【課題】高精細で高輝度の表示性能を備え、かつ低消費電力のプラズマディスプレイパネルを実現することを目的とする。
【解決手段】本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、前面板に蒸着材を蒸着し保護層を形成するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記保護層は、前記保護層面におけるＸ線回折分析において、酸化マグネシウムの結晶方位面（１１１）のピークが発生する回折角と、当該ピークと同一方位の前記酸化カルシウムのピークが発生する回折角との間にピークが存在し、前記保護層のカルシウムの濃度は３ａｔｏｍ％以上１５ａｔｏｍ％以下であり、前記蒸着材は、酸化マグネシウムを主成分とし、さらにカルシウムおよびアルミニウムを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高精細で高輝度の表示性能を備え、かつ低消費電力のプラズマディスプレイパネルを実現することを目的とする。
【解決手段】本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、前面板に保護層を形成し、前記前面板と背面板とを封着する、プラズマディスプレイパネルの製造方法において、前記保護層面におけるＸ線回折分析において、酸化マグネシウムの結晶方位面（１１１）のピークが発生する回折角と、当該ピークと同一方位の前記酸化カルシウムのピークが発生する回折角との間にピークが存在するとともに、前記保護層のカルシウムの濃度は３ａｔｏｍ％以上１５ａｔｏｍ％以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高精細で高輝度の表示性能を備え、かつ低消費電力のＰＤＰを実現すること。
【解決手段】本発明のＰＤＰの製造方法は、保護層は、電子ビームによって原材料を蒸発させて、搬送した基板に形成し、基板搬送方向の線と電子ビームによる原材料の蒸発地点から基板面への垂線とを含む面内において、垂線と蒸発地点から基板搬送方向下流側の保護膜形成終期地点を結ぶ線とがなす角度αが６０°以上であり、原材料の蒸発の基板への入射する方向に、垂線方向の蒸発が含まれており、保護層は酸化マグネシウムと酸化カルシウムからなる金属酸化物により形成され、保護層面におけるＸ線回折分析において、酸化マグネシウムの結晶方位面（１１１）のピークが発生する回折角と、当該ピークと同一方位の酸化カルシウムのピークが発生する回折角との間にピークが存在すると共に、保護層のカルシウムの濃度は３ａｔｏｍ％以上１５ａｔｏｍ％以下である、ことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高精細で高輝度の表示性能を備え、かつ低消費電力のプラズマディスプレイパネルを実現することを目的とする。
【解決手段】本発明のプラズマディスプレイパネルは、保護層を形成した前面板と、前記前面板に対向配置した背面板とを備え、前記保護層は、酸化マグネシウムと酸化カルシウムからなる金属酸化物により形成され、前記保護層は、アルミニウムを含み、前記保護層面におけるＸ線回折分析において、酸化マグネシウムの結晶方位面（１１１）ピークが発生する回折角と、当該ピークと同一方位の前記酸化カルシウムのピークが発生する回折角との間にピークが存在するとともに、前記保護層のカルシウムの濃度を３ａｔｏｍ％以上１５ａｔｏｍ％以下である。また前記保護層のアルミニウムの濃度は、重量比率で１００ｐｐｍ以上２００ｐｐｍ以下であることが望ましい。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高精細で高輝度の表示性能を備え、かつ低消費電力のプラズマディスプレイパネルを実現する上で有用である。
【解決手段】本発明のプラズマディスプレイパネルは、表示電極対、誘電体層、および保護層を有した前面板と、背面板とを放電空間を形成して対向配置し、前記保護層は、少なくとも第１の金属酸化物と第２の金属酸化物とを含み、前記第１の金属酸化物は、酸化マグネシウムであり、前記第２の金属酸化物は、酸化カルシウム、酸化ストロンチウムおよび酸化バリウムの１種であり、前記保護層の前記放電空間側の前記第２の金属酸化物濃度は、前記保護層中の濃度よりも高いことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイパネルの駆動電圧を低減する。
【解決手段】保護層９は、少なくとも第１の金属酸化物と第２の金属酸化物とを含む。さらに、保護層９は、Ｘ線回折分析において少なくとも一つのピークを有する。ピークは、第１の金属酸化物のＸ線回折分析における第１のピークと、第２の金属酸化物のＸ線回折分析における第２のピークと、の間にある。第１のピークおよび第２のピークは、ピークが示す面方位と同じ面方位を示す。第１の金属酸化物および第２の金属酸化物は、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯからなる群の中から選ばれる２種である。背面板１０は、下地誘電体層１３と下地誘電体層１３上に配置された複数の隔壁１４とを含む。隔壁１４は複数の空隙を有する。隔壁１４の空隙率は、０％を超え、かつ、１．０％未満である。空隙の一つあたりの平均断面積は、０．２３μｍ²以上０．２９μｍ²未満である。 （もっと読む）

