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Fターム[5C033FF10]の内容

電子顕微鏡 (5,240) | SEM用走査偏向系 (289) | その他 (85)

Fターム[5C033FF10]に分類される特許

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【課題】スキャン歪や荷電粒子線のランディング角度のばらつきに起因する測長値器差を低減し、荷電粒子線の絶対的な傾斜角度を高精度に測定する。
【解決手段】試料面上に形成されたピラミッドパターン90のSEM画像の撮像する際に、スキャン方向及び/又は試料5の搭載向きを、正および逆向きに変えた像を取得し、それぞれの結果を画像間で平均化することにより荷電粒子線の傾斜角度を高精度に測定する。これによりスキャン歪の影響や荷電粒子線のランディング角度のばらつきに起因する測長値器差を低減する。 (もっと読む)


【課題】電子線を走査して試料を観察するにあたって、高い分解能を有するとともに、電子線の走査に要する時間を短くできる試料観察装置を提供する。
【解決手段】ステージに載置された試料SMに電子線IBを照射して、試料SMからの電子線を検出することにより試料を観察する電子線検査装置に於いて、1つの電子筒体50は、試料SMに照射される複数の電子線IB及び試料SMからの電子線が通る電子線路を形成する複数の電子線照射検出系により構成される。ここで、複数の電子線照射検出系を同時に用いることで、検査の高速化を実現する。 (もっと読む)


【課題】荷電粒子線装置の制御回路と制御対象機器との間で偏向信号及び検出信号に対するノイズが生じる。一方で、ノイズ対策のために制御回路と制御対象機器とを接続するケーブルを短くすると試料室内部のメンテナンスが困難になる。本発明の目的は、メンテナンス性を損なうことなく、ノイズの影響を低減した高画質の画像が得られる荷電粒子線装置を提供することにある。
【解決手段】荷電粒子線を試料に照射するカラムと、前記カラムの内部の機器を制御する制御ユニットと、前記制御ユニットを移動させる移動機構とを備えることを特徴とする。制御ユニットを荷電粒子線照射による画像取得時にはカラムの近傍に配置し、保守時にはカラムから離れるように移動可能にする。 (もっと読む)


【課題】各ピクセルの輝度値の信頼性が均一な画像を得ることができ、1フレーム分の画像の取得に要する時間を効果的に短縮することが可能な、電子顕微鏡の制御方法、電子顕微鏡、プログラム及び情報記憶媒体を提供すること。
【解決手段】電子ビームが電子顕微鏡像を構成する所与のピクセルに対応する試料上の位置を照射しているときに連続的に取得された複数の検出信号の平均値mを求める処理と、求めた平均値mに基づき、検出信号の母集団の期待値μが信頼区間m±kに位置する確率γが所定の閾値pを超えたか否かを判定する処理とを、確率γが所定の閾値pを超えるまで繰り返し、確率γが所定の閾値pを超えたと判定された場合に、求めた平均値mを当該照射位置に対応する電子顕微鏡像のピクセル値として出力し、且つ電子ビームの走査として電子ビームの照射位置を移動させるための制御を行う。 (もっと読む)


【課題】低段差試料や帯電試料の観察、測定等において、反射荷電粒子信号に基づく画像を形成する際にも、倍率変動や測長誤差によらずに正確な画像を取得する装置、及びコンピュータプログラムを提供する。
【解決手段】二次荷電粒子信号を検出する第1の検出条件と、反射荷電粒子信号を検出する第2の検出条件との間で、荷電粒子線の走査偏向量を補正するように偏向器を制御する装置、及びコンピュータプログラムを提供する。このような構成によれば、検出する荷電粒子信号の変更による倍率変動や測長誤差を補正することが可能となるため、反射荷電粒子信号に基づく画像を正確に取得することが可能になる。 (もっと読む)


【課題】 高アスペクト構造であっても、パターン底部の寸法を高精度に計測できる荷電粒子線装置及び計測方法を提供する。
【解決手段】 アスペクト比の高いパターンが形成された試料のパターン寸法底部を計測する方法において、試料の同一領域に荷電粒子線を第1方向及び第1方向とは逆の第2方向に走査させたときにそれぞれ発生する信号荷電粒子に基づく第1走査像と第2走査像とを比較し、走査像の信号強度が小さい方を真値とし、走査像を再構築し、再構築した走査像を用いて試料に形成されたパターン底部の寸法を計測する。また、その方法を実現する荷電粒子線装置。 (もっと読む)


