【課題】 本発明は、材料の利用効率を向上させ、少ないフォトマスク数で、しきい値のずれが生じにくく、高速動作が可能なＴＦＴを有する液晶表示装置の作製方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、非晶質半導体膜に触媒元素を添加し加熱して、結晶性半導体膜を形成するとともに該結晶性半導体膜から触媒元素を除き、その後逆スタガ型薄膜トランジスタを作製する。また本発明は、薄膜トランジスタのゲート電極層と画素電極層を同工程同材料を用いて形成し、工程の簡略化と、材料のロスの軽減を達成する。 （もっと読む）

【課題】 製造工程を増やすことなく、容量素子の誘電体膜の膜厚をＴＦＴのゲート絶縁膜の膜厚よりも薄くすることのできる薄膜半導体装置の製造方法、薄膜半導体装置、この電気光学装置、およびこの電子機器を提供すること。
【解決手段】 ＴＦＴアレイ基板１０に蓄積容量７０を構成する際、レジストマスク４０１の開口４０１ａから半導体膜１ａの延設部分１ｆに不純物を導入するとともに、このレジスマスク４０１の開口４０１ａから誘電体膜２ｃの表面をエッチングする。このため、製造工程を増やすことなく、蓄積容量７０の誘電体膜２ｃの膜厚をＴＦＴ３０のゲート絶縁膜２ａの膜厚よりも薄くすることができる。 （もっと読む）

【課題】 容易に色相を変えることができる多色表示素子を提供すること。
【解決手段】 表示電極と、該表示電極に対して間隔をおいて対向して設けた対向電極と、両電極間に配置された電解質とを備え、該表示電極の対向電極側の表面に異なる色を発色し、かつ、発色状態になるための閾値電圧または消色状態になるための閾値電圧または十分な色濃度に発色するための必要電荷量または十分に消色するための必要電荷量のうち少なくともいずれかが異なる２種類以上のエレクトロクロミック組成物を積層または混合して形成した表示層を有することを特徴とする多色表示素子。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、材料の利用効率を向上させ、少ないフォトマスク数で、しきい値のずれが生じにくく、高速動作が可能なＴＦＴを有する表示装置の作製方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、非晶質半導体膜に触媒元素を添加し加熱して、結晶性半導体膜を形成するとともに該結晶性半導体膜から触媒元素を除き、その後逆スタガ型薄膜トランジスタを作製する。また本発明は、薄膜トランジスタのゲート電極層と画素電極層を同工程同材料を用いて形成し、工程の簡略化と、材料のロスの軽減を達成する。 （もっと読む）

【課題】 可撓性を有する基板であっても損傷することのない穏和な条件で行われ、且つ、簡便である方法によって形成された電極を備える画像表示媒体、及び、そのような画像表示媒体用の電極の製造方法をを提供すること。
【解決手段】 本発明の画像表示媒体は、一対の電極が、水、アルコール、又は、水とアルコールとの混合溶媒などの液体に対して分散可能である又は可溶性である導電性高分子を少なくとも含んで構成されるので、その導電性高分子を分散又は溶解させた液体を用いる方法（例えば、インクジェット法、スピンコート法、スプレー法、コーティング法など）により、スパッタ法や蒸着法に比べて穏和な条件下で電極を基板上に形成できる。
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【課題】 例えばＴＦＴ等の薄膜半導体装置において、耐電圧性を高め、オフリーク電流を低減する。
【解決手段】 チャネル領域、ソース領域及びドレイン領域を含むと共に島状の平面パターンを有する半導体膜と、この上又は下に積層されたゲート絶縁膜と、これを介してチャネル領域に対向配置されたゲート電極とを備える。ゲート絶縁膜は、半導体膜における島状の平面パターンの周辺領域とゲート電極との層間に挟持される第１部分において、局所的に厚く形成されている。 （もっと読む）

【課題】
凹凸を有する塗布膜を備えた電気光学装置用基板製造方法、電気光学装置の製造方法、
及び電気光学装置用基板製造装置を提供すること。
【解決手段】
電気光学装置用基板の製造方法であって、前記電気光学装置用基板上に粘度が１０ｍＰ
ａ・ｓ以上５０ｍＰａ・ｓ以下の塗布材料を塗布して塗布膜を成膜する工程（Ｓ２）と、
前記塗布工程後、前記塗布膜に対し振動波長が６μｍ以上１５μｍ以下となる振動を与え
る工程（Ｓ３）と、前記振動工程後、又は前記振動工程と同時に前記塗布膜を乾燥する工
程（Ｓ４）とを具備する。これにより、例えばフォトリソグラフィ法のような露光工程、
現像工程といった工程を経ることなく、凹凸を有する塗布膜を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 有機半導体層の特性を劣化させることなく、しかも、絶縁不良を大幅に低減することができる有機エレクトロルミネセンス表示装置を提供する。
【解決手段】 透明基板２上に複数の画素Ｐｘをマトリクス状に配置すると共に、画素は、少なくとも第１の電極層３４と、第２の電極層４０と、第１の電極層と第２の電極層との間に挟まれて発光する有機エレクトロルミネセンス層１８と、有機エレクトロルミネセンス層を駆動するスイッチングトランジスタ４とよりなる有機エレクトロルミネセンス表示装置において、第１の電極層は、透明基板上に複数の画素に亘って共通に形成されており、第２の電極層は、複数の画素毎に分離して形成されると共に、スイッチングトランジスタに電気的に接続されている。これにより、有機半導体層の特性を劣化させることなく、しかも、絶縁不良を大幅に低減する。 （もっと読む）

