電気光学装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置用基板及び投射型表示装置
【課題】 熱による表示不良を抑えることができ、材料の使用量を抑えることができる電気光学装置、当該電気光学装置用基板、当該電気光学装置の製造方法及び当該電気光学装置を搭載した電子機器を提供すること。
【解決手段】 カラーフィルタ層１４Ｒ、１４Ｇ、１４Ｂの間を埋めるように平坦化層１５を設け、カラーフィルタ層１４Ｒ、１４Ｇ、１４Ｂと平坦化層１５とを同じ高さにすることで、カラーフィルタ層１４Ｒ、１４Ｇ、１４Ｂと平坦化層１５とで平坦面１８を形成することができる。平坦化層１５でカラーフィルタ層１４Ｒ、１４Ｇ、１４Ｂを覆う必要は無い。カラーフィルタ層１４Ｒ、１４Ｇ、１４Ｂを覆っていた平坦化層１５が無くなった分、平坦化層１５での発熱量が少なくなり、また発生した熱を伝導層１５ｂにより放熱できるので、液晶装置内の温度上昇を抑えることができ、熱による表示不良を抑えることができる。
【解決手段】 カラーフィルタ層１４Ｒ、１４Ｇ、１４Ｂの間を埋めるように平坦化層１５を設け、カラーフィルタ層１４Ｒ、１４Ｇ、１４Ｂと平坦化層１５とを同じ高さにすることで、カラーフィルタ層１４Ｒ、１４Ｇ、１４Ｂと平坦化層１５とで平坦面１８を形成することができる。平坦化層１５でカラーフィルタ層１４Ｒ、１４Ｇ、１４Ｂを覆う必要は無い。カラーフィルタ層１４Ｒ、１４Ｇ、１４Ｂを覆っていた平坦化層１５が無くなった分、平坦化層１５での発熱量が少なくなり、また発生した熱を伝導層１５ｂにより放熱できるので、液晶装置内の温度上昇を抑えることができ、熱による表示不良を抑えることができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば液晶装置や、有機ＥＬ（Electro-Luminescence）装置、無機ＥＬ装置に代表される発光装置等の電気光学装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置用基板及び投射型表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶装置等の電気光学装置に用いるカラーフィルタ基板は、ガラス等の透明基板上に設けられる例えば赤、緑、青の３色のカラーフィルタ層と、当該カラーフィルタ層とカラーフィルタ層間との段差を平坦化する平坦化層と、平坦化層により平坦化された面に設けられる共通電極とを有している。平坦化層は、一度所望の厚さよりも厚く形成し、余剰部分を削除して所望の厚さにする。また、カラーフィルタ層の層厚よりも厚く形成し、この平坦化層でカラーフィルタ層を覆いつくすようにするのが一般的である（例えば、特許文献１参照。）。
【特許文献１】特開平１１−１６０６９４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、平坦層を構成する樹脂等の材料は一般に熱伝導性が低いため、カラーフィルタを覆いつくすように平坦化層を形成した場合、熱が伝導されずに平坦化層内又はカラーフィルタ内にこもりやすくなる。電気光学装置に照射される光の一部はカラーフィルタや平坦化層で吸収されて熱に変わるため、この熱がこもってしまうと液晶パネル内部で温度が上がり、例えばカラーフィルタ層にクラックが生じ、表示不良等を引き起こす恐れがある。
【０００４】
また、製造時には、平坦化層を形成する工程と余剰部分を削除する工程との２工程を要するため作業が煩雑になるし、削除する余剰部分の材料も無駄になってしまう。さらに、所望の厚さになるように余剰部分を削除することは、技術的にも困難である。
【０００５】
以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、熱による表示不良を抑えることができ、容易に製造することができ、材料の無駄をなくすことができる電気光学装置、当該電気光学装置用基板、当該電気光学装置の製造方法及び当該電気光学装置を搭載した投射型表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するため、本発明に係る電気光学装置は、基板と、前記基板上に配列され、カラーフィルタを構成する複数のカラーフィルタ層と、前記基板上に前記カラーフィルタ層の間を埋めるように設けられ、前記カラーフィルタ層及び前記カラーフィルタ層の間を前記カラーフィルタ層の高さに平坦化する平坦化層と、少なくとも前記複数のカラーフィルタ層を覆うように、前記カラーフィルタ層上と前記平坦化層上とに亘って設けられた電極とを具備することを特徴とする。
ここで、「高さ」は、基板表面を基準としたときの層（カラーフィルタ層及び平坦化層）の上面までの距離を意味する。
【０００７】
本発明によれば、カラーフィルタ層の間を埋めるように平坦化層を設け、カラーフィルタ層と平坦化層とを同じ高さにすることで、カラーフィルタ層と平坦化層とで電極形成面を平坦化できる。平坦化層でカラーフィルタ層を覆う必要は無い。カラーフィルタ層を覆っていた平坦化層が無くなった分、平坦化層で発生した熱がこもらなくなるので、電気光学装置内の温度上昇を抑えることができ、熱による表示不良を抑えることができる。
【０００８】
また、前記平坦化層のうち少なくとも前記電極に接する部分が、前記電極よりも電気伝導率が高い材料からなることが好ましい。
電気光学装置を駆動する際に、電極に電圧をかけると発熱する。電気伝導率が高い（電気抵抗値が低い）と発熱は少なくて済む。本発明のように、平坦化層のうち電極に接する部分を電極よりも電気伝導率が高い材料からなるようにすると、電極の電気伝導を補助する働きをするため、電極の電気伝導率を向上させることができる。これにより、電極からの発熱を減少させることができ、熱による表示不良を一層抑制することができる。
【０００９】
また、前記平坦化層の少なくとも一部が、前記電極よりも熱伝導率が高い材料からなることが好ましい。
本発明によれば、電極から発生した熱を伝導し、一箇所にこもらせないで拡散することができるので、熱による応力の発生や、カラーフィルタ層のクラックの発生を防ぐことができ、発熱による表示不良を回避することができる。これにより、熱による表示不良を一層抑制することができる。
【００１０】
また、前記平坦化層の少なくとも一部が、光反射材料からなることが好ましい。
これにより、平坦化層が遮光層を兼ねることができるので、一の工程で平坦化層と遮光層とを形成することができる。これにより、工数を削減することができる。また、光反射材料からなることとしたので光を反射することができ、平坦化層での光の吸収を減らすことができ、発熱を減らすことができる。
【００１１】
また、前記平坦化層が、前記電極に接するように設けられ、電気伝導率及び熱伝導率のうち少なくとも一方が前記電極よりも高い材料からなる伝導層と、前記伝導層と前記基板との間に設けられた反射層とを有することが好ましい。
本発明のように、平坦化層を伝導層と反射層の２層を有するようにしたことで、伝導層では電気伝導を補助すること又は熱を拡散することができ、反射層では光を反射することができるため、熱による表示不良を相乗的に抑えることができる。
【００１２】
また、前記電極よりも電気伝導率が高い材料及び前記電極よりも熱伝導率が高い材料が金属であることが好ましい。
通常、平坦化層の上に形成される電極としては、光透過性を有する例えばＩＴＯ等の透明電極が用いられることが多い。金属は、総じてこのような透明電極よりも電気伝導率及び熱伝導率が高く、本発明の平坦化層として好適に用いることができる。
【００１３】
また、前記金属の主成分が、銅であることが好ましい。
銅は、金属の中でも電気伝導率及び熱伝導率の双方において高い値を有しており、コストも低く抑えることができるため、本発明の平坦化層として一層好適に用いることができる。
【００１４】
また、前記光反射材料が金属からなることが好ましい。
金属は、総じて光を反射する作用が強く、例えば上述のＩＴＯ等よりも光の吸収が少ない。したがって、本発明の平坦化層として好適に用いることができる。
【００１５】
また、前記金属の主成分が、銀又はアルミニウムであることを特徴とするが好ましい。
銀又はアルミニウムは、金属の中でも特に高い光反射率を有している。これらの金属はある程度薄く形成しても高い割合で光反射するので、例えば光反射率が極めて高いが一般的にコストが高いとされる銀であっても、コスト面で問題なく本発明に好適に用いることができる。
【００１６】
また、前記カラーフィルタ層が、無機誘電体多層膜からなる光干渉カラーフィルタを構成することが好ましい。
無機誘電体多層膜からなる光干渉カラーフィルタは、無機材料から構成されるため、光や熱による劣化がほとんど無く、通常よりも強い光や熱にも耐えることができる。一般的に、投射型表示装置は直視型表示装置に比べて光源から射出される光を強くする必要があるため、投射型表示装置のライトバルブに用いられる電気光学装置は、直視型表示装置としての電気光学装置に比べて、より強い光や熱を光源から受ける。したがって、無機誘電体多層膜からなる光干渉カラーフィルタの構成は、例えば投射型表示装置のライトバルブ用の電気光学装置に適している。
【００１７】
