【課題】電圧降下や、電流信号遅延を抑制する。
【解決手段】複数の画素３が配設された絶縁基板２の上面に、スイッチトランジスタ２１と、保持トランジスタ２２と、駆動トランジスタ２３とが配設されており、これら各トランジスタ２１，２２，２３を被覆するように形成された平坦化膜３３の表面には、複数の溝３４が形成され、複数の給電配線９０がそれぞれ埋設されている。 （もっと読む）

【課題】基板上に配線を備えると共に該基板上における平坦化処理が施された基板装置において、比較的簡単な構成により基板上の積層構造中における段差による配線不良を低減して、装置信頼性を高める。
【解決手段】基板上に溝（８０）が設けられており、この溝内に配線（６０）が部分的に埋め込まれることにより、基板上における平坦化処理が施されている。配線は、溝により生じる段差（８０ａ）を横切る部分を有し、この段差を横切る部分は、配線の他の部分と比べて幅広に形成されている。 （もっと読む）

【課題】 歩留りが高く低コストで製造可能でかつ高精細な有機エレクトロルミネッセンス装置を提供する。
【解決手段】 基板１上にゲート電極２を形成する。ゲート電極２を覆うように基板１上にゲート絶縁膜３を形成する。ゲート電極２の上方に間隔をあけてゲート絶縁膜３上にソース電極４およびドレイン兼ホール注入電極５を形成する。ソース電極４およびドレイン兼ホール注入電極５を覆うようにゲート絶縁膜３上に活性層兼ホール注入層６を形成する。有機ＴＦＴ２００の上方でかつ活性層兼ホール注入層６上に絶縁膜７を形成する。隣り合う絶縁膜７の間でかつ活性層兼ホール注入層６上にホール輸送層８を形成し、このホール輸送層８上に発光層９を形成する。その後、絶縁膜７および発光層９上に電子注入電極１０を形成する。 （もっと読む）

【課題】電圧降下を抑えつつ、開口率の低下を抑えること。
【解決手段】ディスプレイパネル１は、１ドットのサブピクセルＰにつきトランジスタ２１〜２３及びキャパシタ２４が設けられたトランジスタアレイ基板５０を具備する。トランジスタ２１〜２３のドレイン・ソースとともにパターニングされた供給線Ｚｒ，Ｚｇ，Ｚｂには給電配線９０ｒ，９０ｇ，９０ｂがそれぞれ積層され、給電配線９０ｒ，９０ｇ，９０ｂは撥液絶縁膜５３によって被覆されている。トランジスタアレイ基板５０の表面にはサブピクセル電極２０ａがマトリクス状に配列され、サブピクセル電極２０ａに有機ＥＬ層２０ｂが積層され、有機ＥＬ層２０ｂに対向電極２０ｃが積層されている。給電配線９０ｒ，９０ｇ，９０ｂを被覆した撥液絶縁膜５３の撥水性によって、有機ＥＬ層２０ｂを湿式塗布法により塗り分けることができる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、材料の利用効率を向上させ、少ないフォトマスク数で、しきい値のずれが生じにくく、高速動作が可能なＴＦＴを有する表示装置の作製方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、非晶質半導体膜に触媒元素を添加し加熱して結晶性半導体膜を形成し、該結晶性半導体膜から触媒元素を除いた後、トップゲート型プラナー構造の薄膜トランジスタを作製する。また本発明は、表示装置の構成物を選択的に形成する液滴吐出法を用いることで、工程の簡略化と、材料のロスの軽減を達成する。 （もっと読む）

【課題】 クロムを用いないことにより環境に悪影響を与えることのない非線形抵抗素子、電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電子機器を提供する。
【解決手段】 基材６ａと、基材６ａ上に設けられた非線形抵抗素子３３と、基材６ａ上に設けられ、非線形抵抗素子３３に接続される画素電極２４ａとを有し、非線形抵抗素子３３が、基材６ａ側から第１金属層３６、絶縁層３７、及び第２金属層３８の順に積層されて形成され、第２金属層３８が、モリブデン（Ｍｏ）を主成分として成る合金によって形成され、画素電極２４ａが、インジウム亜鉛酸化物から形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 保護膜の除去を容易とすると共に、保護膜除去のための洗浄液による環境汚染を抑制しようとする保護膜付きガラス基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 ガラス基板１の少なくとも一面に保護膜を形成した保護膜付きガラス基板であって、前記保護膜は、水に溶ける材料からなる水溶性保護膜２である。これにより、保護膜は、水洗して除去することができ、人体にとっても安全であると共に環境汚染が抑制される。 （もっと読む）