【課題】 ＴＦＤ素子、配線等のように複数の導電膜を積層して成る要素に関してそれらの導電膜間に導通不良が発生するのを防止することにより、安定した表示を行うことができる電気光学装置を安定して製造できる電気光学装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 基板上にＣｒ等で第１導電膜を形成する工程Ｑ５と、その第１導電膜上にＡｌ等で被覆膜を形成する工程Ｑ７と、その被覆膜を形成する工程の後にアニールを行う工程Ｑ８と、そのアニールの後に被覆膜を除去する工程Ｑ９と、被覆膜が除去された領域でＣｒ等の第１導電膜上にＩＴＯ等で第２導電膜を形成する工程Ｑ１１とを有する電気光学装置の製造方法である。アニールの際には第１導電膜が被覆膜によって覆われているので第１導電膜の表面が酸化することを防止できる。第１導電膜の表面の酸化を防止できれば、第２導電膜を第１導電膜上に良好に形成できる。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも1つの電気的変調型画像形成層を有してなる少なくとも1つの基板と、少なくとも1つのパターン化導電性層と、少なくとも1つの静電防止層とを含んで成るディスプレイに関する。 （もっと読む）

【課題】 高精細化しても素子寿命を長くすることができるパッシブマトリクス駆動方式の有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】 基板１上に配設された第１電極４と有機ＥＬ発光層５と第２電極６とを具備しており、第１電極４は、複数の第１配線２が間に絶縁層３を介して積層されているとともに複数の領域７〜10に分断され、中央側の領域８・９から外側の領域７・10にかけて、内側の領域８・９の最上層の第１配線２が外側に隣接している領域７・10の下層の第１配線２に順次接続されて、外側の領域７・10の最上層の第１配線２と共に有機ＥＬ発光層５の配設範囲外に導出されている有機ＥＬ表示装置である。第１電極４を多層構造にしたことにより表示画面の分割数を増やして同時に駆動することが可能となり、画素当たりの発光時間を長くすることができるので、電流密度を低下させ、材料劣化を抑制し、素子寿命を延ばすことが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 コストダウンが可能で、薄型化や軽量化が可能な電子表示装置を提供する。
【解決手段】 可撓性を有するシート状であって、画像情報を表裏両側から視認可能に表示する表示体（２０）の複数と、前記複数の表示体（２０）の一端部を冊子状に綴じる綴じ部（１１）と、前記表示体に画像情報を送出するデータ送出部（１１Ｂ）とを備え、前記データ送出部（１１Ｂ）は、前記複数の表示体（２０）の内、隣接する表示体（２０）と接触しない非接触面を有する表示体に対して、前記非接触面側から正規の向きの画像が視認できるよう前記向きを設定して前記画像情報を送出する。 （もっと読む）

【課題】短時間で色むらの少ないカラーフィルターを製造することができるカラーフィルタの製造方法を提供する。
【解決手段】 インクジェットヘッド５５により基板１０１に向けて赤色、緑色、青色のうちの少なくとも１色のインクを吐出して基板１０１の各画素を着色することによりカラーフィルタを製造する方法であって、赤色に着色されるべき画素間の色濃度のバラつきが５％以下、緑色に着色されるべき画素間の色濃度のバラつきが１０％以下、青色に着色されるべき画素間の色濃度のバラつきが３％以下となるように着色する。 （もっと読む）