本発明の電気光学装置は、上記の各構成に加えて、カラーフィルタ自体の耐光熱性に優れた構成により、一層熱による表示不良が起こりにくいため、投射型表示装置のライトバルブとして特に好適に用いることができる。
【００１８】
本発明に係る電気光学装置用基板は、基板と、前記基板上に配列された複数のカラーフィルタ層と、前記基板上に前記カラーフィルタ層の間を埋めるように設けられ、前記カラーフィルタ層及び前記カラーフィルタ層の間を前記カラーフィルタ層の高さに平坦化する平坦化層と、少なくとも前記複数のカラーフィルタ層を覆うように、前記カラーフィルタ層上と前記平坦化層上とに亘って設けられた電極とを具備することを特徴とする。
【００１９】
本発明によれば、カラーフィルタ層を覆うだけの平坦化層の材料は必要なく、カラーフィルタ層の間を埋めるだけで済むため、材料の無駄遣いが無い。また、カラーフィルタ層の高さまで調節しながら平坦化層を形成すれば一の工程で済むため、製造工程の簡略化を図ることができる。さらに、カラーフィルタ層の表面を平坦化層で覆いつくすようにはせずに、カラーフィルタ層の間を埋めるように平坦化層を設けることとしたので、本発明に係る電気光学装置用基板を用いて電気光学装置を構成した場合には、平坦化層で光吸収により発生した熱がこもりにくくなり、熱による表示不良を抑えることができる。
【００２０】
本発明に係る電気光学装置の製造方法は、基板上に複数のカラーフィルタ層を配列する工程と、前記基板上に前記カラーフィルタ層の間を埋めるように、前記カラーフィルタ層の高さよりも低い高さに基板側平坦化層を形成する工程と、前記基板側平坦化層上に、前記カラーフィルタ層の間が前記各カラーフィルタ層の高さになるように、電極側平坦化層を形成する工程と、前記複数のカラーフィルタ層を覆うように、前記カラーフィルタ層上と前記電極側平坦化層面とに亘って電極を形成する工程とを具備することを特徴とする。
【００２１】
本発明によれば、カラーフィルタ層の高さまで調節しながら基板側平坦化層及び電極側平坦化層を順に形成することとしたので、不要な部分を除去する工程を行う必要が無く、工程数を削減することができる。これにより、製造工程の簡略化を図ることができる。また、厚めに形成した平坦化層の余剰分を削除することも無いため、材料の無駄を省くことができる。
【００２２】
また、前記電極側平坦化層を形成する工程では、前記電極側平坦化層を無電界メッキ法により形成することが好ましい。
無電界メッキ法によれば、フォトリソ法等複雑な工程を経ることなく前記基板側平坦化層の上面だけに化学反応を用いて前記電極側平坦化層を選択的に成膜することができる。また層の厚さの制御を容易に行うことができ、しかも、厚さを均一にすることができる。例えば液晶装置のカラーフィルタ間に電極側平坦化層を形成する場合、電極側平坦化層が形成されるカラーフィルタ間は極めて微細であるため、電極側平坦化層の形成する位置を精度良く選択することや、本発明では電極側平坦化層の上面が均一であることが望まれる。したがって無電界メッキ法を用いる効果は非常に大きい。また、電鋳の時間を制御することで、電極側平坦化層を所望の厚さに均一に形成することが容易となるという利点もある。
【００２３】
また、前記基板側平坦化層が、導電性を有する材料からなり、前記電極側平坦化層を形成する工程では、前記電極側平坦化層を電鋳法により形成することが好ましい。
これにより、導電性を有する基板側平坦化層をカソード電極とし、当該基板側平坦化層の上にそのまま電極側平坦化層を成長させることができるので、電極側平坦化層を選択的に形成することが容易となる。例えば液晶装置のカラーフィルタ間に電極側平坦化層を形成する場合、電極側平坦化層が形成されるカラーフィルタ間は極めて微細であるため、電極側平坦化層の形成する位置を精度良く選択することが望まれる。したがって、本発明のように電鋳法を用いる効果は大きい。また、電鋳の時間を制御することで、電極側平坦化層の厚さを制御できるという利点もある。
【００２４】
本発明に係る電子機器は、上記の電気光学装置又は上記の電気光学装置の製造方法により製造された電気光学装置を搭載したことを特徴とする。
熱による表示不良を抑えることができ、材料の使用量を減らすことができる電気光学装置を搭載しているので、表示特性が良く安価な、ユーザの需要に応じた投射型表示装置を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
本発明の実施形態を図面に基づき説明する。
図１は、本実施形態に係る液晶装置１の全体構成を示す斜視図である。
液晶装置１は、液晶パネル２と、この液晶パネル２に接続され電源等の回路が形成されたフレキシブル基板３とを有し、図示しないバックライト等の照明装置やケース体が必要に応じて取り付けられる。
【００２６】
この液晶装置１は、例えばスイッチング素子としてＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）が形成されたアクティブマトリクス型構造となっており、当該液晶装置１を駆動する駆動ドライバが直接基板に実装されるＣＯＧ方式により構成される。なお、スイッチング素子としてＴＦＤ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｄｉｏｄｅ）を用いても良いし、駆動ドライバが例えばフレキシブル基板に実装されたＣＯＦ方式により構成しても構わない。
【００２７】
液晶パネル２は、配線基板４と、上記基板又は電気光学装置用基板としてのカラーフィルタ基板５とが、シール材６によって貼り合わされると共に、両基板４及び５とシール材によって囲まれた表示領域７に電気光学材料としての液晶８が封入された構成となっている。液晶パネル２の外側、すなわち、配線基板４及びカラーフィルタ基板５の外側表面には、入射光を偏光させる偏光板や、干渉色を補償するための位相差板等が適宜貼着される（図示は省略）。
【００２８】
配線基板４は、ガラスや石英等の透明あるいは光透過性の高い材料から形成される。配線基板４の液晶を保持する面側には、走査線９やデータ線１０が引き回されている。走査線９は、配線基板４の表示領域７にＹ方向に沿って形成される。データ線１０は、配線基板４の側端部分を介して表示領域７まで引き回され、表示領域７ではＸ方向に沿って形成される。走査線９とデータ線１０との各交点には、スイッチング素子として、例えば図示しないＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）が形成される。
【００２９】
配線基板４は、カラーフィルタ基板５から張り出した領域（張出領域）４ａを有している。この張出領域４ａには、液晶パネル２を駆動するための駆動ドライバ１１が、例えば異方性導電膜（以下、「ＡＣＦ」という。）１２を介して実装されている。この実装部品としての駆動ドライバ１１は、電源からの入力信号に基づき、液晶パネル２を駆動する駆動信号を出力する。上述した走査線９及びデータ線１０は、この駆動ドライバ１１の出力側に電気的に接続される。駆動ドライバ１１の入力側には、電源からの入力信号を伝える配線１３が接続されている。
【００３０】
一方、カラーフィルタ基板５は、配線基板４と同様に、ガラスや石英等の透明あるいは光透過性の高い材料から形成される。カラーフィルタ基板５には、表示領域７の各画素（ピクセル）ごとに、カラーフィルタ層として、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）のカラーフィルタ層１４（赤：１４Ｒ、緑：１４Ｇ、青：１４Ｂ）がそれぞれ１つずつ形成される。カラーフィルタ層１４Ｒは赤色の色光を、カラーフィルタ層Ｇは緑色の色光を、カラーフィルタ層１４Ｂは青色の色光を透過可能に構成され、透過可能な波長以外の色光が入射しても反射されるようになっている。各カラーフィルタ層１４は、例えば無機材料を主体として構成され、屈折率の異なる複数の誘電体層、例えばＴｉＯ２とＳｉＯ２とを積層した構成を具備しており、干渉型カラーフィルタ層として構成されている。カラーフィルタ層Ｒ，Ｇ，Ｂの周縁部は例えば裾広がりの形状を有している。
【００３１】
図２は、図１におけるＡ−Ａ断面図であり、特にカラーフィルタ基板５の内面側（液晶層側）の構成を示す図である。なお同図では、配線基板４側については配線基板４、画素電極５０及び配向膜５１のみ示すものとし、液晶保持面側の構成は図示を省略する。
【００３２】
各カラーフィルタ層１４（それぞれ基板表面５ａからの高さｈ１）の間には、カラーフィルタ層１４Ｒ、１４Ｇ、１４Ｂと当該各カラーフィルタ層１４の間との段差を平坦化する平坦化層１５が形成される。各カラーフィルタ層１４と各平坦化層１５とで形成された平坦面１８上には、各カラーフィルタ層１４が形成される範囲を覆うように、例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍｕ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）等の透明な導電材料からなる共通電極１６が全面に設けられる。
【００３３】
