【課題】観察像の歪みを簡単に低減することができる試料観察装置とその補正方法を提供すること。
【解決手段】電磁レンズ系１３を透過した電子ビームEBを、補正用パターン１０１が形成された標準試料Sに当てるステップS1と、標準試料Sに当てられた電子ビームEBをSTEM検出器１７で検出することにより、補正用パターン１０１の観察像を得るステップS2と、電磁レンズ系１３に起因して発生した観察像の歪みにより、該補正用パターン１０１の複数の交点（基準点）P_stが前記観察像においてどの程度位置ずれしたかを算出するステップS3と、上記位置ずれが無くなるように、観察像の画像データD₂を補正するステップS4とを有する試料観察装置の補正方法による。 （もっと読む）

【課題】
荷電粒子線の状態が変化しても、容易に光軸の調整を可能とする荷電粒子線装置、及び荷電粒子線装置の調整方法を提供する。
【解決手段】
本発明は、上記目的を達成するために、荷電粒子源と、当該荷電粒子源から放出される荷電粒子線を調節する光学素子と、当該光学素子に対して軸調整を行うアライメント偏向器を備えた荷電粒子線装置において、前記光学素子の条件を変化させた際に得られる２つの画像のパターンの重心を検出する手段と、前記２つのパターンの重心のずれを検出する手段と、前記２つのパターンの重心のずれに基づいて、前記アライメント偏向器の偏向量を算出する手段を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置を提案する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、試料上や装置内で発生した放電等による雑音成分の情報が信号成分から除去された画像を取得することができる半導体検査装置を提供することである。
【解決手段】電子銃と、試料を保持するステージと、試料から放出される信号成分を検出する主検出手段と、試料や装置内から発生した雑音成分を検出する少なくとも一つ以上の副検出手段を有する装置構成において、前記主検出手段にて検出した信号成分から前記副検出手段にて検出した雑音成分を減算することによって信号成分から雑音成分を除去または低減する雑音成分減算処理機能を有することを特徴とする半導体検査装置。 （もっと読む）

【課題】フットプリントの大幅な増大を抑え、エッジ部分を含む高速・高分解能で、検査条件の確認を簡便に行える異物・欠陥検査・観察システムを提供する。
【解決手段】荷電粒子光学系による観察機能と、荷電粒子光学系および試料周辺を真空にするための排気機能と、稼動範囲が小さいｒθステージと、を設け、従来異物・欠陥検査装置に搭載されていた光学式の観察機能では判別できない観察対象物表面およびエッジ部の微細な異物・欠陥を、他の観察装置を介することなく、検出された欠陥の致命／非致命を判断するための高分解能観察機能を設けた。 （もっと読む）

【課題】画像上に現れる走査方式に依存したアーチファクトを軽減する。
【解決手段】ステップ７０１において走査方式を決定する。ステップ７０２では、決定された走査方式によって、画像上に現れるアーチファクトの周波数を決定する。ステップ７０３では、ステップ７０２の周波数位置に対して、予め実験等で決めておいた縦横の幅からアーチファクト除去のための周波数領域を決定する。ステップ７０４、ステップ７０５で撮影を行い、画像を取得する。取得した画像をステップ７０６でフーリエ変換し、ステップ７０３において決定した周波数領域を例えば“０”で置換する。その画像をステップ７０８で逆フーリエ変換し、ステップ７０９で表示/保存する。 （もっと読む）

【課題】専用の装置を付加することなく少ない変更で簡単に三次元形状計測を行うことができる走査電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】三次元形状計測を行うときは、制御部１５内の反射電子の検出信号選択信号発生器は、信号切替部７およびフレームメモリ９を選択信号により制御し、電子線２の試料４上の走査フレームに同期して、信号切替部７で半導体素子６ａ〜６ｄからの検出信号を順次切替え、フレームメモリ９内の半導体素子６ａ〜６ｄに対応する記録アドレスに、半導体素子６ａ〜６ｄからの検出信号が順次記録されるように動作する。これら４回の電子線走査により、三次元形状計測用の画像データをフレームメモリ９に記録し、三次元形状計測用の演算処理部１３で処理し、表示部１４にその結果を表示することができる。制御部１５の反射電子の検出信号選択信号発生器は、フレーム走査単位に更新されるカウンターなどを含んで構成されており、極めて簡単な回路やソフトウェアで実現可能である。 （もっと読む）

