画素電極に紫外線照射を行っても、ＴＦＴの特性の劣化の生じにくい有機ＥＬ素子を提供する。基板上にＴＦＴが形成されている。ＴＦＴは、ソース及びドレインとなる第１の領域及び第２の領域、第１の領域と第２の領域との間のチャネル領域、及びゲート電極を有する。薄膜トランジスタを覆うように、基板の上に層間絶縁膜が配置されている。層間絶縁膜の上に配置された画素電極が、層間絶縁膜に形成されたビアホール内を経由してＴＦＴの第１の領域に電気的に接続されている。被覆膜が、画素電極の縁を被覆し、内部の領域は露出させるとともに、層間絶縁膜の表面のうち、前記薄膜トランジスタのチャネル領域と重なる領域を覆い、紫外線を遮光する。画素電極の上に有機発光層と上部電極とが配置されている。
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【課題】 陰極形成による有機層へのダメージを防止するとともに陰極から有機層への電子注入効率を改善し、素子の発光特性を大幅に改善する。
【解決手段】 有機層と陰極の間に配置された緩衝層が、電子供与性を有するドーパント材が含有された透明導電性有機物で形成されている有機ＥＬ素子を提供する。 （もっと読む）

【課題】高画質で信頼性の高い表示装置を低いコストで歩留まり良く製造することができる技術を提供することを目的とする。
【解決手段】画素領域における画素電極層上にスペーサを有する、また、画素電極層周辺を覆う隔壁として機能する絶縁層表面は、絶縁層下の積層物を反映して画素電極表面からの高さが高く形成される。これらのスペーサ、及びスペーサとして機能する絶縁物によって、発光材料を画素電極層上に形成する際、選択的に形成するためのマスクは支持され、マスクのよじれやたわみなどによって画素電極層に接することを防止する。よって、画素電極層にはマスクによる傷などの損傷が生じず、画素電極層は形状不良とならないので、高繊細な表示を行う、高信頼性な表示装置を作製することができる。 （もっと読む）

【課題】 反射率を向上させるための表示パネル及びこれを有する表示装置を提供する。
【解決手段】 アレイ基板は、複数のデータ配線、複数のゲート配線、複数の画素領域を有し、画素領域にはストレージキャパシタ用電極パターンが形成される。カラーフィルター基板はアレイ基板と合体を通じて液晶層を収容し、ストレージキャパシタ用電極パターンに対応してカラーフィルターが除去された開口部が形成される。これによってストレージキャパシタ用電極を通じて反射した光は開口部を通じて外部に出射することによって単位画素領域でストレージキャパシタ用電極及び開口部を通じて反射光だけの反射率を向上することができる。 （もっと読む）

【課題】表示装置の遮光性及び配向性を同時に改善する。
【解決手段】表示装置は、基板１１上に透明画素電極３１を駆動する薄膜トランジスタが設けられ、この薄膜トランジスタの上層でかつ画素電極３１の下層の位置に導電性の遮光層２７，２８が設けられている。第一の平坦化膜２５が薄膜トランジスタの凹凸を埋める様に形成されており、その平坦化された表面に遮光層２７，２８が配されている。第二の平坦化膜２９が遮光層２７，２８の段差を埋める様に形成されており、その平坦化された表面に画素電極３１が配されている。導電性の遮光層２７，２８を上下から絶縁性の平坦化膜２９，２５で挟み込む構造を採用することで、表示装置の遮光性及び配向性を改善することが可能である。 （もっと読む）

