【課題】蛍光マーカーを付着させた標的タンパク質の位置の特定を、同時に多数行う事のできる顕微鏡システムを実現する。
【解決手段】試料３０６中の標的タンパク質に付与した蛍光マーカーを光３２４により励起し、蛍光マーカーからの光３２８を放物面鏡３１４により集光して光検出器３６０で検出すると共に、荷電粒子ビーム３０４を走査する事により蛍光マーカーを不活性にすることによって励起位置を特定する。同時に、放出される二次電子３３２を放物面鏡３１４の表面に印加された電界により二次電子検出器３２０へ向けて偏向させる事により検出して試料像を形成する。 （もっと読む）

【課題】 試料面から放出される反射電子や二次電子の試料面側への再反射を防止すると共に、電子検出器での電子検出量を増大させる。
【解決手段】 電子ビーム照射装置において、電子ビームを試料面上に照射するための対物レンズ１０と、対物レンズ１０と試料面２０との間に配置され、試料面２０から放出される反射電子或いは二次電子を検出する電子検出器３０と、電子検出器３０と試料面２０との間に配置され、試料面２０から放出される反射電子或いは二次電子の試料面２０側への再反射を防止する反射防止機構４０を備えている。反射防止機構４０は、試料面２０からの反射電子或いは二次電子の螺旋軌道に沿った複数の孔４２を有している。 （もっと読む）

【課題】粒子光学顕微鏡において、光電子増倍管が大きい結果生じるシンチレータと光電子増倍管との間での信号損失、及び、過剰に流れる電流を抑制する。
【解決手段】粒子光学鏡筒を用いて、荷電粒子の結像ビームを試料へ案内する手順、前記結像ビームを前記試料へ照射することで、前記試料から出力放射線束を放出させる手順、検出器を用いて前記出力放射線の少なくとも一部を検査する手順に加え、調節可能な電気バイアスを供する電源と接続する固体光電子増倍管を有するように前記検出器を実装する手順、前記固体光電子増倍管の利得値を調節するように前記バイアスを調節する手順、前記固体光電子増倍管が、該固体光電子増倍管の飽和閾値未満で動作するように、前記利得値を、前記放射線束の大きさに一致させる手順である。 （もっと読む）

【課題】軸合わせの作業に訓練と経験を積んだ者でなくとも、容易にかつ精度良くエネルギー分析器の位置合わせを行うことができる技術を提供する。
【解決手段】エネルギー偏向器を備えたエネルギー分析器の軸合わせを行う方法において、試料を３次元的に移動可能な試料ステージに載置し、エネルギー偏向器の直前にスリットを備えた２次電子捕集器を設け、エネルギー偏向器に設けたスリットから特定の信号電子を通過させ、エネルギー偏向器を通してスペクトル強度を検出するとともに、２次電子捕集器により２次電子を捕集し、２次電子強度を検出し、両信号強度の比を算出する手法により、ｘ−ｙ平面で１次ビームを移動させ、ｘ−ｙ平面における位置に対する信号強度比の曲線を得て、ピーク位置を求めるとともに、試料をｚ方向に移動させ、ｚ方向の位置に対する信号強度比の曲線を得て、ピーク位置を求め、ｘ−ｙ平面におけるピーク位置とｚ方向におけるピーク位置で定まる点を最適点とする。 （もっと読む）

【課題】気体電界イオン源を用いて試料表面でスポットサイズ１０ｎｍ以下のイオンビームを有する汎用性、長器信頼性に優れたイオン顕微鏡を実現する。
【解決手段】イオン源の導電性電極先端１８６の材料と形状を最適化して表面に三量体の原子層を形成し、極低温状体で動作させることにより気体ヘリウムとのイオン化効率を向上する。試料からオージェ電子、二次イオン、二次中性粒子、一次中性粒子、散乱イオン及び光子等の追加の粒子を検出することにより試料についての情報を決定するように構成する。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で放電を防止し、良好な画像を高い検出効率で得る。
【解決手段】シンチレーター２１をフォトマルチプライヤー２３の入射側面２３ａに、電子をシンチレーター２１に引き込むシンチレーターキャップ２２をシンチレーター２１の周囲に配置する。フォトマルチプライヤー２３はその周囲に真空シールを設け、試料室に配置する。シンチレーターキャップ２２とフォトマルチプライヤー２３との間には不透明素材からなる絶縁部材２５を配置し、絶縁部材２５はシンチレーターキャップ２２とフォトマルチプライヤー２３を絶縁すると共に、フォトマルチプライヤー２３の側周部２３ｂを覆いフォトマルチプライヤー２３への光の入射を防止する。シンチレーター２１とフォトマルチプライヤー２３の入射側面２３ａとの間には、光学顕微鏡の照明光を遮断するバンドフィルター２７を配置し、光学顕微鏡との同時観察を可能とする。 （もっと読む）

