厚膜誘電性エレクトロルミネッセンスディスプレイの新規な副構造体及びそれを組み込んだ厚膜誘電性エレクトロルミネッセンスディスプレイを提供する。この副構造体は、基板と厚膜誘電体層との間にバリア層を備えている。このバリア層は、基板及び厚膜誘電体層に関して化学的に不活性であり、少なくとも一種の化学種がこのバリア層を通って拡散することを抑制している。この副構造体により、厚い誘電体層の容量が大きくなり、それによって、ディスプレイの輝度が高くなり、厚い誘電体層が絶縁破壊する傾向が低くなる。 このバリア層により、ガラスなどのより低コストの基板を使用することができる。
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【課題】基板表面を完全に平坦化し、配向膜表面の段差や凹凸を無くし、配向膜の配向特性を改善して、表示品質の向上を実現する。
【解決手段】互いに対向する一対の基板１０，２０間に液晶５０が配置され、素子基板１０に複数の画素電極９ａが配設されているものにおいて、素子基板１０は画素電極９ａと、画素電極９ａの直下の層に設けた第３層間絶縁膜４３と、この第３層間絶縁膜４３の下層にマトリクス状に設けた配線３ａと、この配線３ａの直下の層に設けた第２層間絶縁膜４２とを具備し、第３層間絶縁膜４３の画素電極９ａに対応する部位に電極用溝４３ａが形成され、この電極用溝４３ａに画素電極９ａが埋設され、画素電極９ａ及び第３層間絶縁膜４３の表面が同一平面になるように平坦化され、配線３ａの下層に、この配線３ａに対応した配線用溝４２ａが形成され、この配線用溝４２ａに配線６ａが埋設され、配線６ａ及び第２層間絶縁膜４２の表面が同一平面になるように平坦化される。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、材料の利用効率を向上させ、少ないフォトマスク数で、しきい値のずれが生じにくく、高速動作が可能なＴＦＴを有する表示装置の作製方法を提供する。
【解決手段】 本発明の表示装置の一は、絶縁表面上に設けられたゲート電極層及び画素電極層を有し、ゲート電極層上にゲート絶縁層を有し、ゲート絶縁層上に結晶性半導体層を有し、結晶性半導体層に接して一導電型を有する半導体層を有し、一導電性を有する半導体層に接してソース電極層及びドレイン電極層を有し、ソース電極層、ドレイン電極層及び画素電極層上に絶縁層を有し、絶縁層はソース電極層又はドレイン電極層に達する第１の開口部を有し、ゲート絶縁層及び絶縁層は画素電極層に達する第２の開口部を有し、第１の開口部及び第２の開口部に、ソース電極層又はドレイン電極層と画素電極層とが電気的に接続する配線層を有する。 （もっと読む）

【課題】透過型液晶装置として使用したとき、及び反射型液晶表示装置として使用したときのいずれの場合であっても良好な表示品質を得ることができ、且つ製造が容易な半透過型液晶表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ゲートバスライン１１１と同じ層に制御電極１１３を形成する。また、ゲートバスライン１１１及び制御電極１１３を覆う絶縁膜１１５の上に反射電極１２０を形成する。制御電極１１３はＴＦＴのソース電極１１８ｓと電気的に接続し、反射電極１２０は制御電極１１３と容量結合する。ＴＦＴ及び反射電極の上に絶縁膜１２１を形成し、反射電極１２０が露出する開口部を形成した後、全面に透明導電体膜を形成し、この透明導電体膜をパターニングして、透明電極１２２ａ〜１２２ｃを形成する。透過領域の透明電極１１２ａ，１１２ｃは、ＴＦＴのソース電極１１８ｓと電気的に接続される。 （もっと読む）

【課題】 幅が狭く膜厚が厚い配線を任意の平面形状で形成した絶縁基板と、この絶縁基板を用いた低消費電力および高開口率の液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 基板１上にバンク２を設ける。バンク２の表面は配線材料インクに対して撥液性を持ち、基板１の表面は配線材料インク３に対して親液性を持つ。配線は液晶パネルのゲート配線とデータ配線の少なくとも一方とすることで、幅が狭く膜厚が厚い配線を有し、開口率が大きく、低消費電力の液晶表示装置を提供できる。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、工程を単純化すると共に、コストを低減できる薄膜トランジスタアレイ基板及びその製造方法を提供するところにある。
【解決手段】薄膜トランジスタアレイ基板は、基板上に形成されたゲートラインと、前記ゲートライン上に形成されたゲート絶縁膜と、前記ゲート絶縁膜を挟んで前記ゲートラインと交差されるように形成され、ＷＳｉ_ｘ、ＣｏＳｉ_ｘ、ＮｉＳｉ_ｘのうち少なくともいずれか一つを含むデータラインと、前記ゲートライン及びデータラインの交差部に位置する薄膜トランジスタと、前記ゲートライン及びデータラインの交差で設けられた画素領域に形成され、前記薄膜トランジスタと接続される画素電極と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 幅が狭く膜厚が厚い配線を任意の平面形状で形成した絶縁基板と、この絶縁基板を用いた低消費電力および高開口率の液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 絶縁基板１の表面に、薄膜配線のパターンに沿った凹溝５を設け、この凹溝５の両縁に沿って薄膜配線の両側に対向する側壁を有して延びるバンク２を備える。凹溝５の表面に配線材料インクに対して親液性を持つと共に、バンク２の表面には配線材料インクに対して撥液性を持たせる。薄膜配線を液晶パネルのゲート配線とデータ配線の少なくとも一方とすることで、幅が狭く膜厚が厚い配線をもち、開口率が大きく、低消費電力の液晶表示装置を提供できる。 （もっと読む）

