【目的】マルチビーム形成アパーチャによって散乱した荷電粒子によるブランキング偏向器アレイへの帯電とコンタミ成長を抑制する装置を提供することを目的とする。
【構成】描画装置１００は、荷電粒子ビームを放出する電子銃２０１と、マルチビームを形成するマルチビーム形成アパーチャ部材２０３と、マルチビームのうち、それぞれ対応するビームのブランキング偏向を行う複数のブランカーが配置されたブランキングプレート２０４と、マルチビーム形成アパーチャ部材２０３とブランキングプレート２０４との間に配置された、電磁レンズ２１２，２１４と、電磁レンズ２１２，２１４の間であってマルチビームの集束点位置に配置され、集束点から外れた荷電粒子の通過を制限する制限アパーチャ部材２１６と、複数のブランカーによってビームｏｆｆの状態になるように偏向された各ビームを遮蔽する制限アパーチャ部材２０６と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高密度の荷電粒子小ビームを用い、高精度で荷電粒子小ビームを操作することのできる粒子光学システムを提供する。
【解決手段】粒子光学装置であって、荷電粒子ビームを発生させる少なくとも１つの荷電粒子源３０１と、複数の開孔を有し、その下流側で荷電粒子ビーム３０９から複数の荷電粒子小ビーム３が形成され、その集束領域に荷電粒子小ビームのそれぞれが焦点３２３を有する少なくとも１つの多孔プレート３１３と、荷電粒子小ビームの焦点が形成される多孔プレートの集束領域で視野レンズの効果を有する焦点レンズ装置３０７と、粒子光学装置の物体面内に位置決め可能な物体上に多孔プレートの集束領域をおおむね結像させるための対物レンズ１０２とを備える。 （もっと読む）

【課題】ヨーク自身の特性上の飽和による限界を超えた磁場を発生させることが可能な電磁レンズを搭載したビーム装置を提供する。
【解決手段】荷電粒子ビーム装置は、荷電粒子ビームを放出する電子銃２０１と、コイルと、コイルを内側に配置するヨークと、発生させる磁力線がヨーク自体を通過することによって、発生させる磁力線の方向がコイルによる磁力線の方向と逆方向に閉ループを構成するように配置された永久磁石とを有し、前記荷電粒子ビームを屈折させる対物レンズ２０７と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】マルチビーム方式の描画装置で、異常な荷電粒子線が存在しても描画に有利な技術を提供する。
【解決手段】描画装置は、荷電粒子光学系と制限部と制御部とを備える。荷電粒子光学系は、第１方向に沿って第１ピッチで配置されたｎ以上のＮ本の荷電粒子線を含む行が、第１方向に直交する第２方向に沿って第２ピッチでｍ以上のＭ行存在し、Ｍ行のうち１番目からｍ番目の行は、各行の先頭の荷電粒子線の第１方向における位置が第１ピッチの（１／ｍ）ずつずれ、かつ、（ｍ＋ｉ）番目の行の先頭の荷電粒子線の第１方向における位置がｉ番目の行の先頭の荷電粒子線の第１方向における位置と同じに配列された（Ｍ×Ｎ）本の荷電粒子線を生成する。制御部は、（Ｍ×Ｎ）本の荷電粒子線の中に異常線が存在する場合、該異常線を含まず連続するｎ本の荷電粒子線を含む行が、ｍの約数分の行だけ第２方向に沿って連続して使用できるように、制限部を制御する。 （もっと読む）

【課題】複数の電極が互いに間隔を隔てて対向して積層された構造の荷電粒子線レンズにおいて、クーロン引力による電極の変形を効果的に抑制することを可能とする技術を提供する。
【解決手段】静電型の荷電粒子線レンズにおいて、各電極２、４、８内には、荷電粒子線が通過するための複数の貫通孔の組３、５、９が少なくとも一組形成され、各対向電極２、４、８間にはスペーサとして少なくとも１本の線状の絶縁部材１、７が配置されている。線状の絶縁部材１、７は、電極２、４、８の面と平行方向に１回以上屈曲する屈曲部を有し、各電極２、４、８間の間隔を規定する。 （もっと読む）