【課題】非晶質透明導電膜のアンカー効果を高めて接着力を向上させ、耐久性に優れた透明導電膜を得、また、ＡＣＦや検査用プローブとの接触抵抗を低減可能な透明導電膜を得ることを目的とする。
【解決手段】表面粗さの最大値であるRmaxの値が、１０ｎｍ以上であることを特徴とする非晶質透明導電膜を提供する。この非晶質透明導電膜と異方導電フィルム（ＡＣＦ）との間、及びこの非晶質透明導電膜と検査用プローブとの間、等に生じる接触抵抗を小さな値にすることができる。また、この非晶質透明明導電膜は、アンカー効果を従来より大きくでき、その結果、従来より耐久性の向上を図ることができる。
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【課題】軽量、薄型化が容易であって、しかも耐熱性に優れた表示装置用基板を提供することを目的とする。
【解決手段】 この表示装置用基板２００は、無機層状物質を主体とする主基板２０２と、この主基板上に配置される不純物阻止層２０３と、この不純物阻止層２０３上に配置される半導体層２１２と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は剥離工程を簡略化し、且つ大型基板に対する剥離・転写を均一に行う方法を提供する。本発明は剥離工程における第１の接着剤の剥離と、第２の接着剤の硬化と、を同時に行って、作製工程を簡略化することを特徴とする。また本発明は、半導体素子の電極まで形成された被剥離層を所定の基板に転写するタイミングを工夫することを特徴とする。特に大型基板に複数の半導体素子を形成した状態で剥離を行う場合、圧力差を利用して基板を吸着して剥離を行うことを特徴とする。
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【課題】 表示領域だけでなく非表示領域も透明であり、非表示時において背面側全体より入射する透過光が視認可能な液晶表示パネルであって、良好な視認性を得ることができる液晶表示パネルを提供する。
【解決手段】
一対の透明基板４と、透明基板４の周縁に設けられたシール材２と、両透明基板４およびシール材２により囲まれた内部に封入された液晶３と、内部に液晶３を封入するためシール材２に形成された注入口５と、注入口５を封止する封止材６と、両透明基板４の内面における表示領域８に設けられた配向膜９とを有し、配向膜９を、注入口５内の封止材６が配設されていない領域を覆うように延出して設ける。 （もっと読む）

【課題】 金属配線、金属配線の製造方法、金属配線を含むアレイ基板及び液晶表示パネルを提供する。
【解決手段】 金属配線は金属膜１１１、１３１及び障壁膜１１３、１３３を含む。金属配線は絶縁基板１０１上に配置される。障壁膜１３１、１３３は金属膜１１１、１１３の上面と側面を覆うように配置され、絶縁基板１０１のガラス転移点より高い融点を有する物質を含み、金属膜原子の拡散を防止する。絶縁基板１０１のガラス転移点より高い融点を有する物質を含む障壁膜１３１、１３３を金属膜１１１、１３１を覆うように形成することで、高温プロセスでの拡散を防止し、金属配線の劣化を防止する。 （もっと読む）

【課題】基板上に誘電体層等の絶縁層を設け、その上に種々の層を形成する際に、絶縁層のエッジの段差に起因して生じる上層の欠陥の解消を図り、段差を少なくした基板およびその製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】基板２上に電極層および絶縁層３が順次積層された積層構造において、絶縁層３の端部から１００μｍ以内の縁部における最大厚みを５μｍ以下とすることにより、また、このため、基板上の絶縁層積層予定区域の外側に接する非予定区域に、絶縁層よりも薄いマスキング層を積層し、マスキング層上も含めて絶縁層形成用組成物を塗布し、固化する以前に、マスキング層ごと除去することにより、課題を解決することができた。 （もっと読む）

【課題】アクティブマトリクス型の表示装置において、画素に配置される補助容量を開口率の低下を招かずに得る。
【解決手段】基板上に形成された、ソース領域、ドレイン領域及びチャネル形成領域を有する結晶性珪素膜と、結晶性珪素膜上に形成されたゲイト絶縁膜と、ゲイト絶縁膜上に形成されたゲイト電極と、ゲイト電極上に形成された第１の絶縁膜と、第１の絶縁膜上に形成されたソース配線と、ソース配線上に形成された第２の絶縁膜と、第２の絶縁膜上に形成された遮光電極と、遮光電極と同一平面上に形成された、ドレイン領域に接続された引き出し電極と、遮光電極および引き出し電極上に形成された多層構造である第３の絶縁膜と、第３の絶縁膜上に形成され、引き出し電極と接続された画素電極とを有し、遮光電極は、画素電極の一部又は全ての周辺部と重なる部分を有し、該重なる部分が補助容量として機能する。 （もっと読む）

【課題】 本発明では、高画質で信頼性の高い表示装置を低いコストで歩留まり良く製造することができる技術を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明は、画素領域における画素電極層上、及び画素電極層周辺を覆う隔壁として機能する絶縁層上に、スペーサを有する。このスペーサによって、発光材料を画素電極層上に形成する際、選択的に形成するためのマスクは支持され、マスクのよじれやたわみなどによって画素電極層に接することを防止する。よって、画素電極層にはマスクによる傷などの損傷が生じず、画素電極層は形状不良とならないので、高繊細な表示を行う、高信頼性な表示装置を作製することができる。 （もっと読む）