【課題】 観察対象物に加工を施すことなく現状状態そのままでの観察を可能とする走査型電子顕微鏡の提供。
【解決手段】 鏡筒の開口先端部に観察対象物と接触させるシール部材を設け、真空ポンプにより鏡筒内が真空に引かれた場合にシール部材を介して当該鏡筒に観察対象物を吸着させ、鏡筒を観察対象物に直接接触させた状態で密着固定するようにした。すなわち、試料室がないかわりに吸着により観察対象物と鏡筒とが相対的に移動しないように密着固定させる。こうすると、試料室がないにも関わらず、鏡筒内を真空状態に確保することができ、また振動により鏡筒と観察対象物とは相対的に移動しないことから観察時の悪影響が生じない。こうして鏡筒を観察対象物に対し直接マウントすることで、従来では試料室に入りきらない観察対象物であっても加工を施すことなく現状状態そのままで観察を行うことができるようになる。 （もっと読む）

【課題】高精度に試料の不純物濃度分布を測定する方法を提供する。
【解決手段】本発明の試料の不純物濃度分布を測定する方法は、走査工程、フィルタ工程、二次電子の強度を測定する強度測定工程、ハイパスフィルタ１７のカットオフエネルギー値Ｅｃを段階的にＮ−１回上昇させる工程、及び、二次電子の強度のエネルギー分布曲線ＲＬ、ＲＨを評価する工程とを備える。カットオフエネルギー値Ｅｃの各段階において、走査工程、フィルタ工程、及び、強度測定工程が行われる。ｍを１以上Ｎ以下の任意の整数、ｐを１以上Ｎ−１以下の任意の整数、ｍ段階目のカットオフエネルギー値ＥｃをＥ_ｍ、カットオフエネルギー値ＥｃがＥ_ｍである際に測定された二次電子の強度をＩ_ｍとしたとき、Ｉ_ｐ＋１−Ｉ_ｐの値を、Ｅ_ｐ以上Ｅ_ｐ＋１以下のエネルギーを有する二次電子の強度とみなす。 （もっと読む）

【課題】電子線を照射した試料からの特性Ｘ線を回折させてスペクトルを採取するＸ線検出システムにおいて、適切な集光を行うＸ線集光ミラーを備えることでエネルギー分布スペクトルの検出精度を維持する。
【解決手段】試料に対して電子線を照射する電子線照射部と、電子線が照射された前記試料から放出される特性Ｘ線を集光させて回折格子に導くＸ線集光ミラーと、前記Ｘ線集光ミラーの位置もしくは角度を調整するＸ線集光ミラー調整部と、前記Ｘ線集光ミラーにより集光された特性Ｘ線を受けて回折Ｘ線を生じさせる回折格子と、前記回折格子で生じた回折Ｘ線を検出するイメージセンサと、を備え、前記Ｘ線集光ミラー調整部は、前記Ｘ線集光ミラーの反射面において反射する前記特性Ｘ線のエネルギーに応じて反射可能な角度範囲で、前記Ｘ線集光ミラーの位置もしくは角度を調整する。 （もっと読む）

【課題】 正イオン及び負イオンの検出効率を向上させることができるイオン検出装置を提供する。
【解決手段】 イオン検出装置１は、正イオン及び負イオンを進入させるイオン進入口３が設けられたチャンバ２と、チャンバ２内に配置され、負電位が印加されるコンバージョンダイノード８と、チャンバ２内に配置され、コンバージョンダイノード８と対向しかつコンバージョンダイノード８から放出された二次電子が入射する電子入射面１１ａを有するシンチレータ１１と、電子入射面１１ａに形成され、正電位が印加される導電層１３と、二次電子の入射に応じてシンチレータ１１で発せられた光を検出する光電子増倍管１５と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、ＴＥＭ画像形成の質を改善することである。
【解決手段】
透過型電子顕微鏡の検出器システムにおいて、画像取得期間の間に、画像データがピクセルから読み出され、分析される。画像取得プロセスは、分析結果に基づいて修正される。例えば、分析は、チャージングやバブル形成の画像アーチファクトのデータへの混入を示す。そして、アーチファクトを含むデータは、最終画像から取り除かれる。ＣＭＯＳ検出器は、高速なデータレートで選択的にピクセルを読み出し、リアルタイムの適応画像処理を提供する。 （もっと読む）

【課題】イオンビームと電子ビームの両方を試料へ照射して、試料の加工と観察を行う荷電粒子線装置において、イオンビームと電子ビームの両方に対して共通の検出器を有し、試料の加工内容や観察手法に応じて適した位置に検出器を設けることができる荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】試料の観察面を観察するための電子ビームを発生させる電子ビーム光学系カラムと、試料を加工するイオンビームを発生させるイオンビーム光学系カラムと、試料から発生した二次信号または透過電子を検出する検出器と、該検出器を載置し電子ビームの光軸とイオンビームの光軸とが交わるクロスポイントを中心として両光軸を含む平面内で回転可能であり、試料の観察面とクロスポイントとの間の距離を変えることができる試料ステージとを備える。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、透過型電子顕微鏡の性能を改善することである。
【解決手段】 透過型電子顕微鏡用の検出器システムは、パターンを記録する第1検出器、及び、前記パターンの部位の位置を記録する第2検出器を有する。前記第2検出器は、前記第1検出器上のパターンの位置を安定化させるフィードバックとして用いることのできる正確かつ迅速な位置情報を提供する位置に敏感な検出であることが好ましい。一の実施例では、前記第1検出器は、電子エネルギー損失電子スペクトルを検出し、かつ、前記第1検出器の後方に位置して、前記第1検出器を通過する電子を検出する前記第2検出器は、ゼロ損失ピークの位置を検出して、前記第1検出器上のスペクトル位置を安定化させるように電子の経路を調節する。 （もっと読む）