【課題】低電圧で良好な画像表示を行うことができるプラズマディスプレイパネルおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】それぞれの内表面に放電を発生させる電極２４、３２が形成された一対の基板２１、３１が空間を介して対向配置され、前記一対の基板２１、３１のうちの一方の基板２１に形成された前記電極２４を覆う誘電体層２６と前記誘電体層２６を覆う保護膜２７とを備え、前記保護膜２７は、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、希土類酸化物のいずれか、またはこれらの混合物、もしくは、これらのいずれかとマグネシウムとの複合酸化物により形成され、前記保護膜２７がイリジウムおよびパラジウムの少なくともいずれか一方（２８）を含有している。 （もっと読む）

【課題】金属酸化物を蒸発材料とする金属酸化膜の蒸着方法に関するものであり、特にプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰという）の保護膜の形成に関するもので、保護膜としての＜１１１＞配向したＭｇＯ膜の成膜速度を早くして、生産性の向上とパネル特性の向上を図る。
【解決手段】金属酸化物を蒸発材料とする蒸着方法において、前記蒸発材料の加熱手段として電子銃を使用し、該電子銃からの電子ビームを絞り、該電子ビームの直径をもとに蒸発材料への電子ビームの照射面積に合わせて、電子ビームの揺動波形を制御することを特徴とする金属酸化膜の蒸着方法であり、走査電極、維持電極、誘電体層及び保護膜から成る前面基板とアドレス電極、バリアリブ及び蛍光体からなる背面基板から構成されているプラズマディスプレイの保護膜であるＭｇＯ膜の成膜速度が速くなり、かつ良好なパネル特性が得られた。 （もっと読む）

【課題】低電圧で良好な画像表示を行うことができるプラズマディスプレイパネルおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】それぞれの内表面に放電を発生させる電極２４、３２が形成された一対の基板２１、３１が空間を介して対向配置され、前記一対の基板のうちの一方の基板２１に形成された前記電極２４を覆う誘電体層２６と前記誘電体層２６を覆う保護層２７とを備え、前記保護層２７が、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウムのいずれか、または、これらの混合物より形成され、かつ、前記保護層２７の波長４０６ｎｍの光に対する光学屈折率が１．５７以下である。 （もっと読む）

【課題】アルミニウムが均一に分散した酸化マグネシウム前駆体から作製することにより、十分に焼結密度が高い、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、及びアルミニウムを含む酸化マグネシウム焼結体を製造することが可能な製造方法を提供する。
【解決手段】酸化マグネシウム、酸化カルシウム、及びアルミニウムを含む酸化マグネシウム焼結体を製造する方法において、まず、アルミニウムを含む水酸化マグネシウムスラリーを調製し、前記水酸化マグネシウムスラリーを水熱処理した後、濾過、水洗、及び乾燥させて、水酸化マグネシウム粒子を得、これを焼成して、酸化マグネシウム粒子を得る。次に、前記酸化マグネシウム粒子、カルシウム化合物粒子、及びバインダーを混合、造粒して得た造粒粉末を型内で成形して成形体を形成し、前記成形体を焼結することで、前記焼結体を製造する。 （もっと読む）

【課題】放電電圧が低下くしかも放電特性が均一な高品質で信頼性に優れたプラズマディスプレイパネルおよびその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】金属酸化物を含む保護層２６が形成された前面基板２１と、隔壁３４および蛍光体層３５が形成された背面基板３１とを、保護層２６と隔壁３４と蛍光体層３５で囲まれる放電空間を介して互いに対向するように配置するとともに封着材を介して封着したプラズマディスプレイパネルであって、放電空間は、この放電空間に導入される還元ガスと金属酸化物との燃焼反応を促進させる触媒８１を含む構成である。 （もっと読む）

【課題】 焼結体表面の平滑性に優れ、スムーズな供給を可能とする、酸化マグネシウム焼結体からなる、プラズマディスプレイの保護膜用蒸着材を提供することである。
【解決手段】 酸化カルシウムを２〜５０質量％含み、かつ相対密度が９５％以上である酸化マグネシウム焼結体からなるプラズマディスプレイの保護膜用蒸着材であって、
酸化マグネシウム焼結体が、ＢＥＴ比表面積が５ｍ^２／ｇ以上、レーザ回折散乱式粒度分布測定による体積基準の累積５０％粒子径（Ｄ_５０）が０．1〜０．５μｍ、レーザ回折散乱式粒度分布測定による体積基準の累積１０％粒子径（Ｄ_１０）と体積基準の累積９０％粒子径（Ｄ_９０）との比Ｄ_９０／Ｄ_１０が１０以下である、純度９９．５質量％以上の酸化マグネシウム微粒子を原料とする、プラズマディスプレイパネルの保護膜用蒸着材。 （もっと読む）

【課題】大型のガラス基板や電極配置の違う基板トレイを用いても高品質のＰＤＰを安定して製造できるＰＤＰの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ガラス基板１０１を支持搬送する基板トレイ４７を備え、基板トレイ４７にはガラス基板１０１を支持する第１支持部１１１ａおよび第２支持部１１１ｂを配置し、第１支持部１１１ａは基板トレイ４７に固定し、第２支持部１１１ｂは基板トレイ４７に固定した固定部１１０に連結部１１２を介して連結し、ガラス基板１０１を基板トレイ４７に対向させたとき、第１支持部１１１ａおよび第２支持部１１１ｂはガラス基板１０１と基板トレイ４７の間に挟まれるように基板トレイ４７に配置した構成である。 （もっと読む）