【課題】金属粒子の観察画像から走査型電子顕微鏡装置の状態の良し悪しを定量的かつ高精度に表すことができるようにすること。
【解決手段】走査型電子顕微鏡装置の状態を金属粒子画像から評価するための方法であって、
金属粒子画像を入力する画像入力工程と、入力した画像のノイズを除去するノイズ除去工程と、ノイズを除去した画像の画質を定量化して画質評価値を得る画質定量化工程と、画質評価値に基いて画質の良否を判定する判定工程と、その判定結果を表示する表示工程とを含むことを特徴とする走査型電子顕微鏡装置の評価方法。 （もっと読む）

【課題】試料の線幅、欠陥などを精密に測定、検査することができる、荷電粒子ビーム装置のマッチング方法の提供。
【解決手段】電子顕微鏡によるＳＥＭ画像と、試料の設計データとをパターンマッチングさせ、線幅などの測定、欠陥の検査などを行う荷電粒子ビーム装置によるマッチング方法において、校正用マーク又はそれの付された試料をステージ上に設置し、高さを変えて複数のＳＥＭ画像を取得し、当該ＳＥＭ画像の位置歪みと、設計上の位置歪みデータとをマッチングし、高さを変化させたときの校正用補正データを作成する第１ステップと、フォーカスをかけて検査用ＳＥＭ画像を取得する第２ステップと、フォーカスの高さ値より、前記第１ステップの校正用補正データを用いて、検査用ＳＥＭ画像の位置歪みを補正する第３ステップと、当該位置歪み補正を行ったＳＥＭ画像と、設計データとのマッチングを行い、試料の測長または検査を行う第４ステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】 マルチビーム型の半導体検査装置において、多様な特性を持つ試料に対して、高い欠陥検出感度と高い検査速度を両立させ得る荷電粒子線応用装置を提供する。
【解決手段】 試料上における一次ビームの配置を可変とし、さらに、試料の特性を元に、最適な検査仕様で高速に検査を行うためのビーム配置を抽出する。また、また、多数の光学パラメータおよび装置パラメータを最適化する。さらに、抽出された一次ビームの特性を測定し、調整する。 （もっと読む）

【課題】 半導体素子の拡散層のドーパントプロファイルや電流パスを評価解析する必要があるが、簡単に解析できる解析装置や解析方法がないという問題がある。
【解決手段】 電子線を用いた顕微鏡にプローブと半導体素子に印加する電圧源を追加する。評価半導体素子用の半導体素子に電位を印加して実動作状態とし、電子線を走査して２次電子像を得る。半導体素子は電位を印加され電位コントラストを持つことから、２次電子像は電位コントラストを持った拡散層のドーパントプロファイルや電流パスを示す像となる。電位コントラストを持つ２次電子像から直接拡散層のドーパントプロファイルや電流パスの可能像を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】
電子線照射に対する耐性が低い材料では，Ｓ／Ｎの良好な電子顕微鏡画像を得ることが難しい。これに対し，従来の画像平滑化処理を行うと，計測の安定性は向上するが，絶対値に対する計測誤差や感度が低下したり，立体形状情報の質が劣化したりという問題が生じる。
【解決手段】
計測対象パターンの寸法ばらつきを考慮して，信号波形が持つ立体形状情報を劣化させない画像平均化処理を行うことにより，計測安定性と精度および感度の向上を両立する。本発明により，高精度なパターン寸法および形状の計測と，それを用いた高感度な半導体製造プロセスの管理が実現できる。 （もっと読む）

【課題】実際の粒子線の照射位置が目標位置よりずれることを防止することができる走査型荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】ユーザが設定した試料上の走査領域にて、ユーザが設定した走査方向に、ユーザが設定した走査順にて、荷電粒子線を走査する。更に、スキャン座標を２次元ＬＵＴ（Look Up Table）によって補正する。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、荷電粒子線の走査に基づいて検出される信号を合成する際に、低ノイズ化と低ドーズ化の両立を実現するための合成信号形成方法、及び装置を提供することにある。
【解決手段】
上記目的を達成するために、荷電粒子線の複数回の走査に基づいて検出される信号を合成して、合成信号を形成する方法おいて、前記複数の走査によって得られる複数の信号間の乗算を行うと共に、当該乗算された信号について、前記走査の回数の逆数を指数とした演算を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
走査型荷電粒子顕微鏡で撮像して得られる試料の画像について、ノイズ成分を低減させた高品質な画像を取得して画像処理の精度を向上させる。
【解決手段】
撮像条件や試料情報に基づいてビーム強度波形を計算し、また、ビーム強度波形以外による分解能劣化要因も劣化モデルの対象として画像復元を行うことにより、様々な条件において高分解能な画像を取得することを可能とした。さらに、半導体検査および半導体計測用の走査型荷電粒子顕微鏡において、画像復元後の画像を用いてパターン寸法計測、欠陥検出、欠陥分類等に用いることにより、計測精度向上や欠陥検出、欠陥分類の高精度化を可能とした。 （もっと読む）