ここで、平坦化層１５は、カラーフィルタ層１４の間を埋めるように形成されており、カラーフィルタ層１４と同じ高さｈ２に形成される。この平坦化層１５は、ＩＴＯよりも反射率の高い材料からなる反射層（基板側平坦化層）１５ａと、ＩＴＯよりも電気伝導率が高く（比抵抗が低く）、熱伝導率が高い材料からなる伝導層（電極側平坦化層）１５ｂとの２層構造になっている。なお、ＩＴＯの比抵抗は約１００μΩ・ｃｍ、熱伝導率は約８．２Ｗ／ｍ・Ｋである。
【００３４】
反射層１５ａは、例えばカラーフィルタ基板５の表面に設けられ、基板側からの光を反射する。光反射率（特に可視光反射率）の高い材料、例えば銀（光反射率：約９６％）やアルミニウム（光反射率：約９０％）等で構成される。また、例えば他の種類の材料であっても、光反射率が約８５％以上であれば、当該反射層１５ａの材料として好適に用いることができる。
【００３５】
伝導層１５ｂは、共通電極１６と接しており、共通電極１６の電気伝導を補助し、共通電極１６が電気伝導により過度に発熱するのを抑えている。また、共通電極１６への電圧印加により生じる熱を伝導し、熱が一箇所にこもらないようにしている。ＩＴＯよりも電気伝導率及び熱伝導率の高い材料、例えば銅（比抵抗：約１．７２μΩ・ｃｍ、熱伝導率：約４０３Ｗ／ｍ・Ｋ）等で構成される。他の材料としては、例えば金（比抵抗：約２．１９μΩ・ｃｍ、熱伝導率：約３１９Ｗ／ｍ・Ｋ）等が挙げられる。また、反射層１５ａとして用いる銀（比抵抗：約１．６３μΩ・ｃｍ、熱伝導率：約４２８Ｗ／ｍ・Ｋ）やアルミニウム（比抵抗：約２．８１μΩ・ｃｍ、熱伝導率：約２３６Ｗ／ｍ・Ｋ）を当該伝導層１５ｂとして用いても構わない。銀やアルミニウムは、光反射率が高いと同時に、電気伝導性及び熱伝導性も高いので、伝導層１５ｂとしても好適に用いることができる。また、当該伝導層１５ｂとしては、電気伝導率及び熱伝導率の双方が高い材料が好ましいことはいうまでも無いが、どちらか一方が高い材料であっても、好適に用いることができる。
【００３６】
また、当該共通電極１６の内面側には、例えばポリイミド等を主体として構成される有機膜をラビングしてなる配向膜１７が形成されている。
また、液晶装置１の各外面側には、当該液晶装置１内に直線偏光を入射させるための偏光板等が設けられる。
【００３７】
次に、本発明の液晶装置１の製造工程について説明する。
図３は、液晶装置１の製造工程を示すフローチャートである。本実施形態では、大面積のマザー基板を用いて複数の液晶装置を一括して形成し、切断によって個々の液晶装置１に分離する方法を例に挙げて説明する。
【００３８】
ＳＴ１からＳＴ５までの工程により、カラーフィルタが設けられたカラーフィルタ側マザー基板が形成され、ＳＴ１１からＳＴ１３まで工程によって配線や例えばアクティブマトリクス型の液晶装置であればスイッチング素子等が設けられた配線側マザー基板が形成される。なお、配線側マザー基板は、配線基板４となる複数の矩形の表示領域７を含む大判の基板であり、カラーフィルタ側マザー基板は、カラーフィルタ基板５となる複数の矩形の表示領域７を含む大判の基板である。
【００３９】
まず、カラーフィルタ側マザー基板の形成工程（ＳＴ１〜ＳＴ９）について説明する。
【００４０】
図４に示すように、ガラス等の透光性材料からなる大判の基材の各表示領域７に液晶装置複数分のカラーフィルタ層１４Ｒ、１４Ｇ、１４Ｂを形成する（ＳＴ１）。
【００４１】
次に、図５に示すように、カラーフィルタ層１４Ｒ、１４Ｇ、１４Ｂの間に、平坦化層１５のうちの反射層１５ａを選択的に形成する（ＳＴ２）。例えば、一度全面に層を形成してパターニングすることで反射層１５ａを形成しても良く（フォトリソグラフィ法）、反射層１５ａを形成したい領域以外の部分、つまりカラーフィルタ層１４Ｒ、１４Ｇ、１４の間以外の部分をマスクで覆い、スパッタリング等により形成しても良い。
【００４２】
次に、図６に示すように、無電界銅メッキ法により伝導層１５ｂを形成する（ＳＴ３）。無電界銅メッキ法は、銅錯体と還元剤とを反応させて銅を還元することにより、対象物に銅をメッキする方法である。銅錯体には、例えば、酒石酸カリウム・ナトリウム銅錯体やＥＤＴＡ（エチレンジアミン四酢酸）銅錯体等が用いられる。還元剤には、例えば、ホルムアルデヒドが用いられる。無電界銅メッキ法の一般的な反応式を[化１]に示す。
【化１】
【００４３】
ここでは、容器３６内の、例えば上記の銅錯体及び還元剤が混入された電解液３７にマザー基板を浸し、対象物となる反射層１５ａ上に成長させてメッキを形成する。伝導層１５ｂの高さは、例えば反応時間を調節することで、各カラーフィルタ層１４の高さと同じにする。また、例えば反射層１５ａ上で反応が起こりやすくなるように、予め活性化処理を施しておいても構わない。
【００４４】
次に、図７に示すように、カラーフィルタ層１４及び平坦化層１５により平坦化された平坦面１８上に共通電極１６を形成する（ＳＴ４）。共通電極１６は、例えばカラーフィルタ層１４が形成された領域に、スパッタリング等の方法により形成される。
【００４５】
次に、当該基材の表面にギャップ制御用の図示しないスペーサ及び隔壁を形成する（ＳＴ５）。スペーサは、各表示領域７に形成する。
この基材に形成された配線やカラーフィルタを覆うように配向膜を形成し（ＳＴ６）、この配向膜に対してラビング処理を実行する（ＳＴ７）。配向膜は、例えばポリイミドを塗布又は印刷することによって形成することができる。
【００４６】
各表示領域７の周縁部には、当該表示領域７を囲むようにエポキシ樹脂等からなるシール材を矩形枠状に形成する（ＳＴ８）。このシール材は、ディスペンサ等を用いて設計された位置に正確に形成する。シール材は表示領域７の角部を開始点として一筆書きで閉環状に形成される。
【００４７】
そして、シール材で囲まれた表示領域７に液晶を塗布する（ＳＴ９）。例えば液晶滴下装置内にカラーフィルタ側マザー基板を配置させ、液滴吐出ヘッドから液晶を液滴状にして吐出し、これを基板表面に連続的に多数配置することによって所定の広さを持った液膜を形成する。
【００４８】
次に、配線側マザー基板の形成工程（ＳＴ１１〜ＳＴ１３）について簡単に説明する。
【００４９】
カラーフィルタ側マザー基板の場合と同様に、ガラス等の透光性材料からなる大判の基材の各表示領域７に走査線７、データ線８等を形成する（ＳＴ１１）。これら走査線７やデータ線８については、例えば基材の表面全体にアルミニウム等の金属をスパッタし、これをエッチングすることによって、各表示領域７に対して一括的に形成することができる。
次に、各表示領域７内にポリイミド等からなる配向膜を形成し（ＳＴ１２）、この配向膜に対してラビング処理を実行する（ＳＴ１３）。
【００５０】
次に、上記の各工程で形成したカラーフィルタ側マザー基板と配線側マザー基板とを貼り合わせる（ＳＴ２１）。両基板を近接させ、配線側マザー基板がカラーフィルタ側マザー基板上のシール材２３に接着させるようにする。その後、配線基板４及びカラーフィルタ基板５にスクライブ線を形成し、当該スクライブ線に沿って液晶パネルを切断し（ＳＴ２２）、各液晶パネルの洗浄を行い（ＳＴ２３）、各液晶パネルの外側表面に偏光板を貼着（ＳＴ２４）する。
【００５１】
そして、各液晶パネル２にＡＣＦ１２を介して駆動ドライバ１１を実装し（ＳＴ２５）、各液晶パネル２にＡＣＦ１０を介してフレキシブル基板３を実装して（ＳＴ２６）、液晶装置１が完成する。
【００５２】
このように、本実施形態によれば、カラーフィルタ層１４の間を埋めるように平坦化層１５を設け、カラーフィルタ層１４と平坦化層１５とを同じ高さにすることで、カラーフィルタ層１４と平坦化層１５とで平坦面１８を形成することができる。平坦化層１５でカラーフィルタ層１４を覆う必要は無い。カラーフィルタ層１４を覆っていた平坦化層１５が無くなった分、平坦化層１５での発熱量が少なくなり、また発生した熱を伝導層１５ｂにより放熱することで熱がこもらなくなるので、液晶装置１内の温度上昇を抑えることができ、熱による表示不良を抑えることができる。
【００５３】
また、カラーフィルタ層１４の高さまで調節しながら反射層１５ａ及び伝導層１５ｂを順に形成することとしたので、不要な部分を除去する工程を行う必要が無く、工程数を削減することができる。これにより、製造工程の簡略化を図ることができる。また、厚めに形成した平坦化層１５の余剰分を削除することも無いため、材料の無駄を省くことができる。無電界メッキ法によれば、形成する層の位置と厚さの制御を容易に行うことができ、しかも、その厚さを均一にすることができる。このため、均一な伝導層１５ｂを所望の厚さに形成することが容易となる。本発明では、伝導層１５ｂの上面が均一であることが特に望まれるため、無電界銅メッキ法を用いる効果は非常に大きい。
【００５４】
（第２実施形態）
次に、本発明に係る第２実施形態を説明する。第１実施形態と同一の構成要素については、同一の符号を付してその説明を省略する。本実施形態では、伝導層１５ｂを形成する方法が、第１実施形態の無電界銅メッキ法とは異なっているため、この点を中心に説明する。
【００５５】
本実施形態では、第１実施形態と同様に、大面積のマザー基板を用いて複数の液晶装置を一括して形成し、切断によって個々の液晶装置１に分離する方法を例に挙げて説明する。
まず、マザー基板の各表示領域７に液晶装置複数分のカラーフィルタ層１４を形成し（ＳＴ１）、例えばスパッタリング等の方法により基板上のカラーフィルタ層１４の間に、例えば銀からなる反射層１５ａを形成する（ＳＴ２）。
