｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高精細で高輝度の表示性能を備え、かつ低消費電力のプラズマディスプレイパネルを実現することを目的とする。
【解決手段】前面板２と背面板１０とを対向配置して周辺部を封着部材により封着する封着工程を有するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記前面板２の保護層は、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、及び酸化バリウムから選ばれる少なくとも２つ以上の酸化物からなる金属酸化物により形成し、前記金属酸化物はＸ線回折分析において、特定方位面の前記金属酸化物を構成する前記酸化物の単体より発生する最小回折角と最大回折角との間にピークが存在するものであり、かつ前記第１基板の前記保護層形成後、前記第１基板を還元性有機ガスを含むガス雰囲気で焼成する工程を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】保護層の不良を早期に検出し、より短い時間で歩留りの改善を実現するＰＤＰの製造方法を提供する。
【解決手段】下地膜の表面に、揮発性溶剤に金属酸化物の結晶を含む微粒子を分散させたペーストを塗布することにより塗布膜を形成するステップ１と、塗布膜を乾燥させることにより塗布膜の表層部に微粒子を露出させるステップ２と、乾燥後の塗布膜における微粒子の被覆率により塗布膜の出来栄え検査を行うステップ３と、塗布膜を焼成することにより下地膜上に微粒子を付着させるステップ４と、を備える。 （もっと読む）