【課題】
加工時や使用時の熱などに対し寸法安定性が高く、水蒸気や酸素などのガスバリア性に優れ、かつ、光学異方性が少なく、光線透過率に優れたガスバリア性フィルム、並びにこれを用いたディスプレイ用基板及びディスプレイを提供する。
【解決手段】
荷重たわみ温度１５０℃以上の基材の両面へ、線膨張係数が１００ｐｐｍ／Ｋ以下であり、かつ前記基材と前記硬化型樹脂の屈折率差ｎが０．０３≦ｎ≦０．１８である硬化型樹脂層を設けて、さらに、必要に応じて、少なくとも片側の面へ、１又は複数層のガスバリア層及び／又は平滑化層を設けてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 発光効率が高く、低コストで大面積化できる発光素子を提供する。
【解決手段】 発光素子は、互いに対向する一対の電極と、前記一対の電極の間に挟持された、発光粒子を含む発光層とを備え、前記発光粒子は、第１半導体部と、前記第１半導体部の表面の少なくとも一部を被覆する第２半導体部とを含む。 （もっと読む）

【課題】電気光学装置において、ＴＦＴに対する光の入射を未然に防止することで高品位な画像を表示することを可能とする。
【解決手段】ＴＦＴアレイ基板上に、画素電極、これに接続された半導体層（１ａ）を含むＴＦＴ、該ＴＦＴに接続された走査線（３ａ）及びデータ線（６ａ）とを備えている。このうち走査線は、半導体層中のチャネル領域（１ａ´）に対向するゲート電極としての幅狭部（３ａａ）及び前記チャネル領域に対向しない幅広部（３ａｂ）を含む。幅広部は、遮光性材料から構成すると好ましい。 （もっと読む）

【課題】 カラーフィルタを対向基板に設けた液晶表示パネルでは素子基板と対向基板とを極めて高い精度で位置合わせして組み立てることが必要であり、この精度が低い場合には開口率が低下して表示が暗くなるという問題があった。
【解決手段】 本発明は、周辺回路である駆動回路４０２、４０３上に赤のカラーフィルタ（Ｒ）４０４ａ、４０４ｂを設け、画素ＴＦＴ部４０７を保護する赤色のカラーフィルタ４０５ｄを各画素毎に形成する。 （もっと読む）

【課題】電圧降下を抑えること。
【解決手段】ＥＬディスプレイパネル１は、絶縁基板２と、絶縁基板２上にマトリクス状に配列された駆動トランジスタ２３と、駆動トランジスタ２３のゲート２３ｇとともにパターニングされ、互いに平行となるよう配列された信号線Ｙ₁〜Ｙ_nと、信号線Ｙ₁〜Ｙ_n及び駆動トランジスタ２３を被覆した保護絶縁膜３２と、駆動トランジスタ２３それぞれのドレイン２３ｄに導通した画素電極２０ａと、画素電極２０ａそれぞれに成膜された有機ＥＬ層２０ｂと、有機ＥＬ層２０ｂを被覆した対向電極２０ｃと、隣り合う画素電極２０ａの間で信号線Ｙ₁〜Ｙ_nと平行となるよう保護絶縁膜３２上に形成され、保護絶縁膜３２に形成されたコンタクトホール５３を介して駆動トランジスタ２３のソース２３ｓに導通した給電配線９０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】容量部のリークを防止することによって歩留まりを向上させ、基板製造工程における工程短縮化が実現できる電気光学装置の製造方法を提供する。
【解決手段】画素電極と該画素電極に対応して設けられたスイッチング素子とを有する素子基板と、該素子基板に対向配置される対向基板とを有する電気光学装置の製造方法であって、前記素子基板に第１の絶縁膜を形成する工程と、前記第１の絶縁膜上に、前記画素電極の電位を保持する容量部を形成する工程と、前記容量部を規定の形状にパターニングする工程と、前記容量部上に、第２の絶縁膜を形成する工程と、積層された前記容量部と前記第２の絶縁膜とを、所定量の酸素及び窒素を用いて焼成する焼成工程と、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 液晶表示装置のカラーフィルタ基板における着色層、有機エレクトロルミネセンス表示装置における発光層や正孔輸送層等の有機層等の機能膜をインクジェット法等の塗布法により形成する際に、液状の機能膜材料（インク）が充填されない領域の発生を抑制して表示品位を向上させることができる表示装置用基板、及び、それを備えた液晶表示パネル、液晶表示装置、有機エレクトロルミネセンス表示装置を提供する。
【解決手段】 基板上にバンクが形成された表示装置用基板であって、上記バンクは、隅部が面取りされた構造を有する表示装置用基板である。 （もっと読む）