【課題】酸化マグネシウムと酸化マグネシウム以外のアルカリ土類金属酸化物とを含みながらも吸湿性が低く、かつ電子ビーム蒸着法やスパッタリング法などの物理的気相成長法により二次電子放出係数が高い膜を製造することができる成膜用材料を提供する。
【解決手段】酸化マグネシウムと酸化マグネシウム以外のアルカリ土類金属酸化物とを、マグネシウムとマグネシウム以外のアルカリ土類金属のモル比として９８：２〜８０：２０の範囲となる割合にて含み、相対密度が９５．０〜９９．９％の範囲にある複合アルカリ土類金属酸化物であって、さらに価数が３価、４価又は５価のいずれかである少なくとも一つの金属元素の酸化物を、上記のアルカリ土類金属１モルに対して、該金属元素の量として０．０００２〜０．１モルの範囲となる量にて含有する複合アルカリ土類金属酸化物。 （もっと読む）

【課題】保護層の電子放出特性を向上し、高精細で高画質な画像表示性能を備えるプラズマディスプレイパネルを提供する。
【解決手段】互いに平行な複数の表示電極対とこれを覆う誘電体層と保護層とを前面基板に形成する前面基板作製ステップを有するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、保護層を、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、および酸化バリウムの群から選ばれる少なくとも１つ以上の金属酸化物により形成するとともに、前面基板作製ステップが、保護層を形成した後の前面基板を、酸素が存在する雰囲気下において３５０℃以上４００℃未満の温度条件で焼成する焼成ステップ（Ｓ１５）を含む。 （もっと読む）

【課題】ＡＣ型のプラズマディスプレイパネルのＭｇＯ膜の成膜等において、成膜速度を向上し成膜速度の制御性を向上する方法を提供する。
【解決手段】ＭｇＯ蒸着材を製造する方法において、純度が９８．０％以上のＭｇＯ粉末を電融し、徐冷してインゴットを作成した後解砕により所定の大きさのペレットを製造し、その後、該ペレットの表面を研磨してその表面粗さＲａを１．０μｍ〜１０μｍの範囲に設定することを特徴とするＭｇＯ蒸着材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】大画面化、高精細化に適するプラズマディスプレイパネルを提供することを目的とする。
【解決手段】ＰＤＰ１の保護膜８を、主成分であるＣｅＯ_２に対し、Ｓｒが１１．８ｍｏｌ％以上４９．４ｍｏｌ％以下の濃度範囲で添加され、結晶構造としてはＣｅＯ_２の結晶構造であるホタル石構造を保持し、且つ、（１００）配向を有する下層保護膜８ａと、これを覆うように（１１１）配向を有する上層保護膜８ｂを積層させて構成する。 （もっと読む）

【課題】ＰＤＰにおいて、放電電圧が低く、且つ、優れたライフ特性を有するものを提供する。
【解決手段】ＣｅＯ_２とＳｒＣＯ_３粉末を混合する。混合粉末を焼成し、金型に詰めて加圧成型して成型体とする。ここで、加圧成型する圧力は、加圧成型体のかさ密度が、真密度の６５％以上となるように設定する。加圧成型した成型体を再び焼成し、焼成した成型体をターゲット原料としてＥＢ蒸着を実施することで、保護層７を成膜する。
形成された保護層７は、Ｃｅ，Ｓｒ，Ｏからなる蛍石構造の酸化物であって、且つ（１００）面配向となる。 （もっと読む）

【課題】大画面化、高精細化に適するプラズマディスプレイパネルを提供することを目的とする。
【解決手段】ＰＤＰ１の保護膜８を、主成分であるＣｅＯ_２に対し、Ｓｒが１１．８ｍｏｌ％以上４９．４ｍｏｌ％以下の濃度範囲で添加され、結晶構造としてはＣｅＯ_２の結晶構造であるホタル石構造を保持し、且つ、（１００）配向を有する構成とする。これにより保護膜８中の二次電子放出特性、輝度、効率、長期信頼性の向上を図る。 （もっと読む）

【課題】高精細で高輝度の表示性能を備え、かつ低消費電力のプラズマディスプレイパネルを実現することを目的とする。
【解決手段】プラズマディスプレイパネルの製造方法において、保護層９は、誘電体層８上に下地膜９１を形成するとともに、下地膜９１上に酸化マグネシウムの結晶粒子９２ａが複数個凝集した凝集粒子９２を付着させて形成し、かつ下地膜９１を、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、及び酸化バリウムから選ばれる少なくとも２つ以上の酸化物からなる金属酸化物により形成し、金属酸化物は下地膜９１面のＸ線回折分析において、特定方位面の金属酸化物を構成する酸化物の単体より発生する最小回折角と最大回折角との間にピークが存在するものであり、前記下地膜の形成時の基板温度が３５０℃以下である。 （もっと読む）