【課題】設計パターンをテンプレートとし、画像からテンプレートと一致するパターンを抽出するときに、画像に下地パターンが現れていても誤判断のないテンプレートマッチング方法、および走査電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】試料へ電子線を照射して発生する二次電子の情報を用いて試料を画像化する走査電子顕微鏡において、前記試料に加工するパターンの設計データからエッジを抽出し、該エッジをテンプレートとして登録する記憶部と、前記画像のパターンのエッジを抽出し該エッジと前記設計データのエッジとを比較して、前記画像のパターンと前記設計データとの一致度を判断する演算部とを備える。 （もっと読む）

【課題】様々な走査形式で入力される画像に対して、自由度の高い画像処理を行うにあたって、回路構成を複雑化することなく画像処理が可能な画像処理装置と、それを備えた荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】荷電粒子ビームを試料上で走査し、該試料から発生する信号を検出して試料像を形成する荷電粒子線装置において、前記荷電粒子ビームの走査モードを設定する入力手段と、該入力手段で設定された走査モードに従って前記試料像を形成する画像処理装置とを備え、該画像処理装置は、前記荷電粒子ビームの走査モードに対応した試料上のアドレスデータを演算する並べ替え制御手段と、該アドレスデータの値に従って前記デジタル化された信号を並べ替える順次走査形式変換手段とを有する。 （もっと読む）

【課題】振動による像障害の評価、管理や影響を低減するための調整を容易に行えるようにするのに好適な走査型荷電粒子線装置、その像表示方法、および走査型顕微鏡を提供する。
【解決手段】１画像を取得する期間に相当する垂直走査信号の周期を、正弦波状の振動において１周期の中の前半の半周期（第１の期間）と後半の半周期（第２の期間）であるようにした。それぞれの画像の差異を比較できるように、画像をインターレース走査表示の奇数フィールドと偶数フィールドに表示できるようにした。これにより、同じ視野に対して、第１の期間および第２の期間に取得した画像同士を比較することで、振動によって像が揺れる方向と大きさを同時に表示することができる。 （もっと読む）

【課題】 既知の周期構造を有する試料の周期構造パターンの向きと、試料の電子像上におけるＸ方向またはＹ方向とに回転方向のずれがある場合においても、回転方向のずれを一致させることなく、１回の測定でＸ方向とＹ方向の倍率誤差を同時に測定し、補正することのできる荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】 本発明による荷電粒子線装置においては、既知の周期構造を有する試料の周期構造パターンの向きと、試料の電子像上におけるＸ方向またはＹ方向とに回転方向のずれがある場合においても、電子像をＦＦＴ変換し、座標変換することによりＸ方向とＹ方向の倍率誤差を同時に測定することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】半導体装置の高精度な評価が可能な半導体検査装置および検査方法を提供する。
【解決手段】ｐｎ接合およびプラグが形成された段階の半導体ウエハ２２に対して、ｐｎ接合に実動作時と同等の電位が印加されるような照射条件で一次電子線１７を複数回照射し、これに応じて発生した二次電子線１８をフォトマル６７で検出し、その検出信号を二次電子検出系回路部３４に出力する。二次電子検出系回路部３４は、入力された検出信号をアンプ６２，６３で増幅後、Ａ／Ｄ変換器６６を経由して二次電子画像５１の輝度信号を出力する。このような検査に際し、一次電子線１７の大きさを一次電子線量モニタ部３６で監視し、二次電子検出系回路部３４の増幅率およびオフセット電位を一定レベル信号モニタ部３７で監視し、これらに変動が生じた場合には二次電子画像５１の輝度信号に対して変動分の補正を行う。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、荷電粒子線照射による帯電の影響を回避しつつ、視野ずれの抑制を実現するのに好適な試料像形成方法，荷電粒子線装置の提供にある。
【解決手段】
上記目的を達成するために本発明では、試料上に荷電粒子線を走査し、試料から放出された二次信号に基づいて画像を形成する試料像形成方法において、複数回の走査で得られる複数の画像を合成して合成画像を複数形成し、当該複数の合成画像間の位置ずれを補正して画像を合成し、更なる合成画像を形成することを特徴とする試料像形成方法、及びこの方法を実現するための荷電粒子線装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】 基準パターンが繰り返し配置されたアレイ構造中の指定位置を、基準パターン計数によって特定する指定位置特定する。
【解決手段】 アレイ構造像において、始点の位置、始点の番地、単位ベクトルから生成したパターン検出予測領域と、基準パターン像とのパターンマッチングで求めパターン検出位置を比較し、正検出、検出落とし、誤検出などの判断をしながらパターン計数を実施する。イメージシフト偏向器を用いて視野をずらせながらアレイ構造像を順次撮影し、始点からのパターン計数を継続し、番地で指定された終点の位置を特定する。イメージシフト偏向器のみでは終点に到達しない場合は、イメージシフト偏向器の視野移動範囲を試料ステージで移動させ、イメージシフトによる視野移動を継続させる。 （もっと読む）