【課題】基板上に使用された有機物質の長い耐久寿命を可能にし、低コストで製造され、高い電気伝導率を有する発光素子用の基板を提供する。特に、標準型ＰＥＤＯＴの溶剤を使用することが可能でなければならない。
【解決手段】基底基板１と、基底基板１上に配置され、金属より構成された層構造体２と、金属より構成された層構造体２上に配置された伝導性ポリマーの層構造体３と、を備える。 （もっと読む）

積層形成された第１〜第３の発光素子１１２〜１１４の発光・非発光を選択する映像信号は、唯一のスイッチング用トランジスタ１０７を介して入力され、第１〜第３の電流供給線１０３〜１０５の電位を制御することによって特定の発光素子を選択的に発光させることを特徴とする。
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【課題】 表示パネルを構成する各表示画素内に設けられた保持容量や寄生容量に起因する、表示データ（階調信号電流）の書込動作の遅延や書き込み不足、輝度特性の劣化を抑制して、表示データに応じた適切な輝度階調で発光素子を発光動作させることができる画素駆動回路、及び、表示画質の劣化を抑制することができる画像表示装置を提供する。
【解決手段】 画素駆動回路ＤＣＡは、書込制御用の薄膜トランジスタＴｒ１２に形成されるゲート−ソース間の寄生容量Ｃgs2が、ゲート−ドレイン間の寄生容量Ｃgd2よりも大きく（Ｃgd2＜Ｃgs2）なるように設定されている。薄膜トランジスタＴｒ１２の具体的な素子構造は、ドレイン電極及びソース電極の平面形状が非対称形状を有し、例えば、円弧状の外周部を有して相互に対向し、半円形状及び半円弧状に延在して形成された電極構造を有している。 （もっと読む）

【課題】 電気配線等の所定パターンが精度良く形成してあるとともに、製造時の歩留りに優れた電気光学装置、電気光学装置用基板の製造方法、および電気光学装置の製造方法をそれぞれ提供する。
【解決手段】 一対の電気光学装置用基板と、その間に挟持される電気光学材料と、から構成された電気光学装置、電気光学装置用基板の製造方法、および電気光学装置の製造方法であって、それぞれ電気光学装置用基板の表面に、反射抑制部を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ドライエッチング時にチャージアップやレジスト焼けなどの不具合を生じさせずに、ラテラル構造の非線形素子の絶縁膜を厚膜化して液晶容量を減少させる。
【解決手段】ＴＦＤ素子の製造方法は、スパッタ法などの気相法にて下部電極６２ａ上にＴａＯ_ｘ膜からなる第１の絶縁膜６３ａを形成する。これにより、第１の絶縁膜６３ａの誘電率及び抵抗を小さくできる。次に、第１の絶縁膜６３ａと第１の金属膜をドライエッチングして下部電極６２ａ及び第１の絶縁膜６３ａを形成する。次に、露出した下部電極６２ａの側面に液相法で第２の絶縁膜６３ｂを形成し、第１の絶縁膜６３ａ等の上に上部電極６４ａを形成する。第１の絶縁膜６３ａを気相法で形成したことで、チャージアップやレジストが焦げるような不具合は生じさせずに第１の絶縁膜６３ａを厚膜化でき、ＴＦＤ素子容量を小さくできる。 （もっと読む）

【課題】薄膜トランジスタアレイ基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 遮蔽層は、基板の周辺領域のリード線間に形成される。遮蔽層及びゲート層は同時に形成され、これにより、ソースドレイン層に接続されたリード線間の光漏れは減少する。また、遮蔽層及びソース/ドレイン層は同時に形成され、これにより、ゲート層に接続されたリード線間の光漏れは減少する。更に、共通の電圧が遮蔽層に印加され、これにより、リード線間の信号の干渉は減少する。また、薄膜トランジスタアレイの電気検査において、リード線と遮蔽層との間の漏電を測定することができる。 （もっと読む）

【課題】充てん物質を使用した光干渉光変調器と方法を提供する。
【解決手段】基板と可動ミラーと変形可能層と支持構造とを備えているＭＥＭＳデバイスたとえば光干渉変調器を備えている装置と製造するための方法とシステムとが記述されている。いくつかの実施形態では、支持構造は複数の支持ポストを備えている。コネクターは、変形可能層に固定された可動ミラーを固定する。コネクターと支持ポストの少なくとも一つが、第一の構成部分と第一の構成部分と第二の構成部分とからなる複合物であり、ここで第一の構成部分においてがコネクターと支持ポストの周囲の少なくとも一つの少なくとも一部を形成する。 （もっと読む）

