【課題】コンタミネーションによる分析誤差を回避し、観察データや分析データの信頼性を向上させることができる電子顕微鏡を提供することにある。
【解決手段】
荷電粒子線装置は、荷電粒子線を集束させて試料に照射する対物レンズを有する照射系と、荷電粒子線を偏向走査する偏向走査系と、荷電粒子線の照射により試料から発生する信号を検出して走査像を生成する走査像生成系と、を有する。試料の分析を開始する前に得た第１の画像と試料の分析を開始した後に得た第２の画像を比較する。それによって、試料の像の変化が観測されたら、試料の表面にコンタミネーション被膜を生成するコンタミネーション被膜の生成処理を行う。 （もっと読む）

【課題】電子線装置における電子ビームの集束条件の設定の際に電子ビームを試料に照射する機会や時間を低減することを目的とする。
【解決手段】走査電子顕微鏡１の電子ビームＢの集束状態を検出するために電子ビーム照射面１３ａを使用する。電子ビーム照射面１３ａは、電子ビームＢの光軸方向である高さ方向の位置がその面内位置により異なり、また電子ビームＢを照射されることにより反射電子及び二次電子のうちの少なくとも一方を発生する。 （もっと読む）

【課題】本発明はロンチグラム中心の決定方法に関し、収差補正や軸調整のためのロンチグラム中心を決定することができるロンチグラム中心の決定方法を提供することを目的としている。
【解決手段】走査型透過電子顕微鏡の最終結像面に撮像手段を設け、形状を認識できる試料を配置し、ロンチグラムを観察できるような光学系にして十分なデフォーカスをとり、この状態で前記撮像手段でロンチグラム像１を撮影し、加速電圧を変化させ、既知の色収差により変化したデフォーカス量から拡大率変化を計算し、この状態で前記撮像手段によりロンチグラム像２を撮影し、前記ロンチグラム像１とロンチグラム像２を用いて所定の画像処理を行ない、該画像処理結果に基づき画像の不動点を求めるように構成する。 （もっと読む）

【課題】走査型電子顕微鏡において、一次電子線や二次電子の偏向量が少なくなる最適な走査方法を決定して安定した画像を取得できるようにするものである。
【解決手段】エネルギーフィルタを用いてエネルギーを弁別し、得られる電子収量の変化から試料電位の変動を測定し、電子線照射時に形成される帯電の時定数を抽出する。抽出した時定数を基に走査方法を最適化し、ＳＥＭ像に現れる歪みや倍率変動を抑制する。 （もっと読む）

【課題】一台で、測長と欠陥検査が可能な走査型電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】参照パターン７６を写した参照画像５２を記憶する参照画像記憶部と、参照画像５２に基づいて、参照パターン７６とパターンマッチングする検査パターン８５が写った検査画像８４を撮影する検査画像撮影部と、前記検査画像８４を用いて検査パターン８５の測長を行う測長部と、参照画像５２と検査画像８４とを比較して、検査パターン８５の内または外の欠陥検査を行う欠陥検査部とを有する。 （もっと読む）

【課題】光学顕微鏡による観察面の直接観察では発見しにくい、平坦で特徴の少ない面内の極小領域に規則性を持って点在する試料であった場合に、アライメントを容易にする。
【解決手段】走査電子顕微鏡の試料室外もしくは試料室内に、走査電子顕微鏡の観察面に対して斜め方向に光を照射して反射光を検出する光学顕微鏡ユニット２４を設ける。アライメントの際には、複数ある観察対象部位から任意に選択した観察対象部位で、電子顕微鏡の観察面とは異なる端面を斜めから観察した光顕画像を撮影する。撮影した画像をテンプレートマッチングの手法を用いて解析し、実画像上における観察位置の座標情報を推定する。 （もっと読む）

【課題】
回路パターンを有する半導体装置等の検査において、陰影コントラストの強調された像を取得することを可能にし、浅い凹凸の微細な異物等を高感度に検出することを可能にする荷電粒子ビーム検査技術を提供する。
【解決手段】
高分解能観察の為に電子光学系の対物レンズに電磁重畳型対物レンズ１０３を用い、その対物レンズを用いて電子ビームを細く絞り、対物レンズ内にアシスト電極１０６と左・右検出器１１０、１１１を設け、その電子ビームを試料１０４に照射することで発生する二次電子の速度成分を選別し、さらに方位角成分を選別して検出する。 （もっと読む）