【００５６】
次に、電鋳法により伝導層１５ｂを形成する（ＳＴ３）。電鋳法では、まず、図８に示すように例えば容器４０内の電解液４１に反射層１５ａが形成されたマザー基板を浸す。電解液４１は、例えば硫酸銅水溶液を用いることができる。電圧源４２及びアノード側電極４３、カソード側接続部４４を用意し、アノード側電極４３を電解液に浸す。カソード側接続部４４を各反射層１５ａに接続し、銀からなる反射層１５ａをカソード電極とする。この状態で電圧源４２を駆動させると、電解液中の銅イオンが、カソード電極である反射層１５ａに集まり、当該反射層１５ａに付着し、時間と共に成長して、伝導層１５ｂを形成する。
【００５７】
カラーフィルタ層１４及び平坦化層１５により平坦化された平坦面１８上には、共通電極１６を形成する（ＳＴ４）。共通電極１６は、例えばカラーフィルタ層１４が形成された領域に、スパッタリング等の方法により形成される。
この後の工程は、第１実施形態と同様であるため、説明を省略する。
【００５８】
このように、本実施形態によれば、導電性を有する反射層１５ａをカソード電極とし、当該反射層１５ａの上にそのまま伝導層１５ｂを成長させることができるので、伝導層１５ｂを選択的に形成することが容易となる。例えば、液晶装置１のカラーフィルタ層１４の間は極めて微細であるため、伝導層１５ｂの形成する位置を精度良く特定することが望まれる。したがって、電柱法を用いる効果は大きい。また、電鋳の時間を制御することで、伝導層１５ｂの厚さを制御できるという利点もある。
【００５９】
（投射型表示装置）
次に、各実施形態の液晶装置を光変調装置として用いた投射型表示装置の実施形態を説明する。
【００６０】
図９は本発明に係る投射型表示装置の概略構成を示す図である。上記の液晶装置１は、入射した直線偏光を液晶層の駆動により変調可能で、同図に示すように、投射型液晶装置２０の光変調手段（ライトバルブ）として好適に用いることができる。
【００６１】
投射型液晶装置２０は、白色光を射出する光源２１と、当該光源２１から射出された白色光の輝度分布を均一にするロッドインテグレータ２２と、輝度分布を均一にされた白色光を平行光に変換するコンデンサレンズ系２３と、平行光に変換された白色光をＲＧＢの色光に分光し、分光された各色光を変調する液晶装置１と、変調された各色光をスクリーンＳに投射する投射レンズ２７とを有する。
【００６２】
光源２１には、白色光を射出するメタルハライド等のランプ３１と、射出された白色光を反射するリフレクタ３２とが備えられている。
ロッドインテグレータ２２には、透光性の棒状の導光体（例えば、ガラス棒）、もしくは内面が反射面とされた管状の導光体などが用いられている。
【００６３】
コンデンサレンズ系２３には、ロッドインテグレータ２２から入射した光が液晶装置１に平行光となって入射するように、コンデンサレンズ３５ａおよびコンデンサレンズ３５ｂが備えられている。
液晶装置１は光変調装置であって、ここでは図１に示したものを用いている。
【００６４】
光源２１からの光は、ロッドインテグレータ２２によりコンデンサレンズ系２３に導光され、ここで平行光（直線偏光）に変換される。変換された平行光（直線偏光）は、液晶装置１により変調され、変調された各色光は投射レンズ２７によりスクリーンＳ上に投射される。
【００６５】
液晶装置を駆動中に、液晶装置内で熱が発生してカラーフィルタ層等にクラックが形成されたりすると、スクリーンＳ上に大きく現れ表示不良となる。上記の液晶装置１では、発熱量が少なく、また発生した熱が液晶装置内にこもらないので、液晶装置１内の温度上昇を抑えることができ、熱による表示不良を抑えることができる。
【００６６】
また、上記液晶装置１では、当該液晶装置１を構成する材料の使用量を抑えることができるので、コストを低く抑えることができる。
【００６７】
また、液晶装置１のカラーフィルタ層１４が、無機誘電体多層膜からなる光干渉カラーフィルタを構成するので、光や熱による劣化がほとんど無く、通常よりも強い光や熱にも耐えることができる。
【００６８】
一般的に、投射型表示装置は直視型表示装置に比べて光源からより強い光を射出する必要があるため、投射型表示装置のライトバルブに用いられる液晶装置は、直視型表示装置としての液晶装置に比べて、より強い光や熱を光源から受ける。このため、無機誘電体多層膜からなる光干渉カラーフィルタの構成は、ライトバルブ用の液晶装置の構成として好んで用いることができる。
【００６９】
したがって、液晶装置１は、上記の各構成に加えて各カラーフィルタ層１４自体が耐光熱性に優れた構成を有しており、一層熱による表示不良が起こりにくいため、投射型液晶装置２０のライトバルブとして特に好適に用いることができる。
【００７０】
このように、熱による表示不良を抑えることができ、材料の使用量を減らすことができる液晶装置１を搭載しているので、表示特性が良く安価な、ユーザの需要に応じた投射型液晶装置２０を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００７１】
【図１】本発明の第１実施形態に係る液晶装置の全体構成を示す斜視図である。
【図２】図１におけるＡ−Ａ断面図である。
【図３】本実施形態に係る液晶装置の製造工程を示すフローチャートである。
【図４】液晶装置の製造の様子（その１）を示す図である。
【図５】液晶装置の製造の様子（その２）を示す図である。
【図６】液晶装置の製造の様子（その３）を示す図である。
【図７】液晶装置の製造の様子（その４）を示す図である。
【図８】本発明の第２実施形態に係る液晶装置の製造の様子を示す図である。
【図９】本発明に係る投射型表示装置の構成を示す図である。
【符号の説明】
【００７２】
１…液晶装置 ２…液晶パネル ５…カラーフィルタ基板 ７…走査線 ８…液晶 １４（１４Ｒ、１４Ｇ、１４Ｂ）…カラーフィルタ層 １５…平坦化層 １５ａ…反射層 １５ｂ…伝導層 １６…共通電極 １８…平坦面 ２０…投射型液晶装置 ３７、４１…電解液
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば液晶装置や、有機ＥＬ（Electro-Luminescence）装置、無機ＥＬ装置に代表される発光装置等の電気光学装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置用基板及び投射型表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶装置等の電気光学装置に用いるカラーフィルタ基板は、ガラス等の透明基板上に設けられる例えば赤、緑、青の３色のカラーフィルタ層と、当該カラーフィルタ層とカラーフィルタ層間との段差を平坦化する平坦化層と、平坦化層により平坦化された面に設けられる共通電極とを有している。平坦化層は、一度所望の厚さよりも厚く形成し、余剰部分を削除して所望の厚さにする。また、カラーフィルタ層の層厚よりも厚く形成し、この平坦化層でカラーフィルタ層を覆いつくすようにするのが一般的である（例えば、特許文献１参照。）。
【特許文献１】特開平１１−１６０６９４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、平坦層を構成する樹脂等の材料は一般に熱伝導性が低いため、カラーフィルタを覆いつくすように平坦化層を形成した場合、熱が伝導されずに平坦化層内又はカラーフィルタ内にこもりやすくなる。電気光学装置に照射される光の一部はカラーフィルタや平坦化層で吸収されて熱に変わるため、この熱がこもってしまうと液晶パネル内部で温度が上がり、例えばカラーフィルタ層にクラックが生じ、表示不良等を引き起こす恐れがある。
【０００４】
また、製造時には、平坦化層を形成する工程と余剰部分を削除する工程との２工程を要するため作業が煩雑になるし、削除する余剰部分の材料も無駄になってしまう。さらに、所望の厚さになるように余剰部分を削除することは、技術的にも困難である。
【０００５】
以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、熱による表示不良を抑えることができ、容易に製造することができ、材料の無駄をなくすことができる電気光学装置、当該電気光学装置用基板、当該電気光学装置の製造方法及び当該電気光学装置を搭載した投射型表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するため、本発明に係る電気光学装置は、基板と、前記基板上に配列され、カラーフィルタを構成する複数のカラーフィルタ層と、前記基板上に前記カラーフィルタ層の間を埋めるように設けられ、前記カラーフィルタ層及び前記カラーフィルタ層の間を前記カラーフィルタ層の高さに平坦化する平坦化層と、少なくとも前記複数のカラーフィルタ層を覆うように、前記カラーフィルタ層上と前記平坦化層上とに亘って設けられた電極とを具備することを特徴とする。
ここで、「高さ」は、基板表面を基準としたときの層（カラーフィルタ層及び平坦化層）の上面までの距離を意味する。
【０００７】