【課題】 配線不良を確実に検出することができる様にする。
【解決手段】 電子源から発生した電子ビーム１で配線パターン３が形成された試料４上を二次元走査し、この走査により試料４から得られる信号に基づく試料像を表示部７に表示させる様に成す。試料４上の配線パターンの任意の箇所に２本のプローブ２Ａ，２Ｂを接触させ、これらのプローブを介して得られる吸収電流を差動電流電圧変換器６に入力することにより、各吸収電流の差を電圧信号に変換し、この電圧信号に基づく吸収電流像を表示部７に表示させる様に成す。 （もっと読む）

【課題】
検査対象である回路パターンの構造または材質に応じて、帯電状態を制御することで、欠陥検査性能が向上した回路パターンの検査装置を提供する。
【解決手段】
回路パターンが形成された基板に電子線を照射して発生する二次電子を検出し、前記回路パターンの異常を検出する回路パターンの検査装置であって、基板を載置し連続的に移動するステージと、該ステージの移動中に該移動方向に対して略直角方向に電子線を繰り返し走査させる走査信号を走査偏向器へ与える走査信号発生器と、走査信号の繰り返しのうちの１回当りの走査時間を、回路パターンの構造または材質に応じて変更した制御信号を走査信号発生器へ送信する制御回路とを備える。 （もっと読む）

【課題】特定の検出器でしか撮像できない異物、またはパターンが複数存在し、それらが独立に含まれる場合、一つの検出器の画像では正確な自動フォーカス調整を行うことが可能な技術を提供する。
【解決手段】電子線を試料に照射して試料から発生する二次信号を検出する複数の検出器と、該検出器で得られた信号を合成する演算手段とを備え、検出器のうちの少なくとも２つは電子線に対して軸対称に配置されており、該検出器それぞれの信号または合成した信号に基づいて電子線の焦点を調整する構成とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は収差補正器を備えた走査電子顕微鏡に関し、使用条件やノイズの影響を受けることなく、安定的にプローブ画像を得ることを目的としている
【解決手段】 ジャストフォーカス状態で撮影した画像とデフォーカス状態で撮影した画像を画像データとしてコンピュータに入力し（ステップ1）、入力データサイズと出力データサイズから相関窓画像のサイズを自動で決定して相関窓を作成し（ステップ2,3）、相関窓と参照領域の相互相関演算を行い（ステップ6）、参照領域をずらしながらこの演算を繰り返す（ステップ7〜10）ことで相互相関行列を得ることで（ステップ11）プローブ画像を得る。 （もっと読む）

【課題】異物の場所を電子顕微鏡画像の中で素早く、効率的に特定できる試料固定台及びそれを備えた電子顕微鏡、並びに、その異物の位置特定方法を提供する。
【解決手段】本発明による試料固定台は、荷電粒子線装置に備え付けられる試料固定台であって、試料固定台上にマーキングが設けられ、外部イメージング装置によって撮像された試料固定台の画像が正常位置から位置ずれしている場合に、マーキングの画像に位置ずれに応じた形状（画像における見え方に）変化が生じる。このマーキング（例えばクロスマーク）は、相対的位置関係が分かるように複数（例えば２つ）設けられている。 （もっと読む）

【課題】ＳＴＥＭ等の走査型荷電粒子顕微鏡を用いた断面形状計測を１回のサンプル作成で複数の断面について行うことができるようにしたパターン寸法計測方法及びそのシステムを提供することにある。
【解決手段】走査型荷電粒子線顕微鏡を用いて、計測対象パターンの３次元断面形状計測を行うパターンの計測方法であって、収束荷電粒子線の焦点位置を前記計測対象パターンの所望の断面に合せてｚ方向に対して順次変化させ、それぞれの焦点位置での前記計測対象パターンの透過電子画像若しくは散乱電子画像を取得し、それぞれの焦点位置で取得した透過電子画像若しくは散乱電子画像を処理して、該それぞれの焦点位置での電子画像内での計測対象パターンのエッジ位置を算出し、該算出されたそれぞれの焦点位置での電子画像内の計測対象パターンのエッジ位置とそれぞれの焦点位置との組み合わせに基づいて、計測対象パターンの３次元断面形状計測を行うことを特徴とする。 （もっと読む）