【課題】 荷電粒子線露光装置内の静電型の荷電粒子線レンズは、電極を支持する支持体からのナトリウム析出により，被照射物であるシリコンウエハーが汚染され、製造したデバイスの動作不良となる場合があった。
【解決手段】 少なくとも１つの開口を有する第１の電極と、１つの開口を有する第２の電極と、前記第１の電極と前記第２の電極との間に、前記第１の電極と、前記第２の電極と、を電気的に分離して支持する支持体と、を含む荷電粒子線レンズにおいて、
前記支持体は無アルカリガラス又は低アルカリガラスからなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 複数の荷電粒子線の間の不均一性の補償に有利な描画装置を提供すること。
【解決手段】 照射系（１４０）と、アパーチャアレイ（１１７）と、複数のクロスオーバーを形成するレンズアレイ（１１９）と、複数の開口を備えた素子（１２２）と複数の投影ユニットとを含む投影系（１７０）と、を有する。レンズアレイ（１１９）は、上記複数のクロスオーバーのそれぞれの位置が上記素子における対応する開口に整合するように、該開口に対して偏心している集束レンズを含む補正レンズアレイ（１６２）と、上記複数のクロスオーバーを形成するように、補正レンズアレイにより形成された複数のクロスオーバーをそれぞれ拡大して結像する拡大レンズアレイ（１６３）と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 照射角度の不均一な照射系を備えるも、複数の荷電粒子線の間の特性の均一性の点で有利な描画装置を提供すること。
【解決手段】 発散する荷電粒子線を分割する第１アパーチャアレイと、第１アパーチャアレイから射出した複数の荷電粒子線から第１の複数のクロスオーバーを形成する集束レンズアレイと、第１の複数のクロスオーバーが形成される主平面を有するコリメータレンズと、コリメータレンズから射出した複数の荷電粒子線の角度を補正し、かつ、第２の複数のクロスオーバーを形成する補正系と、第２の複数のクロスオーバーに対応する複数の開口を有する素子と、を有し、該主平面における第１の複数のクロスオーバーの配列を該複数の開口の配列に対して異ならせることにより、該素子上において第２の複数のクロスオーバーが該複数の開口に整合するように、第１アパーチャアレイ及び集束レンズアレイは、開口が配置されている、描画装置とする。 （もっと読む）

【課題】複数の荷電粒子線を屈折させる正確さ及びサイズの小ささの両立に有利な静電レンズアレイ。
【解決手段】第１電極板及び第２電極板のそれぞれは、荷電粒子線を通過させる３つ以上の開口をそれぞれ含んで開口どうしが互いに整列している複数の開口サブセット領域を含み、絶縁性スペーサは、第１電極板及び第２電極板における複数の開口サブセット領域にそれぞれ対応し、且つ、対応する開口サブセット領域の外形より大きい外形をそれぞれ有する複数の貫通孔を含み、絶縁性スペーサは、第１電極板における複数の開口サブセット領域の間の領域において第１電極板と接触し、第２電極板における複数の開口サブセット領域の間の領域において第２電極板に接触し、且つ、複数の貫通孔のそれぞれが第１電極板及び第２電極板における対応する開口サブセット領域に整列するように、第１電極板と第２電極板との間に配置されている、ことを特徴とする静電レンズアレイ。 （もっと読む）

【課題】本発明は、磁場レンズ内における電場レンズを構成する中間電極の長さ及び配置を工夫したり、電場レンズの中間電極の内部の中央に絞りを設け、電場レンズ内部でイオンガスの蓄積を阻止させるようにしたので、描画材料の描画フィールドのパターンを描画する時に発生する電子ビームの位置ずれ防止することができる。
【解決手段】電子ビームの描画材料上への集束状態を変化させるための電場レンズであって、電子ビームが内部を通過する円筒型の中間電極と、中間電極の上流側に配置される上段電極と、中間電極の下流側に配置される下段電極とから構成される電場レンズとを備えた電子ビーム描画装置において、磁場レンズが形成する磁場の中心に合わせて中間電極が配置され、且つ中間電極は、少なくとも一つの端部が、磁場レンズが形成する磁場と端部位置に形成される電位の壁とによりイオントラップが形成されない位置に来るように設けた。 （もっと読む）