【課題】電子線を照射した試料からの特性Ｘ線を回折格子により回折させてイメージセンサでスペクトルを採取するシステムにおいて、幅広いエネルギー領域の測定を行う。
【解決手段】試料に対して電子線を照射する電子線照射部と、電子線が照射された前記試料から放出される特性Ｘ線を受けて回折Ｘ線を生じさせる回折格子と、前記回折Ｘ線のエネルギー分散方向と直交方向の複数の位置に前記回折Ｘ線の結像面を振り分けるように前記回折Ｘ線の進行を振り分けるスプリッタと、前記スプリッタにより振り分けられた複数の結像面のそれぞれに配置された異なるエネルギー感度特性の複数のイメージセンサと、を有する。 （もっと読む）

【課題】高分解能観察において、収差の変化を伴う時間的遅延を最小に留め、且つ、収差係数の算出精度が高い収差補正方法及び収差補正装置の提供を目的とする。
【解決手段】収差補正子を有する走査透過電子顕微鏡において、複数の検出面を備える検出器に対して電子線を入射させ、前記電子線による暗視野像および前記検出面毎に前記電子線の角度情報を含む明視野像を同時に撮像し、前記暗視野像を観察像の位置基準として前記複数の明視野像から収差係数を算出し、算出した前記収差係数に基づき、収差が低減するように前記収差補正子を制御する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、パターンから放出される電子を適正にパターン外に導くための電界を形成する電子ビーム走査方法、及び走査電子顕微鏡の提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するために、帯電を形成するための電子ビームを、試料に照射する際に、試料上に形成されたパターンのパターン中心を対称点とする第１の位置と第２の位置に、第１の電子ビームを照射した後、対称点を中心とした第１と第２の位置と同一の半径上であって、第１と第２の照射位置との間の２つの中心位置に更に第１の電子ビームを照射し、更にその後、半径上の既走査位置間の中心位置への第１の電子ビームの照射を繰り返す。 （もっと読む）

【課題】走査電子像と光学像との同時観察が可能であり、而も構造も簡単な電子顕微鏡装置を提供する。
【解決手段】電子ビームを走査する走査手段１０と、電子ビームが走査された試料８から発せられる電子１１を検出する電子検出器１２を有し、該電子検出器からの検出結果に基づき走査電子像を得る走査型電子顕微鏡２と、照明光を射出する発光源１３を有し、試料に照明光を照射して該試料からの反射光を受光して光学像を得る光学顕微鏡３とを具備し、前記電子検出器は電子／光変換する蛍光体層と、該蛍光体層からの蛍光の波長帯域の全て或は略全てが透過する様に制限した波長フィルタと、該波長フィルタを透過した前記蛍光を受光し、光／電気変換する波長検出素子を有し、前記照明光の前記波長フィルタを透過する波長帯域の光量が前記走査電子像の劣化限度を超えない様にした。 （もっと読む）

【課題】物体を広い領域にわたり所望の形状に加工する。
【解決手段】粒子ビームを物体の表面にわたって走査して物体から出射する電子を検出するステップと、検出した電子に基づき物体表面の高さを求め求め、予め決定された物体表面の高さとの間の高低差を求めるステップと、物体の表面における複数の場所それぞれの加工強度を、求めた高低差に基づき決定するステップと、物体の複数の場所から材料を除去するか又は物体の複数の場所に材料を堆積するために、決定した加工強度に基づき、粒子ビームを複数の場所に指向させるステップと、を有する。 （もっと読む）

【課題】高ＳＮ比を維持しつつ形状コントラストや陰影コントラストを強調した荷電粒子線画像が得られる荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】
電子源と試料の間に、二次電子ないし反射電子を衝突させて３次電子を発生させるための金属板を備え、この金属板を各々独立に電圧を印加可能な分割領域により構成する。さらに金属板に設けられる一次ビームの通過孔を電子線光軸から十分離れた場所に設ける。 （もっと読む）

【課題】
電子ビーム応用装置では，複数の電子ビーム検出器および電磁波発生手段をもつことにより性能向上が図れるが，空間的制約により同時に配置することが困難である。
【解決手段】
電子ビーム検出器（１０２，１０５）と電磁波発生手段（１０２，１０４，１０８，１０９）を両立した構成１００により，電子ビーム応用装置内部に多数の電子ビーム検出器及び電磁波発生手段を配置することができ，電磁波発生手段による試料表面の電位の制御やコンタミネーションの除去により，長期間安定した像観察が可能になる。 （もっと読む）