【課題】 改善されたディスプレイ装置の導線端子構造が必要であり、導電残部が基板に残るのを防ぐことで、隣接する導線端子構造間の短絡を減少する。
【解決手段】 導電部材、前記導電部材の第一の領域を覆う絶縁層、前記導電材料の第二の領域の上にあり、前記絶縁層の第一の領域を覆う平坦化層、および前記導電部材の第三の領域に導電接続した導電層を含む導線端子構造。 （もっと読む）

【課題】 光照射による書き換え型の画像表示媒体に対し、装置全体がコンパクトで、且つ、画像書き換え時間が早く、コストの安い画像形成装置を提供する。
【解決手段】 感光層を支持基板上に形成した画像表示媒体に対し、紫外線および可視光を所定の領域に照射して画像を繰り返し形成することが可能な画像形成装置において、光照射光源からの光を画像データに応じて変調する２次元光変調素子（２０６）を備え、光照射光源は、リフレクタ付きのランプ光源（２０１）と光インテグレーター（２０３）から構成されており、且つ、画像表示媒体（２０７）に対して２次元光変調素子を介して光を照射する際は、画像表示媒体は２次元光変調素子と近接または密着して配置される構成としてある。 （もっと読む）

デバイス層スタックの両側から材料を除去することによって形成される電子デバイス、例えば薄膜トランジスタ、または電子デバイスの一部分を含む、電子デバイス層スタック（３０４）を備える回路シート（３２２）が提供される。この回路シートは、デバイス層スタックを仮基板（３００）上に形成するステップと、材料をデバイス層スタックの両側から除去するステップと、次いで永久基板（３４８）をデバイス層スタックに取り付けるステップとを含む、電子／光電子デバイス製造方法（２００）によって製作することができる。この方法では、異なる回路パターンイメージ（６０３、６０８、６１２）を、各レジスト層内の複数のイメージレベル（６１２、６１６、６２０）のそれぞれ内に付与するために同時におよび独立に活性化し、それによって、反復的な順次露光ステップ、重合せステップ、および位置合わせステップを不要にすることができる、１層または複数層のレジスト層（６００）を使用する。 （もっと読む）

【課題】 電気抵抗が小さく、かつ、温度上昇が抑えられた平板型表示素子を提供する。
【解決手段】 平板型表示素子は、同一平面上に配された複数の下電極２０と、同一平面上に配された複数の上電極６と、複数の下電極２０と複数の上電極６との間に配された発光層４とを少なくとも備える。隣り合う下電極２０間にそれぞれ絶縁層２７が設けられており、下電極２０と絶縁層２７とが交互に配設されて下電極基板２を構成している。 （もっと読む）

【課題】 工程数を増大させることなく、遮光性の優れた遮光層を形成可能な電気光学装置、この電気光学装置を備えた電子機器、および電気光学装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】 電気光学装置において、異なる色に対応する画素５の境界領域において、遮光層２９は、下地層２２の溝状の凹部２２０の内部に形成された反射層２３の一部２３０と、異なる色に対応する反射表示用カラーフィルタ層２５１Ｒ、２５１Ｇ、２５１Ｂのうちの２つの重なり部分２５０とから構成されている。また、同一の色に対応する画素５同士の境界領域において、遮光層２９は、下地層２２の溝状の凹部２２０の内部に形成された反射層２３の一部２３０と、３色の反射表示用カラーフィルタ層２５１Ｒ、２５１Ｇ、２５１Ｂの重なり部分とから構成されている。 （もっと読む）

【課題】薄膜トランジスタ表示板の製造工程の簡素化、及び画素の開口率を低減しないストレージキャパシタの形成。
【解決手段】基板上にゲート電極を有するゲート線と維持電極線を形成し、それら線上にゲート絶縁膜を形成する。ゲート絶縁膜上に半導体層を形成し、その上にオーミック接触部材を形成する。オーミック接触部材上にソース電極を有するデータ線及びドレイン電極を形成し、それらの上に保護膜を蒸着する。保護膜上に第１感光膜を形成し、それをマスクとして保護膜をエッチングし、データ線の一部とゲート絶縁膜の第１部分を露出させる。第１感光膜を変化させ第２感光膜を形成し、それをマスクとして保護膜をエッチングし、ゲート絶縁膜の第２部分とドレイン電極の少なくとも一部を露出させ、且つゲート絶縁膜の第１部分を除去してゲート線の一部を露出させる。導電体膜を蒸着する。第２感光膜を除去してドレイン電極と接続される画素電極を形成する。 （もっと読む）