本発明によれば、カラーフィルタ層の間を埋めるように平坦化層を設け、カラーフィルタ層と平坦化層とを同じ高さにすることで、カラーフィルタ層と平坦化層とで電極形成面を平坦化できる。平坦化層でカラーフィルタ層を覆う必要は無い。カラーフィルタ層を覆っていた平坦化層が無くなった分、平坦化層で発生した熱がこもらなくなるので、電気光学装置内の温度上昇を抑えることができ、熱による表示不良を抑えることができる。
【０００８】
また、前記平坦化層のうち少なくとも前記電極に接する部分が、前記電極よりも電気伝導率が高い材料からなることが好ましい。
電気光学装置を駆動する際に、電極に電圧をかけると発熱する。電気伝導率が高い（電気抵抗値が低い）と発熱は少なくて済む。本発明のように、平坦化層のうち電極に接する部分を電極よりも電気伝導率が高い材料からなるようにすると、電極の電気伝導を補助する働きをするため、電極の電気伝導率を向上させることができる。これにより、電極からの発熱を減少させることができ、熱による表示不良を一層抑制することができる。
【０００９】
また、前記平坦化層の少なくとも一部が、前記電極よりも熱伝導率が高い材料からなることが好ましい。
本発明によれば、電極から発生した熱を伝導し、一箇所にこもらせないで拡散することができるので、熱による応力の発生や、カラーフィルタ層のクラックの発生を防ぐことができ、発熱による表示不良を回避することができる。これにより、熱による表示不良を一層抑制することができる。
【００１０】
また、前記平坦化層の少なくとも一部が、光反射材料からなることが好ましい。
これにより、平坦化層が遮光層を兼ねることができるので、一の工程で平坦化層と遮光層とを形成することができる。これにより、工数を削減することができる。また、光反射材料からなることとしたので光を反射することができ、平坦化層での光の吸収を減らすことができ、発熱を減らすことができる。
【００１１】
また、前記平坦化層が、前記電極に接するように設けられ、電気伝導率及び熱伝導率のうち少なくとも一方が前記電極よりも高い材料からなる伝導層と、前記伝導層と前記基板との間に設けられた反射層とを有することが好ましい。
本発明のように、平坦化層を伝導層と反射層の２層を有するようにしたことで、伝導層では電気伝導を補助すること又は熱を拡散することができ、反射層では光を反射することができるため、熱による表示不良を相乗的に抑えることができる。
【００１２】
また、前記電極よりも電気伝導率が高い材料及び前記電極よりも熱伝導率が高い材料が金属であることが好ましい。
通常、平坦化層の上に形成される電極としては、光透過性を有する例えばＩＴＯ等の透明電極が用いられることが多い。金属は、総じてこのような透明電極よりも電気伝導率及び熱伝導率が高く、本発明の平坦化層として好適に用いることができる。
【００１３】
また、前記金属の主成分が、銅であることが好ましい。
銅は、金属の中でも電気伝導率及び熱伝導率の双方において高い値を有しており、コストも低く抑えることができるため、本発明の平坦化層として一層好適に用いることができる。
【００１４】
また、前記光反射材料が金属からなることが好ましい。
金属は、総じて光を反射する作用が強く、例えば上述のＩＴＯ等よりも光の吸収が少ない。したがって、本発明の平坦化層として好適に用いることができる。
【００１５】
また、前記金属の主成分が、銀又はアルミニウムであることを特徴とするが好ましい。
銀又はアルミニウムは、金属の中でも特に高い光反射率を有している。これらの金属はある程度薄く形成しても高い割合で光反射するので、例えば光反射率が極めて高いが一般的にコストが高いとされる銀であっても、コスト面で問題なく本発明に好適に用いることができる。
【００１６】
また、前記カラーフィルタ層が、無機誘電体多層膜からなる光干渉カラーフィルタを構成することが好ましい。
無機誘電体多層膜からなる光干渉カラーフィルタは、無機材料から構成されるため、光や熱による劣化がほとんど無く、通常よりも強い光や熱にも耐えることができる。一般的に、投射型表示装置は直視型表示装置に比べて光源から射出される光を強くする必要があるため、投射型表示装置のライトバルブに用いられる電気光学装置は、直視型表示装置としての電気光学装置に比べて、より強い光や熱を光源から受ける。したがって、無機誘電体多層膜からなる光干渉カラーフィルタの構成は、例えば投射型表示装置のライトバルブ用の電気光学装置に適している。
【００１７】
本発明の電気光学装置は、上記の各構成に加えて、カラーフィルタ自体の耐光熱性に優れた構成により、一層熱による表示不良が起こりにくいため、投射型表示装置のライトバルブとして特に好適に用いることができる。
【００１８】
本発明に係る電気光学装置用基板は、基板と、前記基板上に配列された複数のカラーフィルタ層と、前記基板上に前記カラーフィルタ層の間を埋めるように設けられ、前記カラーフィルタ層及び前記カラーフィルタ層の間を前記カラーフィルタ層の高さに平坦化する平坦化層と、少なくとも前記複数のカラーフィルタ層を覆うように、前記カラーフィルタ層上と前記平坦化層上とに亘って設けられた電極とを具備することを特徴とする。
【００１９】
本発明によれば、カラーフィルタ層を覆うだけの平坦化層の材料は必要なく、カラーフィルタ層の間を埋めるだけで済むため、材料の無駄遣いが無い。また、カラーフィルタ層の高さまで調節しながら平坦化層を形成すれば一の工程で済むため、製造工程の簡略化を図ることができる。さらに、カラーフィルタ層の表面を平坦化層で覆いつくすようにはせずに、カラーフィルタ層の間を埋めるように平坦化層を設けることとしたので、本発明に係る電気光学装置用基板を用いて電気光学装置を構成した場合には、平坦化層で光吸収により発生した熱がこもりにくくなり、熱による表示不良を抑えることができる。
【００２０】
本発明に係る電気光学装置の製造方法は、基板上に複数のカラーフィルタ層を配列する工程と、前記基板上に前記カラーフィルタ層の間を埋めるように、前記カラーフィルタ層の高さよりも低い高さに基板側平坦化層を形成する工程と、前記基板側平坦化層上に、前記カラーフィルタ層の間が前記各カラーフィルタ層の高さになるように、電極側平坦化層を形成する工程と、前記複数のカラーフィルタ層を覆うように、前記カラーフィルタ層上と前記電極側平坦化層面とに亘って電極を形成する工程とを具備することを特徴とする。
【００２１】
本発明によれば、カラーフィルタ層の高さまで調節しながら基板側平坦化層及び電極側平坦化層を順に形成することとしたので、不要な部分を除去する工程を行う必要が無く、工程数を削減することができる。これにより、製造工程の簡略化を図ることができる。また、厚めに形成した平坦化層の余剰分を削除することも無いため、材料の無駄を省くことができる。
【００２２】
また、前記電極側平坦化層を形成する工程では、前記電極側平坦化層を無電界メッキ法により形成することが好ましい。
無電界メッキ法によれば、フォトリソ法等複雑な工程を経ることなく前記基板側平坦化層の上面だけに化学反応を用いて前記電極側平坦化層を選択的に成膜することができる。また層の厚さの制御を容易に行うことができ、しかも、厚さを均一にすることができる。例えば液晶装置のカラーフィルタ間に電極側平坦化層を形成する場合、電極側平坦化層が形成されるカラーフィルタ間は極めて微細であるため、電極側平坦化層の形成する位置を精度良く選択することや、本発明では電極側平坦化層の上面が均一であることが望まれる。したがって無電界メッキ法を用いる効果は非常に大きい。また、電鋳の時間を制御することで、電極側平坦化層を所望の厚さに均一に形成することが容易となるという利点もある。
【００２３】
また、前記基板側平坦化層が、導電性を有する材料からなり、前記電極側平坦化層を形成する工程では、前記電極側平坦化層を電鋳法により形成することが好ましい。
これにより、導電性を有する基板側平坦化層をカソード電極とし、当該基板側平坦化層の上にそのまま電極側平坦化層を成長させることができるので、電極側平坦化層を選択的に形成することが容易となる。例えば液晶装置のカラーフィルタ間に電極側平坦化層を形成する場合、電極側平坦化層が形成されるカラーフィルタ間は極めて微細であるため、電極側平坦化層の形成する位置を精度良く選択することが望まれる。したがって、本発明のように電鋳法を用いる効果は大きい。また、電鋳の時間を制御することで、電極側平坦化層の厚さを制御できるという利点もある。
【００２４】
本発明に係る電子機器は、上記の電気光学装置又は上記の電気光学装置の製造方法により製造された電気光学装置を搭載したことを特徴とする。
熱による表示不良を抑えることができ、材料の使用量を減らすことができる電気光学装置を搭載しているので、表示特性が良く安価な、ユーザの需要に応じた投射型表示装置を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
本発明の実施形態を図面に基づき説明する。
図１は、本実施形態に係る液晶装置１の全体構成を示す斜視図である。
液晶装置１は、液晶パネル２と、この液晶パネル２に接続され電源等の回路が形成されたフレキシブル基板３とを有し、図示しないバックライト等の照明装置やケース体が必要に応じて取り付けられる。
【００２６】