【課題】測定対象のラインとスペースがほぼ等間隔に形成されているときに、ラインとスペースを識別することのできるパターン測定装置及びパターン測定方法を提供すること。
【解決手段】パターン測定装置は、荷電粒子ビームを走査して、試料上に形成されたパターンのラインプロファイルを作成するラインプロファイル作成部と、ラインプロファイルを２次微分して２次微分プロファイルを作成する微分プロファイル作成部と、２次微分プロファイルから得られるパターンのエッジ位置の近傍に出現する２つのピーク位置とピーク値からパターンのエッジが立ち上がりか立下りかを判定するエッジ検出部とを備える。エッジ検出部は、２次微分プロファイルから得られるパターンのエッジ位置の近傍に出現する２つのピーク位置をＸ１，Ｘ２（＞Ｘ１）としたとき、ピーク位置Ｘ１の信号量がピーク位置Ｘ２の信号量よりも大きいとき、パターンのエッジは立ち上がると判定する。 （もっと読む）

【課題】シュリンク量（あるいは測長値の真値からのずれ量）および再現性誤差量の双方を考慮して、荷電粒子線システムの最適なパターン寸法計測条件を決定する。
【解決手段】本発明者等は、シュリンク量と計測再現性誤差量とがトレードオフの関係にあることを見出した。また、同じシュリンク量であっても、一次荷電粒子線１１の照射エネルギ等を決定する測定パラメータ（加速電圧、電流量、観察倍率、フレーム数）によって計測再現性誤差量が異なることを見出した。そこで、測定パラメータである加速電圧、電流量、観察倍率、およびフレーム数の少なくとも２つを要因とする直交表を使って実験計画を立て、半導体デバイス１３のシュリンク量および計測再現性誤差量を計測する実験を行う。そして、実験結果から多元配置により各要因の水準の組み合わせにおけるシュリンク量および計測再現性誤差量を算出する。 （もっと読む）

【課題】標準試料を使用することなく正確に測定可能な走査型電子顕微鏡及びそれを用いる測定方法を提供すること。
【解決手段】試料６に対して走査する電子線（入射線）を断続的に照射し、該電子線が試料６に照射されたときに発生する後方散乱電子を後方散乱電子検出器２２で検出し、時間差検出部５３により、試料６に照射される電子線と後方散乱電子検出器２２で検出した後方散乱電子との時間差を比較計測し、試料表面の形状を測定する。 （もっと読む）

【課題】一次荷電粒子線を用いて、試料上の多数の測定点を迅速に処理することができる技術を提供する。
【解決手段】統括制御部２０１において、計算部２０１ａは、半導体ウェハ１３上の各測定点（一次荷電粒子線１１の照射位置）について、データ格納部２０１ｂに格納されている半導体ウエハ１３の表面電位分布関数から求まる当該測定点での表面電位の確からしさを求め、この確からしさに基づいて当該測定点での荷電粒子線光学系１０の設定パラメータ（例えばリターディング電圧）の振り幅を決定する。そして、決定した振り幅の範囲で設定パラメータを変化させながら一次荷電粒子線の集束状態を調べ、測定に用いる設定パラメータを決定する。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、荷電粒子線照射による帯電の影響を回避しつつ、視野ずれの抑制を実現するのに好適な試料像形成方法，荷電粒子線装置の提供にある。
【解決手段】
上記目的を達成するために本発明では、試料上に荷電粒子線を走査し、試料から放出された二次信号に基づいて画像を形成する試料像形成方法において、複数回の走査で得られる複数の画像を合成して合成画像を複数形成し、当該複数の合成画像間の位置ずれを補正して画像を合成し、更なる合成画像を形成することを特徴とする試料像形成方法、及びこの方法を実現するための荷電粒子線装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】ＳＥＭを用いて試料を撮像するための撮像レシピの自動生成において、（１）検査を要する箇所が増大すると，撮像レシピの生成に膨大な労力と時間を要する。（２）生成された撮像レシピの正確さ，そして生成時間が問題となる。（３）作成時に予想できなかった現象により，作成した撮像レシピによる撮像あるいは処理が失敗する場合がある。
【解決手段】（１）観察するための撮像ポイントの点数，座標，サイズ・形状，撮像シーケンス，撮像位置変更方法，撮像条件，撮像シーケンスの一部又は全てをＣＡＤデータから自動で算出するようにした。（２）撮像レシピ生成のための，入力情報，出力情報の組み合わせを任意に設定可能にした。（３）任意の撮像ポイントにおける撮像あるいは処理に対する成否判定を伴い、失敗したと判定された場合，撮像ポイントや撮像シーケンスを変更して撮像あるいは処理を成功させるリリーフ処理を行うようにした。 （もっと読む）