【課題】観察像のコントラスト及びブライトネスが変化しても迅速に適正な値に自動調整することができる荷電粒子線装置及びその画像調整方法を提供する。
【解決手段】試料６に荷電粒子線を照射して観察像を取得する荷電粒子線装置において、二次電子検出器１１での二次電子の電気信号化の際の増幅率を調節する検出器パラメーターＰを設定する調整電源１４と、検出器パラメーターＰの適正値と試料ステージ７の傾斜角θとの相関関係を記憶した記憶部２０と、試料ステージ７の傾動時、記憶部２０に記憶した上記相関関係を基に試料ステージ７の傾斜角θに応じて検出器パラメーターＰの値を補正し調整電源１４に出力する補正演算部１９とを有する。 （もっと読む）

【課題】電子ビームの走査歪みにより寸法管理に誤差が生じてしまう問題があった。
【解決手段】走査歪みを計測し、校正することで歪みの無い走査電子顕微鏡像を取得するための方法及び装置を提供する。このために電子ビームで所定の領域を走査して画像を取得し、当該画像から複数の領域を選択し、夫々のパターンピッチを計測し、該計測結果から走査歪み量を算出して補正する。 （もっと読む）

【課題】サンプル画像の良否を定量的に表すことができ、測定精度を向上することができるSEM及びその測定方法を提供する。
【解決手段】SEM１において、パターン領域及びその周囲の背景領域を有するサンプル画像４を入力する画像入力部３１と、画像入力部３１に入力されたサンプル画像４の画質の良否を判定する画像評価値を算出する演算処理部３５と、演算処理部３５において算出された画像評価値に基づきサンプル画像４の画質の良否を判定する画像解析部３７と、画像解析部３７においてサンプル画像４の良否が判定された結果を表示する結果表示部３８とを備える。 （もっと読む）

【課題】 基板内部に生じる局所的帯電の定量的で詳細な大きさを把握でき、チャージングを低減することができる荷電粒子ビーム検査方法及び装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 荷電粒子ビーム検査方法及び装置において、荷電粒子ビーム光学鏡筒の下面と試料との間に、導電性を有し、かつ、荷電粒子光学系の光路に沿って開口を有し、かつ、試料の表面上のＥＢ照射点から見て、鏡筒の下部の一部を覆う板を設ける。複数枚のスキャン画像の各々、あるいは複数枚のスキャン画像を積算した積算画像と、設計データとの比較照合を行い、倍率を求め、当該倍率の変動または変動の傾向から、荷電粒子ビームが照射されている局所領域における倍率との相関量を求め、その値に応じてランディングエネルギーを変化させる。 （もっと読む）

【課題】
走査電子顕微鏡の分解能をモニタする場合，計測する分解能指標値のパターン依存性を低減できるようなサンプルの準備と計測アルゴリズムの採用が，電子ビームサイズの変化を高精度に計測するために必要である。
【解決手段】
本発明では，分解能モニタに適した断面形状のパターンを有するサンプルを提供する。分解能モニタに適した形状とは，具体的には，照射された一次電子ビームがパターンの側壁に当たることのない程度に，側壁が傾斜している断面形状のことである。これにより，パターンの断面形状に依存しない分解能モニタを実現した。 （もっと読む）

【課題】表示された倍率と、実倍率とに、矛盾が生じないよう調整する静電潜像測定方法、静電潜像測定装置、画像形成装置、潜像担持体、静電潜像測定プログラム及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体を提供する。
【解決手段】荷電粒子銃１１、アパーチャ１２、１２Ａ、コンデンサレンズ１３、ビームブランカ１４、ビーム偏向手段１５、対物レンズ１６、荷電粒子ビーム駆動部３１、排気手段３３、コンピュータ４０、第１の光源である半導体レーザ１７、コリメートレンズ１８、アパーチャ１９、「結像レンズ」を構成するレンズ２１、２２、２３、半導体レーザ駆動部３２、荷電粒子捕獲器２４、荷電粒子検出部２５、信号処理部２６、試料載置台２８、試料ＳＰ、除電用の発光素子２９（第２の光源、ＬＥＤ）、ＬＥＤ駆動部３５、試料台駆動部３４を主な構成とし、対物レンズ１６の屈折力、若しくは印加電圧に合わせて倍率を表す表示を変える。 （もっと読む）