【課題】 回路測定パッドと対向電極とのショートを防止して、表示装置の信頼性を改善することのできる回路測定パッド及び製造方法と、前記回路測定パッドを含む有機エレクトロルミネッセンス表示装置とその製造方法とを提供する
【解決手段】 表示領域と駆動回路測定パッド領域とを具備する基板と;前記表示領域上に位置するソース/ドレーン電極と同一層に形成される前記測定パッド領域上の第１の導電膜と;前記ソース/ドレーン電極及び第１の導電膜上に位置する第１の絶縁膜と;前記第１の絶縁膜上にソース電極又はドレーン電極を露出する第１のビアホール及び前記第１の導電層を露出する第２のビアホールと;前記第１のビアホールを通じて前記ソース又はドレーン電極とコンタクトする画素電極及び前記第２のビアホールを通じて前記第１の導電膜とコンタクトする第２の導電膜と;前記画素電極を露出させて、前記第２の導電膜上に形成される画素画定膜とを含む有機エレクトロルミネッセンス表示装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】 画素電極間からの侵入光が基板に到達するのを防止し、表示品質を向上させることが可能な反射型液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 電極基板４に、第１誘電体部４７および第２誘電体部４８を形成する。これらの誘電体部における屈折率の差を利用し、画素電極４４間への侵入光Ｌ２を、第１誘電体部４７内に封じ込める。侵入光Ｌ２がＳｉ基板４１へ到達するのを防止し、Ｓｉ基板４１に対する侵入光Ｌ２の影響を除去することができる。よって、スイッチング素子４６の誤動作などを防ぎ、表示品質を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、動作素子の機能層（例えば発光層）の膜厚の均一性を高めることにある。
【解決手段】 複数の単位構成の各々は、第１電極と第２電極との間に挟まれた機能層を含む発光素子と、発光素子に電源を供給するための駆動回路と、を備えている。第１電極は、駆動回路を構成する複数の配線層とオーバーラップするように形成されている。配線層の第１及び第２の層にそれぞれ位置する第１及び第２の配線パターン３０，４０は、第１電極の下方で、相互に平行に延びる部分を有し、平行に延びる部分は、オーバーラップしないように形成されてなる。 （もっと読む）

【課題】配線抵抗の増加やスイッチング素子の駆動能力の低下を伴うことなく、走査配線と信号配線との交差部に形成される容量を低減することが可能なアクティブマトリクス基板およびそれを備えた表示装置を提供する。
【解決手段】本発明によるアクティブマトリクス基板は、基板１０と、基板１０上に形成された信号配線１１と、信号配線１１に交差する走査配線１３と、走査配線１３に印加される信号に応答して動作するボトムゲート型の薄膜トランジスタ１４と、薄膜トランジスタ１４を介して信号配線１１に電気的に接続され得る画素電極１５とを備えている。信号配線１１は、第１の層間絶縁膜１２を介して走査配線１３の下層に形成されており、第１の層間絶縁膜１２に形成されたコンタクトホール１２’を介して薄膜トランジスタ１４のソース電極１４Ｓに電気的に接続されている。 （もっと読む）

【課題】電気光学素子の共通電極に十分な電力を供給できる電源配線構造を備えた電気光学装置を提案する。
【解決手段】本発明の電気光学装置は、基板１５の有効領域１１の上方に形成された第１電極層と前記第１電極層の上方に設けられた第２電極層１４とを含む積層構造によって電気光学素子を構成する電気光学装置であって、前記第１電極層に電圧供給を行う第１電源線と、前記第２電極層と電気的に接続された第２電源線１６と、を含み、前記第１電源線及び前記第２電源線は、ともに、前記有効領域の上方、かつ、前記第１電極層と同層又は前記第１電極層より下層に設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 カラーフィルタ基板表面の凹凸による表示ムラの発生が少ない電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電子機器を提供する。
【解決手段】 遮光膜と、着色層と、表面保護層と、が順次に積層されたカラーフィルタ基板を含む一対の基板と、当該一対の基板間に狭持された電気光学材料と、を備えるとともに、複数の画素領域からなる表示領域を有する電気光学装置において、遮光膜は、画素領域にそれぞれ対応した開口部を備え、着色層は、開口部にそれぞれ対応して形成してあるとともに、着色層の表面が実質的に平坦化されるように、隣接する着色層の端部を遮光膜上で重ねてあることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、単位画素領域の発光領域が増加する有機電界発光素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、有機電界発光素子の単位画素領域上のデータラインまたはデータライン及び電源供給ラインを、絶縁膜をエッチングして形成したトレンチ上に形成して画素電極である第１電極を、クロス・トークのような不良発生なくデータラインまたはデータライン及び電源供給ラインの上部にオーバーラップするように形成する。 （もっと読む）