【課題】 照射角度の不均一な照射光学系を備えるも、複数の荷電粒子線間の特性の均一性の点で有利な描画装置を提供すること。
【解決手段】 コリメータレンズを含む照射光学系（１４０）と、照射光学系から射出した荷電粒子線を複数の荷電粒子線に分割するアパーチャアレイ（１１７）と、アパーチャアレイから射出した複数の荷電粒子線からそれぞれ複数のクロスオーバを形成する集束レンズアレイ（１１９）と、複数のクロスオーバに対応する複数の開口を備えた素子（１２２）と荷電粒子線を基板上に投影する複数の投影ユニットとを含む投影系（１６０）と、を有し、照射光学系の収差に依る入射角でアパーチャアレイに入射して集束レンズアレイにより形成される複数のクロスオーバのそれぞれの位置が前記素子における対応する開口に整合するように、集束レンズアレイは、前記素子における対応する開口に対して偏心している集束レンズを含む、描画装置とする。 （もっと読む）

【課題】静電型の荷電粒子線レンズは、貫通口が円形の場合の真円度のような貫通口形状の対称性に対する非点収差が敏感である。
【解決手段】荷電粒子線レンズは、レンズを形成する各電極３Ａ，３Ｂ，３Ｃ面のレンズへの収差の影響度に応じて電極貫通口２の向き・加工精度を規定する。即ち、静電型の荷電粒子線レンズのレンズ効果を生じる静電場は開口断面によって形成される。特に光軸Ｊを軸とした回転対称性のずれの大きさにより非点収差やより高次の収差が発生するため、真円からのずれが重要な指標となる。 （もっと読む）

【課題】 静電型の荷電粒子線レンズは、開口形状の対称性に対する非点収差が敏感であり、製造工程で破損しやすい。
【解決手段】 静電型の荷電粒子線レンズであって、前記荷電粒子線レンズは光軸方向を法線とする第１の面と、該第１の面とは反対側の第２の面とを有する平板を含み、かつ、前記第１の面から前記第２の面に貫通する貫通孔を有する電極を有し、前記貫通孔の前記法線に垂直な面での開口面を開口断面とし、前記開口断面の回帰分析により得られた円の直径を代表直径とするとき、前記第１の面側である第１の領域における前記開口断面の代表直径と、
前記第２の面側である第２の領域における前記開口断面の代表直径と、が各々、前記第１の面と前記第２の面とで挟まれた前記電極の内部の領域である第３の領域における前記開口断面の代表直径よりも大きい。 （もっと読む）

【課題】 静電型の荷電粒子線レンズは、開口が円形の場合の真円度のような開口形状の対称性に対する非点収差が敏感であり低収差とすることが困難。
【解決手段】 静電型の荷電粒子線レンズであって、前記荷電粒子線レンズは光軸方向を法線とする第１の面と、該第１の面とは反対側の第２の面とを有する平板を含み、かつ、前記第１の面から前記第２の面に貫通する貫通孔を有する電極を有し、前記第１の面側である第１の領域における真円度と、前記第２の面側である第２の領域における真円度、が各々、前記第１の面と前記第２の面とで挟まれた前記電極の内部の領域である第３の領域における真円度よりも良い。 （もっと読む）

【課題】 静電型の荷電粒子線レンズは、開口形状の対称性に対する非点収差が敏感であり低収差とするための課題であった。
【解決手段】 荷電粒子線レンズは光軸方向を法線とする第１の面と、該第１の面とは反対側の第２の面とを有する平板を含み、前記第１の面から前記第２の面に貫通する貫通孔を有する電極を有し、前記貫通孔の前記法線に垂直な面での開口面を開口断面とし、前記開口断面の回帰分析により得られた円の直径を代表直径とするとき、前記第１の面側である第１の領域における前記開口断面の代表直径と、前記第２の面側である第２の領域における前記開口断面の代表直径と、が前記第１の面と前記第２の面とで挟まれた前記電極の内部の領域である第３の領域における前記開口断面の代表直径よりも小さい。 （もっと読む）

