【課題】２重極要素に静電４重極および静電６重極励起が追加された多要素静電シケイン・エネルギー・フィルタを提供すること。
【解決手段】絞りの位置に線焦点を形成することができる２重極、４重極および６重極要素の組合せを備える本発明に基づく荷電粒子エネルギー・フィルタは、空間電荷効果および絞りの損傷を低減させる。好ましい一実施形態は、このフィルタが、共役ブランキング・システムの役目を果たすことを可能にする。このエネルギー・フィルタは、エネルギー幅を狭くし、その結果としてビームをより小さくすることができる。 （もっと読む）

【目的】マルチビーム形成アパーチャによって散乱した荷電粒子によるブランキング偏向器アレイへの帯電とコンタミ成長を抑制する装置を提供することを目的とする。
【構成】描画装置１００は、荷電粒子ビームを放出する電子銃２０１と、マルチビームを形成するマルチビーム形成アパーチャ部材２０３と、マルチビームのうち、それぞれ対応するビームのブランキング偏向を行う複数のブランカーが配置されたブランキングプレート２０４と、マルチビーム形成アパーチャ部材２０３とブランキングプレート２０４との間に配置された、電磁レンズ２１２，２１４と、電磁レンズ２１２，２１４の間であってマルチビームの集束点位置に配置され、集束点から外れた荷電粒子の通過を制限する制限アパーチャ部材２１６と、複数のブランカーによってビームｏｆｆの状態になるように偏向された各ビームを遮蔽する制限アパーチャ部材２０６と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 複数の荷電粒子線の間の不均一性の補償に有利な描画装置を提供すること。
【解決手段】 照射系（１４０）と、アパーチャアレイ（１１７）と、複数のクロスオーバーを形成するレンズアレイ（１１９）と、複数の開口を備えた素子（１２２）と複数の投影ユニットとを含む投影系（１７０）と、を有する。レンズアレイ（１１９）は、上記複数のクロスオーバーのそれぞれの位置が上記素子における対応する開口に整合するように、該開口に対して偏心している集束レンズを含む補正レンズアレイ（１６２）と、上記複数のクロスオーバーを形成するように、補正レンズアレイにより形成された複数のクロスオーバーをそれぞれ拡大して結像する拡大レンズアレイ（１６３）と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 不要なイオンの放出を抑制することができ、不要なイオンによる下流の線形加速器側の汚染を低減する。
【解決手段】 レーザ光の照射によりイオンを発生させるレーザ・イオン源であって、真空排気される容器１０と、容器１０内に配置され、レーザ光の照射により多価イオンを発生するターゲット２１が収容された照射箱２０と、照射箱２０からイオンを静電的に引き出し、イオンビームとして容器１０の外部に導くイオンビーム引き出し部１２と、照射箱２０から引き出されたイオンビームを静電力により収束する静電レンズ５１と、静電レンズ５１の下流側の位置に設けられ、該位置で収束されたイオンビームを通過させるアパーチャ５２とを備えた。 （もっと読む）

【課題】 荷電粒子線による描画動作に支障を与えることなく、ストッピングアパーチャに堆積される汚染物質を効率よく除去する。
【解決手段】 荷電粒子線描画装置は、荷電粒子線を偏向するブランキング偏向器１８と、前記ブランキング偏向器で偏向された荷電粒子線を遮断するストッピングアパーチャ１９と、前記ストッピングアパーチャに堆積された堆積物を分解する活性種を気体から生成するための触媒２４と、前記触媒に前記気体を供給する供給機構２５と、を備える。前記堆積物を除去する除去動作では、前記荷電粒子線描画装置は、前記供給機構によって前記気体を前記触媒に供給しながら、パターンを描画する描画動作では前記荷電粒子線が照射されない領域に前記荷電粒子線を照射することによって、少なくとも前記領域に位置する前記触媒によって前記気体から前記活性種が生成され、該生成された活性種により前記堆積物を分解して除去する。 （もっと読む）

