【課題】
電子線を照射し、その二次電子などを検出する検出系では高速で検出するには検出器の面積が重要なファクタである。現在の電子光学系、検出器の技術では一定以上の面積の検出器が必要で、面積に逆比例する周波数で制約を受け、２００Msps以上の検出は実質的に困難である。
【解決手段】
例えば必要面積４mm角、４mm角時の速度を１５０Mspsとして４００Mspsで検出するには、単体の高速な２mm角の検出器を４個並べ、それらを増幅後、加算してA/D変換する。又は、二次電子偏向器で順次８mm角の検出器に二次電子を入射させ、１００Mspsで検出、A/D変換後並べる。いずれも、４mm角の面積と４００Mspsの速度を達成可能である。
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【課題】 バックグランド，検出系及び走査信号の影響や、Ｓ／Ｎ比の低下による波形歪みの無い検出信号を得る。
【解決手段】 電子銃１、集束レンズ２、対物レンズ３、偏向器５Ｘ，５Ｙ、二次電子検出器７、二次電子検出器７の出力信号の内、任意のレベル域にある信号を切り出す振幅制限器１３、及び振幅制限器１３の出力信号の振幅を調整する信号レベル調整回路１４を備えた。 （もっと読む）

本発明は試料表面を検査する方法に関する。この方法は、試料表面に向けて誘導される複数の一次ビームを発生するステップと、複数の一次ビームを、試料表面上のそれぞれの位置に集束させるステップと、一次ビームが入射するとすぐ、試料表面から発生する荷電粒子の、複数の二次ビームを収集するステップと、収集された二次ビームの少なくとも１つを光学ビームに変換するステップと、光学ビームを検出するステップとを含む。
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【課題】線幅０．２μｍ以下のパターンの評価を、高いスループット、かつ、高い信頼性を確保しておこなう。
【解決手段】電子銃２から放出された電子線を矩形に成形し、試料Ｓ上の視野を走査し、その走査領域から放出された電子を写像投影光学系で拡大し、その拡大像をシンチレータ５１に結像させ、リレー光学系でＣＣＤに導き、二次元像を得る構成の電子線装置において、前記ＣＣＤには前記二次元像を映像できる面を少なくとも二つ設け、一方の面が拡大像を受像中に他の面から画像データを取り出すことを特徴とする電子線装置。 （もっと読む）

従来システムの低い解像度及び甚だしい直線性要求を克服する高データレート電子ビームスポット格子アレー像形成システムが提供される。実施形態は、像形成されるべき物体の表面上に互いに離間されたスポットのアレーを同時に照射するための電子ビーム発生器と、上記スポットと上記物体の表面との相互作用の結果として放出される後方散乱電子及び又は二次電子を収集して、上記物体表面の照射部分の像を形成するための検出器とを備えた像形成システムを含む。機械的システムが、上記スポットのアレーの軸にほぼ平行な方向に基板を移動し、その基板が走査方向（ｙ方向）に上記スポットアレーを横切って移動されたときに、上記スポットは、機械的な交差走査方向（ｘ方向）にギャップを残さない経路をたどる。サーボ又は可動ミラーのような補償装置が、可動ステージにおける機械的な不正確さを補償し、これにより、像形成精度を高める。他の実施形態では、基板に対して異なる角度で配置された多数の検出器が電子を収集し、基板表面の多視点像形成を与える。
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【課題】 適切な観察を行うために、特に試料汚染及びパターン収縮を抑えるために、操作者にかかる負担を軽減することができる電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】 電子線の照射が開始されると、警告値比較部５が警告値入力部３に入力された警告値とドーズ量測定部１が測定した累積ドーズ量とを比較し、許容値比較部４が累積ドーズ量と許容値入力部２に入力された許容値とを比較する。これらの比較の結果、累積ドーズ量が警告値に達している場合、累積ドーズ量が許容値に近づいている旨の警告を警告部８が発し、累積ドーズ量が許容値に達している領域が存在する場合、通知部６がその旨を通知する。また、累積ドーズ量が許容値に達している領域が存在する場合には、照射遮断部７が当該領域への電子線の照射を遮断する。特に、チップ全体で累積ドーズ量が許容値に達している場合には、照射対象変更部９が他のチップへ電子線を照射するようにステージ等の制御を行う。 （もっと読む）

イオン検出器から電子検出器へと切り換え可能な粒子検出器はイオン−電子変換器およびシンチレータ検出器を有する。構成部品への１セットの電圧で、変換器は電子の軌道上で最小限の衝突を有し、それゆえに電子がシンチレータ検出器によって効率的に検出される。構成部品への異なった電圧設定で、大部分のＦＩＢ応用について充分な効率で陽イオンを収集するように検出器が陽イオンのモードで動作することが可能である。このイオン−電子変換器は円筒の形状であるか、または複数の平行プレートを有することが好ましい。 （もっと読む）