【課題】
本発明は低加速電圧領域で空間分解能の高い走査像を得ることの出来る走査形電子顕微鏡を提供することを目的としている。
【解決手段】
対物レンズ８の電子ビーム通路に加速円筒９を配置し、一次電子ビームの後段加速電圧１０を印加する。また、試料１２に重畳電圧１３を印加して加速円筒９と試料１２の間に一次電子ビームに対する減速電界を形成する。試料１２から発生された二次電子や反射電子等の二次信号２３は、試料直前の電界（減速電界）で加速円筒９内に吸引され、加速円筒９より上方に配置された二次電子検出器により検出される。 （もっと読む）

【課題】
電磁式対物レンズを用いた走査型電子顕微鏡において、焦点合わせの応答性の優れた走査型電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】
電子線を試料上で走査する走査手段と、試料から生じた二次電子および反射電子の少なくともひとつを検出する検出手段と、検出手段により検出された信号に基づいて生成された試料像を表示する表示手段と、電子線に収束作用を与え試料上に焦点を合わせる電磁式対物レンズと、該対物レンズの磁路、もしくは該磁路に配置されて電気的に絶縁された電極と、該電極に電圧を印加する電圧制御手段とを備え、該電圧制御手段により印加される電圧によって対物レンズを通過する電子線のエネルギーが高くなるように、かつ試料から生じた二次電子および反射電子の少なくともひとつを加速させるように電極が配置されるとともに、電圧制御手段により対物レンズを通過する電子線の焦点位置を変化させる構成とする。 （もっと読む）

【課題】短時間で最適な検査条件を容易に導くことができる電子線式パターン検査装置を提供する。
【解決手段】予め任意に設定された検査条件によって試料に生じた実欠陥部及びノイズが記憶されている基準欠陥ファイルを生成し、検査条件の自動変更を行って検査条件が自動変更される都度、変更された検査条件に基づいて、電子線を照射して生成された前記試料の画像上から当該試料に生じた欠陥部を検出して取得し、この検出された検査条件別の欠陥部を、基準欠陥ファイル生成工程で生成された基準欠陥ファイルに記憶されている試料に生じた実欠陥部及びノイズと照合し、当該照合結果に基づいて変更された検査条件の中から最適な検査条件を選択する。 （もっと読む）

【課題】走査電子顕微鏡等の荷電粒子線装置で、簡単な手法で試料上に形成された段差及び凹凸の判定、或いは３次元情報を得ることにあり、特に試料上に形成されたライン＆スペースパターンの凹凸判定に好適な判定方法、及び装置を提供する。
【解決手段】複数の焦点位置において、段差や凹凸を有する試料に荷電粒子線の照射を行う。前記試料から放出される信号の計測を行い、段差のエッジ部分に相当するプロファイル波形を比較することで、試料の段差や凹凸の情報を得る。 （もっと読む）

【課題】測長ＳＥＭの装置特性を電子線シミュレーションに反映させることで、電子線シミュレーションを用いた計測手法の安定化、高速化、高精度化をはかる方法を提供する。
【解決手段】本発明は、予め、装置特性と画像取得条件とを反映した電子線シミュレーションを様々な対象パターン形状について行ってＳＥＭ模擬波形を生成し、該生成されたＳＥＭ模擬波形に対応するパターン形状情報との組合せをライブラリとして記憶しておくライブラリ作成過程と、取得した実電子顕微鏡画像と前記ＳＥＭ模擬波形とを比較して前記実電子顕微鏡画像と最も一致度の高い前記ＳＥＭ模擬波形を選択し、該選択されたＳＥＭ模擬波形に対応するパターン形状情報から計測対象パターンの形状を推定する計測過程とを有する測長ＳＥＭを用いた計測対象パターンの計測方法。 （もっと読む）

【課題】画像の倍率を変えても画質が変わらない画像が得られる荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】荷電粒子線装置は、画像の倍率を変更したとき、Ｓ／Ｎ測定値が所定の範囲に入るように第１の画像信号量の制御を行う。次に、画像の画質が最良となるように第２の画像信号量の制御を行う。画像信号量の制御には、荷電粒子線量を制御する方法、画像の取得時間を制御する方法、画像積算枚数を制御する方法、画像検出周波数を制御する方法、ビーム径を制御する方法等がある。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、顕微鏡像の像分解能を客観的判断のもとに評価できる像評価方法の提供にある。
【解決手段】画像の部分領域の分解能を、前記画像全体或いは前記画像の一部領域に亘って求め、前記画像全体或いは前記一部領域に亘って平均化し、前記画像全体、或いは一部領域の分解能評価値とすることを特徴とする像評価方法を提供する。このような構成によれば、顕微鏡の像分解能の評価において、評価者の主観が入り込まないので、像分解能の評価値に対して高い精度と良い再現性を達成できる。 （もっと読む）