この液晶装置１は、例えばスイッチング素子としてＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）が形成されたアクティブマトリクス型構造となっており、当該液晶装置１を駆動する駆動ドライバが直接基板に実装されるＣＯＧ方式により構成される。なお、スイッチング素子としてＴＦＤ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｄｉｏｄｅ）を用いても良いし、駆動ドライバが例えばフレキシブル基板に実装されたＣＯＦ方式により構成しても構わない。
【００２７】
液晶パネル２は、配線基板４と、上記基板又は電気光学装置用基板としてのカラーフィルタ基板５とが、シール材６によって貼り合わされると共に、両基板４及び５とシール材によって囲まれた表示領域７に電気光学材料としての液晶８が封入された構成となっている。液晶パネル２の外側、すなわち、配線基板４及びカラーフィルタ基板５の外側表面には、入射光を偏光させる偏光板や、干渉色を補償するための位相差板等が適宜貼着される（図示は省略）。
【００２８】
配線基板４は、ガラスや石英等の透明あるいは光透過性の高い材料から形成される。配線基板４の液晶を保持する面側には、走査線９やデータ線１０が引き回されている。走査線９は、配線基板４の表示領域７にＹ方向に沿って形成される。データ線１０は、配線基板４の側端部分を介して表示領域７まで引き回され、表示領域７ではＸ方向に沿って形成される。走査線９とデータ線１０との各交点には、スイッチング素子として、例えば図示しないＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）が形成される。
【００２９】
配線基板４は、カラーフィルタ基板５から張り出した領域（張出領域）４ａを有している。この張出領域４ａには、液晶パネル２を駆動するための駆動ドライバ１１が、例えば異方性導電膜（以下、「ＡＣＦ」という。）１２を介して実装されている。この実装部品としての駆動ドライバ１１は、電源からの入力信号に基づき、液晶パネル２を駆動する駆動信号を出力する。上述した走査線９及びデータ線１０は、この駆動ドライバ１１の出力側に電気的に接続される。駆動ドライバ１１の入力側には、電源からの入力信号を伝える配線１３が接続されている。
【００３０】
一方、カラーフィルタ基板５は、配線基板４と同様に、ガラスや石英等の透明あるいは光透過性の高い材料から形成される。カラーフィルタ基板５には、表示領域７の各画素（ピクセル）ごとに、カラーフィルタ層として、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）のカラーフィルタ層１４（赤：１４Ｒ、緑：１４Ｇ、青：１４Ｂ）がそれぞれ１つずつ形成される。カラーフィルタ層１４Ｒは赤色の色光を、カラーフィルタ層Ｇは緑色の色光を、カラーフィルタ層１４Ｂは青色の色光を透過可能に構成され、透過可能な波長以外の色光が入射しても反射されるようになっている。各カラーフィルタ層１４は、例えば無機材料を主体として構成され、屈折率の異なる複数の誘電体層、例えばＴｉＯ２とＳｉＯ２とを積層した構成を具備しており、干渉型カラーフィルタ層として構成されている。カラーフィルタ層Ｒ，Ｇ，Ｂの周縁部は例えば裾広がりの形状を有している。
【００３１】
図２は、図１におけるＡ−Ａ断面図であり、特にカラーフィルタ基板５の内面側（液晶層側）の構成を示す図である。なお同図では、配線基板４側については配線基板４、画素電極５０及び配向膜５１のみ示すものとし、液晶保持面側の構成は図示を省略する。
【００３２】
各カラーフィルタ層１４（それぞれ基板表面５ａからの高さｈ１）の間には、カラーフィルタ層１４Ｒ、１４Ｇ、１４Ｂと当該各カラーフィルタ層１４の間との段差を平坦化する平坦化層１５が形成される。各カラーフィルタ層１４と各平坦化層１５とで形成された平坦面１８上には、各カラーフィルタ層１４が形成される範囲を覆うように、例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍｕ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）等の透明な導電材料からなる共通電極１６が全面に設けられる。
【００３３】
ここで、平坦化層１５は、カラーフィルタ層１４の間を埋めるように形成されており、カラーフィルタ層１４と同じ高さｈ２に形成される。この平坦化層１５は、ＩＴＯよりも反射率の高い材料からなる反射層（基板側平坦化層）１５ａと、ＩＴＯよりも電気伝導率が高く（比抵抗が低く）、熱伝導率が高い材料からなる伝導層（電極側平坦化層）１５ｂとの２層構造になっている。なお、ＩＴＯの比抵抗は約１００μΩ・ｃｍ、熱伝導率は約８．２Ｗ／ｍ・Ｋである。
【００３４】
反射層１５ａは、例えばカラーフィルタ基板５の表面に設けられ、基板側からの光を反射する。光反射率（特に可視光反射率）の高い材料、例えば銀（光反射率：約９６％）やアルミニウム（光反射率：約９０％）等で構成される。また、例えば他の種類の材料であっても、光反射率が約８５％以上であれば、当該反射層１５ａの材料として好適に用いることができる。
【００３５】
伝導層１５ｂは、共通電極１６と接しており、共通電極１６の電気伝導を補助し、共通電極１６が電気伝導により過度に発熱するのを抑えている。また、共通電極１６への電圧印加により生じる熱を伝導し、熱が一箇所にこもらないようにしている。ＩＴＯよりも電気伝導率及び熱伝導率の高い材料、例えば銅（比抵抗：約１．７２μΩ・ｃｍ、熱伝導率：約４０３Ｗ／ｍ・Ｋ）等で構成される。他の材料としては、例えば金（比抵抗：約２．１９μΩ・ｃｍ、熱伝導率：約３１９Ｗ／ｍ・Ｋ）等が挙げられる。また、反射層１５ａとして用いる銀（比抵抗：約１．６３μΩ・ｃｍ、熱伝導率：約４２８Ｗ／ｍ・Ｋ）やアルミニウム（比抵抗：約２．８１μΩ・ｃｍ、熱伝導率：約２３６Ｗ／ｍ・Ｋ）を当該伝導層１５ｂとして用いても構わない。銀やアルミニウムは、光反射率が高いと同時に、電気伝導性及び熱伝導性も高いので、伝導層１５ｂとしても好適に用いることができる。また、当該伝導層１５ｂとしては、電気伝導率及び熱伝導率の双方が高い材料が好ましいことはいうまでも無いが、どちらか一方が高い材料であっても、好適に用いることができる。
【００３６】
また、当該共通電極１６の内面側には、例えばポリイミド等を主体として構成される有機膜をラビングしてなる配向膜１７が形成されている。
また、液晶装置１の各外面側には、当該液晶装置１内に直線偏光を入射させるための偏光板等が設けられる。
【００３７】
次に、本発明の液晶装置１の製造工程について説明する。
図３は、液晶装置１の製造工程を示すフローチャートである。本実施形態では、大面積のマザー基板を用いて複数の液晶装置を一括して形成し、切断によって個々の液晶装置１に分離する方法を例に挙げて説明する。
【００３８】
ＳＴ１からＳＴ５までの工程により、カラーフィルタが設けられたカラーフィルタ側マザー基板が形成され、ＳＴ１１からＳＴ１３まで工程によって配線や例えばアクティブマトリクス型の液晶装置であればスイッチング素子等が設けられた配線側マザー基板が形成される。なお、配線側マザー基板は、配線基板４となる複数の矩形の表示領域７を含む大判の基板であり、カラーフィルタ側マザー基板は、カラーフィルタ基板５となる複数の矩形の表示領域７を含む大判の基板である。
【００３９】
まず、カラーフィルタ側マザー基板の形成工程（ＳＴ１〜ＳＴ９）について説明する。
【００４０】
図４に示すように、ガラス等の透光性材料からなる大判の基材の各表示領域７に液晶装置複数分のカラーフィルタ層１４Ｒ、１４Ｇ、１４Ｂを形成する（ＳＴ１）。
【００４１】
次に、図５に示すように、カラーフィルタ層１４Ｒ、１４Ｇ、１４Ｂの間に、平坦化層１５のうちの反射層１５ａを選択的に形成する（ＳＴ２）。例えば、一度全面に層を形成してパターニングすることで反射層１５ａを形成しても良く（フォトリソグラフィ法）、反射層１５ａを形成したい領域以外の部分、つまりカラーフィルタ層１４Ｒ、１４Ｇ、１４の間以外の部分をマスクで覆い、スパッタリング等により形成しても良い。
【００４２】
次に、図６に示すように、無電界銅メッキ法により伝導層１５ｂを形成する（ＳＴ３）。無電界銅メッキ法は、銅錯体と還元剤とを反応させて銅を還元することにより、対象物に銅をメッキする方法である。銅錯体には、例えば、酒石酸カリウム・ナトリウム銅錯体やＥＤＴＡ（エチレンジアミン四酢酸）銅錯体等が用いられる。還元剤には、例えば、ホルムアルデヒドが用いられる。無電界銅メッキ法の一般的な反応式を[化１]に示す。
【化１】
【００４３】
ここでは、容器３６内の、例えば上記の銅錯体及び還元剤が混入された電解液３７にマザー基板を浸し、対象物となる反射層１５ａ上に成長させてメッキを形成する。伝導層１５ｂの高さは、例えば反応時間を調節することで、各カラーフィルタ層１４の高さと同じにする。また、例えば反射層１５ａ上で反応が起こりやすくなるように、予め活性化処理を施しておいても構わない。
【００４４】
次に、図７に示すように、カラーフィルタ層１４及び平坦化層１５により平坦化された平坦面１８上に共通電極１６を形成する（ＳＴ４）。共通電極１６は、例えばカラーフィルタ層１４が形成された領域に、スパッタリング等の方法により形成される。