【課題】 表示パネル１を構成するガラス基板２に非接触電子タグを低コストで組み込む。
【解決手段】 本発明に係る表示パネル１では、ガラス基板２上に、液晶表示部４が形成されている。さらに、このガラス基板２上には、液晶表示部４に加えて、ＩＣ回路８およびアンテナ６からなる非接触電子タグが、半導体製造技術によって直接的に形成されている。したがって、表示パネル１を備えている液晶表示装置に、製造済みの非接触タグを別途取り付ける必要がないため、製造コストを低減することができる。また、アンテナ６は、液晶表示部４の外周に形成されている。したがって、アンテナ６のサイズが液晶表示部４の外周程度になることから無線信号に対する感度が大きくなり、リーダ／ライタを液晶表示部４に近接させることなく、ＩＣ回路８に記録されている情報の読み取りが可能である。 （もっと読む）

【課題】 基板サイズを最大限に活用した大画面表示の可能な電気光学装置を実現する。
【解決手段】 反射型電気光学装置の駆動部となるアクティブマトリクス基板５０１に対して画素マトリクス回路５０２とロジック回路５０３，５０４とを形成するに際し、画素マトリクス回路５０２の下方のデッドスペースを利用してロジック回路５０３，５０４を配置する構成とする。これによりロジック回路５０３，５０４の占有面積に制限されることなく画素マトリクス回路５０２（画像表示領域）の占有面積を広げることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 幅が狭くかつ膜厚が厚い配線等の薄膜パターンを形成した表示装置用基板を得る。
【解決手段】 基板１の薄膜パターン形成部に、幅がＷで側縁にエッジを有して形成すべき薄膜パターンに沿って延在する堤状突部２を設け、この堤状突部２の上にインクジェット装置のノズル４から薄膜形成材料インク３を滴下して塗布する。これを焼成して薄膜パターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】 表示性能の高いフレキシブル画像表示素子を提供する。
【解決手段】 プラスチック基板上に、電極層、電界効果型トランジスタ、表示層およびフィルム積層体を有し、前記電界効果型トランジスタは、ゲート絶縁膜と有機化合物を主成分とする半導体活性層とを有し、前記表示層は、電界に応じて光学特性が変化し、前記フィルム積層体は、少なくとも、前記プラスチック基板の表面または前記プラスチック基板の表面に設けられた機能層の表面に設けられており、かつ、少なくとも一層の無機物を主成分とするバリア層と少なくとも一層の有機層とが交互に積層している、画像表示装置。 （もっと読む）

【課題】 電気光学装置において、高品質な画像表示を行う。
【解決手段】 素子基板上の画像表示領域に、画素毎に形成された画素電極と、該画素を駆動するための駆動素子又は配線の少なくとも一部を構成し、画素毎に開口領域を少なくとも部分的に規定するように形成され、素子基板上で平面的に見て開口領域から分離されて開口部が形成された第１の上側遮光膜と、該第１の上側遮光膜と同一層に、第１の上側遮光膜と電気的に分離されて、素子基板上で平面的に見て前記開口部内に島状に形成され、画素電極と駆動素子との電気的接続を中継する第２の上側遮光膜と、駆動素子又は配線の少なくとも一部を構成し、第１の上側遮光膜の下層側に、素子基板上で平面的に見て開口部を覆うように且つ第１の上側遮光膜の幅より小さい幅を持つように形成された下側遮光膜とを備える。 （もっと読む）

【課題】 熱による表示不良を抑えることができ、材料の使用量を抑えることができる電気光学装置、当該電気光学装置用基板、当該電気光学装置の製造方法及び当該電気光学装置を搭載した電子機器を提供すること。
【解決手段】 カラーフィルタ層１４Ｒ、１４Ｇ、１４Ｂの間を埋めるように平坦化層１５を設け、カラーフィルタ層１４Ｒ、１４Ｇ、１４Ｂと平坦化層１５とを同じ高さにすることで、カラーフィルタ層１４Ｒ、１４Ｇ、１４Ｂと平坦化層１５とで平坦面１８を形成することができる。平坦化層１５でカラーフィルタ層１４Ｒ、１４Ｇ、１４Ｂを覆う必要は無い。カラーフィルタ層１４Ｒ、１４Ｇ、１４Ｂを覆っていた平坦化層１５が無くなった分、平坦化層１５での発熱量が少なくなり、また発生した熱を伝導層１５ｂにより放熱できるので、液晶装置内の温度上昇を抑えることができ、熱による表示不良を抑えることができる。 （もっと読む）