【課題】本発明は、エネルギーフィルタのエネルギー分解能を向上することを目的とする荷電粒子線装置の提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するための一態様として、試料から放出される荷電粒子をエネルギーフィルタに向かって偏向する偏向器を備えた荷電粒子線装置において、当該偏向器の複数の偏向条件ごとに、エネルギーフィルタへの印加電圧を変化させたときに得られる輝度値の変化を求め、当該輝度値の変化が所定の条件を満たす偏向条件を、前記偏向器の偏向条件として設定する荷電粒子線装置を提案する。 (もっと読む)


【課題】イメージシフトの際、両立が困難であった、広い偏向領域と高い寸法計測再現性とを両立できる荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】荷電粒子源101、偏向手段(103、104、105等)、焦点位置変更手段(106、108)を制御すると共に検出器119により検出された電気信号により画像用データを作成する制御演算部121と、撮像条件ごとに登録された補正係数を保存する記録部120を有する荷電粒子線装置において、制御演算部は、焦点位置を変えながら複数の画像を取得し、画像内のマークの位置ずれ量と、記録部に登録された補正係数にもとづいて、計測用画像を取得する際に、荷電粒子線のランディング角が垂直となるように光学条件を制御する。 (もっと読む)


【課題】従来の電子顕微鏡においては、直交度は電子顕微鏡毎に電子顕微鏡とは独立にあらかじめ直交と想定して製作された格子状サンプルを該当の顕微鏡で像観察し、該サンプルが画面上で直交として観察されるように該電子顕微鏡制御回路に補正をかけることで定義していた。また補正は画面上での目視による判断であり、補正も人による手動で実施していた。しかし、この方法においては格子状サンプルの製作上のばらつきにより、装置毎の直交度にばらつきが生じる可能性があった。また補正を手動で実施することで補正精度にばらつきが生じるといった問題があった。
【解決手段】上記目的を達成するために、直交度規定用に格子状サンプルではなく粒子状サンプルを使用し、円であるべき像を円として観察されるような調整を実施することで、直交度を規定することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】傾斜した試料の表面をチルトビームおよび左右視差角像で、焦点を連続的に補正しながら観察する際に、発生する視野ずれを抑制することのできる荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】 試料10表面に一次荷電粒子線の焦点を結ばせる対物レンズ7と一次荷電粒子線をチルトさせる傾斜角制御用偏向器53の中間に、視野補正用アライナー54を設置し、傾斜角制御用偏向器53のチルト角、レンズ条件、対物レンズ7と試料10までの距離からもとまる補正量にて、一次荷電粒子線のチルト時に発生する視野ずれを、対物レンズ7の焦点補正に連動して補正する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、電子顕微鏡のレンズ条件を変化させることなく、予備帯電によってもたらされる電位勾配を抑制する走査型電子顕微鏡の提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するための一態様として、試料表面を帯電させる第1のビームを試料上に走査した後に、試料より放出される電子を検出するための第2のビームを走査するように、走査偏向器を制御すると共に、第1のビームの走査領域の中心部に対して相対的に、第1のビームの走査領域の周辺部の電荷密度を高めるように、前記第1のビームを走査することを特徴とする走査電子顕微鏡を提案する。 (もっと読む)


【課題】走査電子顕微鏡において、装置内及び装置外からの磁場や振動などの影響により、SEM画像に障害が発生した場合、そのSEM画像を用いて簡単に精度よく原因を特定することを目的とする。また、SEM画像のパターンのラフネスに計測精度が影響されない測定手法を目的とする。
【解決手段】SEM画像取得時にY方向の走査ゲインをゼロにすることで、走査線方向(X方向)に一次元走査を行うと共に、当該走査によって得られる画像情報を、Y方向に時系列的に配列することで、二次元画像を作成する。相関関数により、当該二次元画像のずれ量データを取得し、当該データを周波数解析することで画像中に含まれる磁場や振動などを測定する。 (もっと読む)


【課題】 観察対象物に加工を施すことなく現状状態そのままでの観察を可能とする走査型電子顕微鏡の提供。
【解決手段】 鏡筒の開口先端部に観察対象物と接触させるシール部材を設け、真空ポンプにより鏡筒内が真空に引かれた場合にシール部材を介して当該鏡筒に観察対象物を吸着させ、鏡筒を観察対象物に直接接触させた状態で密着固定するようにした。すなわち、試料室がないかわりに吸着により観察対象物と鏡筒とが相対的に移動しないように密着固定させる。こうすると、試料室がないにも関わらず、鏡筒内を真空状態に確保することができ、また振動により鏡筒と観察対象物とは相対的に移動しないことから観察時の悪影響が生じない。こうして鏡筒を観察対象物に対し直接マウントすることで、従来では試料室に入りきらない観察対象物であっても加工を施すことなく現状状態そのままで観察を行うことができるようになる。 (もっと読む)