【００４５】
次に、当該基材の表面にギャップ制御用の図示しないスペーサ及び隔壁を形成する（ＳＴ５）。スペーサは、各表示領域７に形成する。
この基材に形成された配線やカラーフィルタを覆うように配向膜を形成し（ＳＴ６）、この配向膜に対してラビング処理を実行する（ＳＴ７）。配向膜は、例えばポリイミドを塗布又は印刷することによって形成することができる。
【００４６】
各表示領域７の周縁部には、当該表示領域７を囲むようにエポキシ樹脂等からなるシール材を矩形枠状に形成する（ＳＴ８）。このシール材は、ディスペンサ等を用いて設計された位置に正確に形成する。シール材は表示領域７の角部を開始点として一筆書きで閉環状に形成される。
【００４７】
そして、シール材で囲まれた表示領域７に液晶を塗布する（ＳＴ９）。例えば液晶滴下装置内にカラーフィルタ側マザー基板を配置させ、液滴吐出ヘッドから液晶を液滴状にして吐出し、これを基板表面に連続的に多数配置することによって所定の広さを持った液膜を形成する。
【００４８】
次に、配線側マザー基板の形成工程（ＳＴ１１〜ＳＴ１３）について簡単に説明する。
【００４９】
カラーフィルタ側マザー基板の場合と同様に、ガラス等の透光性材料からなる大判の基材の各表示領域７に走査線７、データ線８等を形成する（ＳＴ１１）。これら走査線７やデータ線８については、例えば基材の表面全体にアルミニウム等の金属をスパッタし、これをエッチングすることによって、各表示領域７に対して一括的に形成することができる。
次に、各表示領域７内にポリイミド等からなる配向膜を形成し（ＳＴ１２）、この配向膜に対してラビング処理を実行する（ＳＴ１３）。
【００５０】
次に、上記の各工程で形成したカラーフィルタ側マザー基板と配線側マザー基板とを貼り合わせる（ＳＴ２１）。両基板を近接させ、配線側マザー基板がカラーフィルタ側マザー基板上のシール材２３に接着させるようにする。その後、配線基板４及びカラーフィルタ基板５にスクライブ線を形成し、当該スクライブ線に沿って液晶パネルを切断し（ＳＴ２２）、各液晶パネルの洗浄を行い（ＳＴ２３）、各液晶パネルの外側表面に偏光板を貼着（ＳＴ２４）する。
【００５１】
そして、各液晶パネル２にＡＣＦ１２を介して駆動ドライバ１１を実装し（ＳＴ２５）、各液晶パネル２にＡＣＦ１０を介してフレキシブル基板３を実装して（ＳＴ２６）、液晶装置１が完成する。
【００５２】
このように、本実施形態によれば、カラーフィルタ層１４の間を埋めるように平坦化層１５を設け、カラーフィルタ層１４と平坦化層１５とを同じ高さにすることで、カラーフィルタ層１４と平坦化層１５とで平坦面１８を形成することができる。平坦化層１５でカラーフィルタ層１４を覆う必要は無い。カラーフィルタ層１４を覆っていた平坦化層１５が無くなった分、平坦化層１５での発熱量が少なくなり、また発生した熱を伝導層１５ｂにより放熱することで熱がこもらなくなるので、液晶装置１内の温度上昇を抑えることができ、熱による表示不良を抑えることができる。
【００５３】
また、カラーフィルタ層１４の高さまで調節しながら反射層１５ａ及び伝導層１５ｂを順に形成することとしたので、不要な部分を除去する工程を行う必要が無く、工程数を削減することができる。これにより、製造工程の簡略化を図ることができる。また、厚めに形成した平坦化層１５の余剰分を削除することも無いため、材料の無駄を省くことができる。無電界メッキ法によれば、形成する層の位置と厚さの制御を容易に行うことができ、しかも、その厚さを均一にすることができる。このため、均一な伝導層１５ｂを所望の厚さに形成することが容易となる。本発明では、伝導層１５ｂの上面が均一であることが特に望まれるため、無電界銅メッキ法を用いる効果は非常に大きい。
【００５４】
（第２実施形態）
次に、本発明に係る第２実施形態を説明する。第１実施形態と同一の構成要素については、同一の符号を付してその説明を省略する。本実施形態では、伝導層１５ｂを形成する方法が、第１実施形態の無電界銅メッキ法とは異なっているため、この点を中心に説明する。
【００５５】
本実施形態では、第１実施形態と同様に、大面積のマザー基板を用いて複数の液晶装置を一括して形成し、切断によって個々の液晶装置１に分離する方法を例に挙げて説明する。
まず、マザー基板の各表示領域７に液晶装置複数分のカラーフィルタ層１４を形成し（ＳＴ１）、例えばスパッタリング等の方法により基板上のカラーフィルタ層１４の間に、例えば銀からなる反射層１５ａを形成する（ＳＴ２）。
【００５６】
次に、電鋳法により伝導層１５ｂを形成する（ＳＴ３）。電鋳法では、まず、図８に示すように例えば容器４０内の電解液４１に反射層１５ａが形成されたマザー基板を浸す。電解液４１は、例えば硫酸銅水溶液を用いることができる。電圧源４２及びアノード側電極４３、カソード側接続部４４を用意し、アノード側電極４３を電解液に浸す。カソード側接続部４４を各反射層１５ａに接続し、銀からなる反射層１５ａをカソード電極とする。この状態で電圧源４２を駆動させると、電解液中の銅イオンが、カソード電極である反射層１５ａに集まり、当該反射層１５ａに付着し、時間と共に成長して、伝導層１５ｂを形成する。
【００５７】
カラーフィルタ層１４及び平坦化層１５により平坦化された平坦面１８上には、共通電極１６を形成する（ＳＴ４）。共通電極１６は、例えばカラーフィルタ層１４が形成された領域に、スパッタリング等の方法により形成される。
この後の工程は、第１実施形態と同様であるため、説明を省略する。
【００５８】
このように、本実施形態によれば、導電性を有する反射層１５ａをカソード電極とし、当該反射層１５ａの上にそのまま伝導層１５ｂを成長させることができるので、伝導層１５ｂを選択的に形成することが容易となる。例えば、液晶装置１のカラーフィルタ層１４の間は極めて微細であるため、伝導層１５ｂの形成する位置を精度良く特定することが望まれる。したがって、電柱法を用いる効果は大きい。また、電鋳の時間を制御することで、伝導層１５ｂの厚さを制御できるという利点もある。
【００５９】
（投射型表示装置）
次に、各実施形態の液晶装置を光変調装置として用いた投射型表示装置の実施形態を説明する。
【００６０】
図９は本発明に係る投射型表示装置の概略構成を示す図である。上記の液晶装置１は、入射した直線偏光を液晶層の駆動により変調可能で、同図に示すように、投射型液晶装置２０の光変調手段（ライトバルブ）として好適に用いることができる。
【００６１】
投射型液晶装置２０は、白色光を射出する光源２１と、当該光源２１から射出された白色光の輝度分布を均一にするロッドインテグレータ２２と、輝度分布を均一にされた白色光を平行光に変換するコンデンサレンズ系２３と、平行光に変換された白色光をＲＧＢの色光に分光し、分光された各色光を変調する液晶装置１と、変調された各色光をスクリーンＳに投射する投射レンズ２７とを有する。
【００６２】
光源２１には、白色光を射出するメタルハライド等のランプ３１と、射出された白色光を反射するリフレクタ３２とが備えられている。
ロッドインテグレータ２２には、透光性の棒状の導光体（例えば、ガラス棒）、もしくは内面が反射面とされた管状の導光体などが用いられている。
【００６３】
コンデンサレンズ系２３には、ロッドインテグレータ２２から入射した光が液晶装置１に平行光となって入射するように、コンデンサレンズ３５ａおよびコンデンサレンズ３５ｂが備えられている。
液晶装置１は光変調装置であって、ここでは図１に示したものを用いている。
【００６４】
光源２１からの光は、ロッドインテグレータ２２によりコンデンサレンズ系２３に導光され、ここで平行光（直線偏光）に変換される。変換された平行光（直線偏光）は、液晶装置１により変調され、変調された各色光は投射レンズ２７によりスクリーンＳ上に投射される。
【００６５】
液晶装置を駆動中に、液晶装置内で熱が発生してカラーフィルタ層等にクラックが形成されたりすると、スクリーンＳ上に大きく現れ表示不良となる。上記の液晶装置１では、発熱量が少なく、また発生した熱が液晶装置内にこもらないので、液晶装置１内の温度上昇を抑えることができ、熱による表示不良を抑えることができる。
【００６６】
また、上記液晶装置１では、当該液晶装置１を構成する材料の使用量を抑えることができるので、コストを低く抑えることができる。
【００６７】
また、液晶装置１のカラーフィルタ層１４が、無機誘電体多層膜からなる光干渉カラーフィルタを構成するので、光や熱による劣化がほとんど無く、通常よりも強い光や熱にも耐えることができる。
【００６８】
一般的に、投射型表示装置は直視型表示装置に比べて光源からより強い光を射出する必要があるため、投射型表示装置のライトバルブに用いられる液晶装置は、直視型表示装置としての液晶装置に比べて、より強い光や熱を光源から受ける。このため、無機誘電体多層膜からなる光干渉カラーフィルタの構成は、ライトバルブ用の液晶装置の構成として好んで用いることができる。
【００６９】
したがって、液晶装置１は、上記の各構成に加えて各カラーフィルタ層１４自体が耐光熱性に優れた構成を有しており、一層熱による表示不良が起こりにくいため、投射型液晶装置２０のライトバルブとして特に好適に用いることができる。
【００７０】