【課題】残留応力を有する薄膜を用いて電極の静電引力による変形を低減し、収差を少なくすることが可能な荷電粒子線レンズを提供する。
【解決手段】荷電粒子線レンズは、荷電粒子源から放射された荷電粒子線の光学特性を制御する。光軸方向に沿って空隙を介して複数の対向電極２Ａ、２Ｂ、２Ｃが設けられ、対向電極２Ａ、２Ｂ、２Ｃは、光軸方向に対向電極を貫通する少なくとも１つの荷電粒子線通過用の開口３Ａ、３Ｂ、３Ｃを有すると共に、少なくとも１つの表面に薄膜４を有する。薄膜４は、光学特性を制御するための電圧を対向電極に印加することで生じる対向電極の変形を低減する残留応力を有するように形成されている。 （もっと読む）

【課題】反射電子ビームリソグラフィ装置のパターン生成器の画素素子の革新的なレイアウトを提供する。
【解決手段】一実施形態は、対象基板上にパターンを書き込むための装置に関する。この装置は、画素素子の複数の配列を含み、各配列は、互いにオフセットされている。加えて、この装置は、複数の配列上に合焦させる入射ビームを生成するための発生源１２０２およびレンズと、パターン化ビームを形成するために、画素部分が入射ビームを選択的に反射するように各配列の画素素子を制御するための回路と、を含む。さらに、この装置は、対象基板上にパターン化ビームを投射するための投射器１２１４を含む。また、他の特徴、態様および実施形態も開示される。 （もっと読む）

【課題】本発明は可変成形形電子ビーム描画装置に関して、第１の成形開口板３（又は絞り）上の電流密度分布を均一にするために、球面収差係数を減少させる手法とは異なる方法により球面収差起因の電流密度むらを解消することを目的としている。
【解決手段】
荷電粒子源、照明レンズ群、絞り、投影レンズ群、及び材料面の順にこれらが配置され、前記荷電粒子源から出射される荷電粒子ビームが前記照明レンズ群を介 して前記絞り上に照射され、更に投影レンズにより前記絞りの像が材料面上に結像される状態で絞りを通過したビームが材料上に照射される荷電粒子ビーム装置 において、前記照明レンズ群は、前記荷電粒子源の像が前記絞り上に結像しないように配置され、かつ前記照明レンズ群のうちの一つのレンズが、前記絞りの位置と光学的に共役関係にある位置に配置されて構成される。 （もっと読む）

【課題】電子源の昇華量を削減するとともに、ビームの放出角度を小さくして長期間安定に使用することのできる電子銃及び電子ビーム露光装置を提供すること。
【解決手段】電子銃は、電子源２０と、加速電極２５と、電子放出面から電子を引き出す引き出し電極２１と、電子源の側面からの電子放出を抑制するサプレッサー電極２４と、電子放出面に電界を印加して放出させた熱電界放出電子による電子ビームを収束させる電子ビーム収束部とを有する。電子ビーム収束部は、引き出し電極２１と加速電極２５との間に配置され中央に開口部を備えた静電レンズ電極２６であり、静電レンズ電極２６に電圧を印加して電子ビームを収束させる。静電レンズ電極２６は加速電極側に拡がるテーパを有することが望ましい。電子放出材料の先端面は基板物質が露出しており、側面は仕事関数の大きな物質で被覆されている。電子放出先端部の外周部が面取りもしくは丸められていてもよい。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子ビームのスループット向上のための共通磁界による複数レンズを構成する方法において、磁界の非対称成分を補償して良好な分解能を得る。
【解決手段】複数レンズを構成するレンズシステム１は、第１ポールピース、第２ポールピース、及び荷電粒子ビームの夫々用の複数のレンズ開口部１６、及び、夫々のレンズ開口部へ第１磁束を供給する共通励磁コイル２０と、レンズ開口部１６間に配置される補償コイル３０を備え、夫々のレンズ開口部の少なくとも一部に第２磁束を供給して第１磁束の非対称性を補償する。 （もっと読む）