【課題】本発明は可変成形形電子ビーム描画装置に関して、第１の成形開口板３（又は絞り）上の電流密度分布を均一にするために、球面収差係数を減少させる手法とは異なる方法により球面収差起因の電流密度むらを解消することを目的としている。
【解決手段】
荷電粒子源、照明レンズ群、絞り、投影レンズ群、及び材料面の順にこれらが配置され、前記荷電粒子源から出射される荷電粒子ビームが前記照明レンズ群を介 して前記絞り上に照射され、更に投影レンズにより前記絞りの像が材料面上に結像される状態で絞りを通過したビームが材料上に照射される荷電粒子ビーム装置 において、前記照明レンズ群は、前記荷電粒子源の像が前記絞り上に結像しないように配置され、かつ前記照明レンズ群のうちの一つのレンズが、前記絞りの位置と光学的に共役関係にある位置に配置されて構成される。 （もっと読む）

【課題】
電子ビーム応用装置では，複数の電子ビーム検出器および電磁波発生手段をもつことにより性能向上が図れるが，空間的制約により同時に配置することが困難である。
【解決手段】
電子ビーム検出器（１０２，１０５）と電磁波発生手段（１０２，１０４，１０８，１０９）を両立した構成１００により，電子ビーム応用装置内部に多数の電子ビーム検出器及び電磁波発生手段を配置することができ，電磁波発生手段による試料表面の電位の制御やコンタミネーションの除去により，長期間安定した像観察が可能になる。 （もっと読む）

【課題】精度よく電子線のブランキングを行うことを可能とする。
【解決手段】ブランキング装置２０において、第１同軸伝送路２４Ａと第２同軸伝送路２４Ｂとによって、ブランキング電極１４ａ,１４ｂに対して、駆動回路２１、及び終端器２５を電気的に接続する。そして、駆動回路２１の出力インピーダンス、同軸ケーブル２２、第１同軸伝送路２４Ａ、第２同軸伝送路２４Ｂ、ブランキング電極１４ａ,１４ｂ、及び終端器２５の各特性インピーダンスを、例えば５０Ωに整合する。これにより、駆動回路２１から出力される駆動信号の反射が回避されるため、ブランキング電極１４ａ,１４ｂへの印加電圧にオーバーシュートやリンキングが発生することがなくなり、精度よく電子線のブランキングを行うことが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 鏡筒内部に配置されている部材が帯電または汚染されることを防止して描画性能の低下を最小限にとどめる。
【解決手段】 荷電ビーム源と、荷電ビームを偏向するブランキング電極１７ａ，１７ｂと、該ブランキング電極により偏向された荷電ビームを遮蔽するブランキングアパーチャー１８とを用い、該ブランキングアパーチャー１８で反射荷電粒子１６または発生した荷電粒子１６を吸収するための導電性モジュールを有し、前記導電性モジュールは、ブランキングアパーチャー１８よりも前記荷電ビーム源側に配置され、前記荷電ビームとは反対極性の電圧が印加される。 （もっと読む）

【課題】
マルチビーム方式の電子ビーム描画装置において、高精度な電子ビーム調整を行うことが出来る電子ビーム描画装置を提供する。
【解決手段】
電子源１１０から放出された電子ビーム１１１を、コンデンサレンズ１１２を通して平行ビームとなし、アパーチャ−アレイ１１３により複数のポイントビームに分離せしめ、個別にアライメント用偏向が可能なマルチアライナーアレイ１２９と、個別にオンオフ用偏向が可能なブランカーアレイ１１５とブランキング絞り１１９とを通して、前記複数のポイントビームを個々に試料１２４上に結像せしめる電子光学系を備えた電子ビーム描画装置において、前記マルチアライナーアレイ１２９によって前記ブランキング絞り１１９位置での電子ビームの位置を個々に調整するよう構成したことを特徴とする。 （もっと読む）

ビーム・ブランカ・アレイは、ベース・プレートと、複数の導体パッドと、接地プレートとを備える。導体パッドは、ベース・プレートに１次元アレイの状態で配列される。接地プレートは、ベース・プレートと接地プレートとの間にギャップのある状態で複数の導体パッドの上を覆ってベース・プレートに結合される。複数の導体パッドの各々は、接地プレートと共にギャップにまたがってビーム・ブランカを形成する。
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【課題】 信頼性の高いブランキングアパーチャアレイを生産性良好に提供する。
【解決手段】 略同一形状の二対の電極に偏向用電圧を印加する配線が各電極に接続されている。配線の接続は、隣り合う電極に同一の配線が接続する。二つの電極へ接続された一つの配線のうち、いずれかの電極に不良が存在する場合に、いずれか一方の配線が補償回路となり、ブランキングアパーチャアレイの歩留まりが向上する。 （もっと読む）