【課題】観察画像を生成するために必要なデータ容量を削減することのできる走査型電子顕微鏡を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明に係る走査型電子顕微鏡は、試料を1以上の直線状に走査し、走査線の開始位置と終了位置を特定する情報を、試料上の走査位置を示すアドレス情報として、1走査線毎の検出信号に付与する。 (もっと読む)


【課題】荷電粒子ビームを照射している最中に試料ステージを移動させても観察画像の歪みを生じさせないようにすることのできる観察画像取得手法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明に係る観察画像取得方法では、フレーム間でずれが生じている走査線を特定し、観察画像のうちその走査線以外の部分を、ずれている走査線の位置に合わせるように位置補正する。 (もっと読む)


【課題】
鏡体電流ノイズで発生する電子ビーム走査ずれを低減した電子ビーム式計測および検査装置と計測および検査方法を提供する。
【解決手段】
電子ビームを被検査対象物に照射する電子照射系と、前記電子照射系から出射され該被検査対象物に照射されるまでの電子ビームを通す鏡体と、前記鏡体を通って出た電子ビームを該被検査対象物に照射して発生した二次電子を検出する二次電子検出系と、前記二次電子検出系にて検出した二次電子に基づく信号を信号処理する信号処理系と、前記電子照射系より出射した電子ビームが前記鏡体を通る際に前記鏡体に流れる電流値を計測し、該電流値と予め定めた電流値とビーム位置ずれとの関係に基づき電子ビームの照射位置を補正する補正手段と、を備える計測または検査装置である。 (もっと読む)


【課題】モード変更やこれに伴うパラメータ調整といった面倒な作業を行うことなく、電子顕微鏡の倍率変更をシームレスに行えるようにする。
【解決手段】第一倍率制御モードで設定されるパラメータ値セットと、第二倍率制御モードで設定されるパラメータ値セットとを記憶するためのパラメータ値セット記憶手段189と、電子線撮像手段11で撮像される電子顕微鏡画像の電子顕微鏡倍率を調整するための電子顕微鏡倍率調整手段と、倍率制御モード切替手段による倍率制御モードの切り替えに伴って、パラメータ値セット記憶手段189に記憶されたパラメータ値セットを切り替えて設定するためのパラメータ値セット設定手段188とを備え、倍率制御モード切替手段が、電子顕微鏡倍率調整手段で調整される表示倍率が所定の倍率制御モード切替倍率に達したとき、第一倍率制御モードと第二倍率制御モードとを切り替える。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、異なる帯電が混在するが故に、正確な検査,測定が困難になる可能性がある点に鑑み、異なる帯電現象が含まれていたとしても、高精度な検査,測定を可能ならしめる方法、及び装置の提供にある。
【解決手段】上記目的を達成するための一態様として、荷電粒子線走査個所の表面電位の電位計測結果から、当該走査個所より広い領域の電位分布に基づいて得られる電位を減算する装置、及び方法を提案する。このような構成によれば、特性の異なる帯電現象が混在するような場合であっても、走査荷電粒子線装置による正確な検査,測定を行うことが可能となる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、小型で高効率の二次信号電子の検出系を実現することを目的とする。
【解決手段】一次電子線を走査するために用いる偏向器を用い、試料から放出される二次信号電子に対してのみ偏向作用する電磁界を重畳的に発生する。すなわち、一次電子線に対しては電界の偏向作用と磁界の偏向作用が相殺され、かつ、二次信号電子に対しては偏向作用が働く電界及び磁界を重畳させるオフセット電流及びオフセット電圧を、一次電子線を走査させる電界又は磁界を発生する偏向器に発生させる。 (もっと読む)


【課題】荷電粒子線装置において、短時間かつ高精度にビーム電流を測定することおよび設定することが可能な計測技術を提供すること。
【解決手段】荷電粒子源を試料に照射し、その試料から発生する信号を検出する荷電粒子線装置において、荷電粒子ビームを試料上に収束または照射する荷電粒子光学系と、荷電粒子線の走査によって試料から発生する信号を検出する検出手段と、荷電粒子ビームの電流を測定するための検出素子と、荷電粒子の走査を実現する偏向電極、あるいは偏向コイルを備え、これを制御する電圧もしくは電流を印加する制御部と、荷電粒子ビームの光学条件を記憶可能な演算装置を具備し、予めビーム電流のピーク電流が得られる条件を記憶しておくことで、光学条件に応じてビーム偏向範囲を参照することで、ビーム偏向を検出素子近傍のみに制限し、荷電粒子ビームの電流値を計測する。 (もっと読む)


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