【課題】 クロムを用いないことにより環境に悪影響を与えることのない非線形抵抗素子、電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電子機器を提供する。
【解決手段】 基材６ａと、基材６ａ上に設けられた非線形抵抗素子３３と、基材６ａ上に設けられ、非線形抵抗素子３３に接続される画素電極２４ａとを有している。そして、非線形抵抗素子３３が、基材側から第１金属層３６、絶縁層３７、及び第２金属層３８の順に積層されて形成され、画素電極２４ａが、多結晶化されたインジウム錫酸化物から形成されてなり、第２金属層３８が、モリブデン（Ｍｏ）を主成分として成る合金によって形成されるとともに、画素電極２４ａ上に接続されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】共通のカソードを薄くしてもカソードの電圧を面内で一様にできるようにすること。
【解決手段】ディスプレイパネル１は、１ドットのサブピクセルＰにつきトランジスタ２１〜２３及びキャパシタ２４が設けられたトランジスタアレイ基板５０を具備する。トランジスタアレイ基板５０の表面には、複数の共通配線９１が互いに平行となるよう配列されている。また、トランジスタアレイ基板５０の表面には、サブピクセル電極２０ａが各共通配線９１に沿うように配列されている。各サブピクセル電極２０ａに有機ＥＬ層２０ｂが積層され、有機ＥＬ層２０ｂに対向電極２０ｃが積層され、対向電極２０ｃによって共通配線９１が覆われている。また、共通配線９１が平坦化膜３３及び保護絶縁膜３２を挟んでトランジスタ２２，２３を覆っているので、画素開口率の低下が抑えられている。 （もっと読む）

【課題】 光反射層を利用することにより、走査線あるいはデータ線としての第１の透明電極の電気的抵抗を実質的に低減可能な電気光学装置およびそれを用いた電子機器を提供すること。
【解決手段】 電気光学装置１において、第２透明基板２０には、光散乱用凹凸を形成する下地層２２、光反射層２３、３色のカラーフィルタ層２５Ｒ、２５Ｇ、２５Ｂ、絶縁膜からなる層厚調整層２６、走査線２７、および配向膜２８がこの順に積層されている。これらの層のうち、光反射層２３は走査線２７と同様、帯状に形成され、画像表示領域３の外側で両端部が走査線２７に電気的に接続されている。従って、走査線２７の電気的抵抗を実質的に低減することができる。 （もっと読む）

【課題】 所望の発光層の発光効率が向上された有機エレクトロルミネッセンス素子およびそれを備える有機エレクトロルミネッセンス装置を提供する。
【解決手段】 基板上に、例えば、インジウム−スズ酸化物（ＩＴＯ）等の透明導電膜からなるホール注入電極を形成する。ホール注入電極上に、ホール注入層を形成する。次に、ホール注入層上に、ホール輸送層、第１の発光層５ａ、薄膜層５ｃ、第２の発光層５ｂおよび電子輸送層を真空蒸着により順に形成する。さらに、この電子輸送層上に電子注入電極を形成する。上記の薄膜層５ｃは、第１の発光層５ａのホスト材料と同じ材料からなる。 （もっと読む）

【課題】 柱状スペーサに起因する配向不良領域による表示への影響を遮光範囲とは無関係に低減することにより、表示品位の低下を防止することのできる電気光学装置及びこれを備えた電子機器を提供する。
【解決手段】 本発明の電気光学装置は、一対の基板と、前記一対の基板間に配置された電気光学物質と、前記一対の基板のうち一方の前記基板に固定されたスペーサ１８と、前記一方の基板の内面に形成された配向膜と、前記一方の基板若しくは他方の前記基板に形成され、前記スペーサに対して前記配向膜のラビング方向下流側に隣接配置されたコンタクトホール１５ａと、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】少ない消費電力で明るい画像を表示可能な有機ＥＬ表示装置を提供すること。
【解決手段】本発明の上面発光型有機ＥＬ表示装置１は、絶縁基板１０と、第１有機ＥＬ素子４０を含むとともに発光色が青色の複数の第１画素と、第２有機ＥＬ素子４０を含むとともに発光色が緑色の複数の第２画素と、第３有機ＥＬ素子４０を含むとともに発光色が赤色の複数の第３画素とを基板１０上に並置してなる画素群と、その上に形成された光透過性の封止膜８０と、接着剤層９０を介して封止膜８０に貼り付けられた光透過性の保護層１００とを具備し、接着剤層９０と保護層１００の封止膜８０と対向した表面領域とは屈折率が異なり、保護層１００の封止膜８０との対向面には５０ｎｍ乃至６３０ｎｍの範囲内の径を有する複数の凹部が設けられており、第１有機ＥＬ素子４０の正面と第２有機ＥＬ素子４０の正面と第３有機ＥＬ素子４０の正面とで凹部の径が互いに等しい。 （もっと読む）

【課題】電圧降下や、電流信号遅延を抑制する。
【解決手段】複数の画素３が配設された絶縁基板２の上面に、スイッチトランジスタ２１と、保持トランジスタ２２と、駆動トランジスタ２３とが配設されており、これら各トランジスタ２１，２２，２３を被覆するように形成された平坦化膜３３の表面には、複数の溝３４が形成され、複数の給電配線９０がそれぞれ埋設されている。 （もっと読む）