【課題】走査型電子顕微鏡において、試料のスリミングを低減し、視認性のよい最適な画質が得られるようにする。
【解決手段】本発明は、試料に電子ビームを走査し、当該走査によって得られる複数のフレームを積算して画像を形成する際の前記電子ビームの条件を調整する電子ビーム調整方法及び走査型電子顕微鏡であって、電子ビームを走査して得られた画像の輝度ヒストグラムを形成し、当該検出された輝度ヒストグラムを、画像の視認性が向上する位置に、電子ビームの電流を調整することによって移動させるようにする。 （もっと読む）

【課題】短時間で容易に、かつ、精度良くアパーチャの中心軸の位置調整が可能な荷電粒子ビーム装置、及び、アパーチャの軸調整方法を提供する。
【解決手段】荷電粒子ビーム装置１は、荷電粒子源９と、アパーチャ１８と、対物レンズ１２と、観察手段３２と、アパーチャ駆動部１９と、制御部３０とを備える。制御部３０は、荷電粒子ビームＩを照射することで、試料Ｎの表面Ｎ１に複数のスポットパターンを形成させるスポットパターン形成手段３３と、スポットパターンのスポット中心の位置、及びハローの幾何学的な中心位置を算出する解析手段３４と、各スポットパターンにおけるスポット中心の位置とハローの中心位置とを結んだ線同士が交差する位置に基づいて調整位置を算出する調整位置決定手段３５とを有し、調整位置にアパーチャ１８の中心軸を移動させることでアパーチャ１８の位置を調整する。 （もっと読む）

【課題】表面電荷分布を精度良く測定する静電潜像測定装置等を提供する。
【解決手段】荷電粒子ビームを発生させる荷電粒子銃１１と、荷電粒子ビームを偏向させる荷電粒子ビーム偏向手段１５と、荷電粒子ビームを試料表面に収束させるコンデンサレンズ１３、対物レンズ１６と、荷電粒子を検知する荷電粒子捕獲器２４を有し、前記荷電粒子ビーム偏向手段１５による荷電粒子ビームの偏向タイミングと、前記荷電粒子捕獲器２４による荷電粒子検知結果より、試料表面の帯電量分布を濃淡として可視画像とする静電潜像測定装置において、前記可視画像のコントラストを自動的に調整する増幅率調整部４１と、前記可視画像の明るさを自動的に調整するオフセット調整部４２を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高倍率化しても有効視野が小さくなることがない走査荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】本発明の走査荷電粒子線装置によると、試料の観察時に、試料の表面が焦点深度の上限の位置に又は上限の位置より僅か下方に配置されるように、焦点位置を調整する。更に、試料の表面における合焦領域である有効視野の範囲を計算する。 （もっと読む）

【課題】 圧電素子に含まれる複数のドメインを広範囲に亘って効果的に観察することを可能とする圧電素子観察方法を提供する。
【解決手段】 結晶方位が異なる複数のドメイン２０２を有する圧電素子２００を観察する圧電素子観察方法が、微小な粒子を圧電素子２００に照射して、圧電素子２００に観察面２００ａを成形する工程Ａと、工程Ａで成形された観察面２００ａに電子を照射する工程Ｂと、工程Ｂで照射される電子に応じて、観察面２００ａから放出される二次電子又は観察面で反射される反射電子を検出する工程Ｃと、工程Ｃで検出される二次電子又は反射電子を用いて、圧電素子２００の観察面２００ａを解析する工程Ｄとを含む。 （もっと読む）

【課題】 離散化した検出信号を効率よくディジタル信号に変換し、像質の良い走査像を得ることができる走査荷電粒子顕微鏡を実現する。
【解決手段】 検出信号をアナログ積分器7でアナログ積分し、アナログ積分器7の出力が指定した値を越えたらA/D変換器8でディジタル値に変換し、そのディジタル値をディジタル積分器9でディジタル積分する。 （もっと読む）

【目的】高精度なビーム分解能を測定する方法、および方法を具現化する描画装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様のビーム分解能測定方法は、マーク上を荷電粒子ビームで照射しながら走査する走査工程（Ｓ１０２）と、マークからの反射信号を計測する計測工程（Ｓ１０４）と、所定のマーク形状関数と誤差関数とを用いて定義された近似式を用いて反射信号に基づく波形をフィッティングして、ビーム分解能を測定するビーム分解能測定工程（Ｓ１０８）と、を備えたことを特徴とする。本発明によれば、高精度なビーム分解能を得ることができる。 （もっと読む）