このように、熱による表示不良を抑えることができ、材料の使用量を減らすことができる液晶装置１を搭載しているので、表示特性が良く安価な、ユーザの需要に応じた投射型液晶装置２０を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００７１】
【図１】本発明の第１実施形態に係る液晶装置の全体構成を示す斜視図である。
【図２】図１におけるＡ−Ａ断面図である。
【図３】本実施形態に係る液晶装置の製造工程を示すフローチャートである。
【図４】液晶装置の製造の様子（その１）を示す図である。
【図５】液晶装置の製造の様子（その２）を示す図である。
【図６】液晶装置の製造の様子（その３）を示す図である。
【図７】液晶装置の製造の様子（その４）を示す図である。
【図８】本発明の第２実施形態に係る液晶装置の製造の様子を示す図である。
【図９】本発明に係る投射型表示装置の構成を示す図である。
【符号の説明】
【００７２】
１…液晶装置 ２…液晶パネル ５…カラーフィルタ基板 ７…走査線 ８…液晶 １４（１４Ｒ、１４Ｇ、１４Ｂ）…カラーフィルタ層 １５…平坦化層 １５ａ…反射層 １５ｂ…伝導層 １６…共通電極 １８…平坦面 ２０…投射型液晶装置 ３７、４１…電解液
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上に配列された複数のカラーフィルタ層と、
前記基板上に前記カラーフィルタ層の間を埋めるように設けられ、前記カラーフィルタ層及び前記カラーフィルタ層の間を前記カラーフィルタ層の高さに平坦化する平坦化層と、
少なくとも前記複数のカラーフィルタ層を覆うように、前記カラーフィルタ層上と前記平坦化層上とに亘って設けられた電極と
を具備することを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記平坦化層のうち少なくとも前記電極に接する部分が、前記電極よりも電気伝導率が高い材料からなることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記平坦化層の少なくとも一部が、前記電極よりも熱伝導率が高い材料からなることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記平坦化層の少なくとも一部が、光反射材料からなることを特徴とする請求項１乃至請求項３のうちいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記平坦化層が、
前記電極に接するように設けられ、電気伝導率及び熱伝導率のうち少なくとも一方が前記電極よりも高い材料からなる伝導層と、
前記伝導層と前記基板との間に設けられた反射層と
を有することを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記電極よりも電気伝導率が高い材料及び前記電極よりも熱伝導率が高い材料が金属であることを特徴とする請求項２乃至請求項５のうちいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項７】
前記金属の主成分が、銅であることを特徴とする請求項６に記載の電気光学装置。
【請求項８】
前記光反射材料が金属からなることを特徴とする請求項４又は請求項５のうちいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項９】
前記金属の主成分が、銀又はアルミニウムであることを特徴とする請求項８に記載の電気光学装置。
【請求項１０】
前記カラーフィルタ層が、無機誘電体多層膜からなる光干渉カラーフィルタを構成することを特徴とする請求項１乃至請求項９に記載の電気光学装置。
【請求項１１】
基板と、
前記基板上に配列された複数のカラーフィルタ層と、
前記基板上に前記カラーフィルタ層の間を埋めるように設けられ、前記カラーフィルタ層及び前記カラーフィルタ層の間を前記カラーフィルタ層の高さに平坦化する平坦化層と、
少なくとも前記複数のカラーフィルタ層を覆うように、前記カラーフィルタ層上と前記平坦化層上とに亘って設けられた電極と
を具備することを特徴とする電気光学装置用基板。
【請求項１２】
基板上に複数のカラーフィルタ層を配列する工程と、
前記基板上に前記カラーフィルタ層の間を埋めるように、前記カラーフィルタ層の高さよりも低い高さに基板側平坦化層を形成する工程と、
前記基板側平坦化層上に、前記カラーフィルタ層の間が前記各カラーフィルタ層の高さになるように、電極側平坦化層を形成する工程と、
前記複数のカラーフィルタ層を覆うように、前記カラーフィルタ層上と前記電極側平坦化層面とに亘って電極を形成する工程と
を具備することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１３】
前記電極側平坦化層を形成する工程では、前記電極側平坦化層を無電界メッキ法により形成することを特徴とする請求項１２に記載の電気光学装置。
【請求項１４】
前記基板側平坦化層が、導電性を有する材料からなり、
前記電極側平坦化層を形成する工程では、前記電極側平坦化層を電鋳法により形成することを特徴とする請求項１２に記載の電気光学装置。
【請求項１５】
請求項１乃至請求項１０のうちいずれか一項に記載の電気光学装置又は請求項１２乃至請求項１４のうちいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法により製造された電気光学装置を搭載したことを特徴とする投射型表示装置。
【請求項１】
基板と、
前記基板上に配列された複数のカラーフィルタ層と、
前記基板上に前記カラーフィルタ層の間を埋めるように設けられ、前記カラーフィルタ層及び前記カラーフィルタ層の間を前記カラーフィルタ層の高さに平坦化する平坦化層と、
少なくとも前記複数のカラーフィルタ層を覆うように、前記カラーフィルタ層上と前記平坦化層上とに亘って設けられた電極と
を具備することを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記平坦化層のうち少なくとも前記電極に接する部分が、前記電極よりも電気伝導率が高い材料からなることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記平坦化層の少なくとも一部が、前記電極よりも熱伝導率が高い材料からなることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記平坦化層の少なくとも一部が、光反射材料からなることを特徴とする請求項１乃至請求項３のうちいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記平坦化層が、
前記電極に接するように設けられ、電気伝導率及び熱伝導率のうち少なくとも一方が前記電極よりも高い材料からなる伝導層と、
前記伝導層と前記基板との間に設けられた反射層と
を有することを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記電極よりも電気伝導率が高い材料及び前記電極よりも熱伝導率が高い材料が金属であることを特徴とする請求項２乃至請求項５のうちいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項７】
前記金属の主成分が、銅であることを特徴とする請求項６に記載の電気光学装置。
【請求項８】
前記光反射材料が金属からなることを特徴とする請求項４又は請求項５のうちいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項９】
前記金属の主成分が、銀又はアルミニウムであることを特徴とする請求項８に記載の電気光学装置。
【請求項１０】
前記カラーフィルタ層が、無機誘電体多層膜からなる光干渉カラーフィルタを構成することを特徴とする請求項１乃至請求項９に記載の電気光学装置。
【請求項１１】
基板と、
前記基板上に配列された複数のカラーフィルタ層と、
前記基板上に前記カラーフィルタ層の間を埋めるように設けられ、前記カラーフィルタ層及び前記カラーフィルタ層の間を前記カラーフィルタ層の高さに平坦化する平坦化層と、
少なくとも前記複数のカラーフィルタ層を覆うように、前記カラーフィルタ層上と前記平坦化層上とに亘って設けられた電極と
を具備することを特徴とする電気光学装置用基板。
【請求項１２】
基板上に複数のカラーフィルタ層を配列する工程と、
前記基板上に前記カラーフィルタ層の間を埋めるように、前記カラーフィルタ層の高さよりも低い高さに基板側平坦化層を形成する工程と、
前記基板側平坦化層上に、前記カラーフィルタ層の間が前記各カラーフィルタ層の高さになるように、電極側平坦化層を形成する工程と、
前記複数のカラーフィルタ層を覆うように、前記カラーフィルタ層上と前記電極側平坦化層面とに亘って電極を形成する工程と
を具備することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１３】
前記電極側平坦化層を形成する工程では、前記電極側平坦化層を無電界メッキ法により形成することを特徴とする請求項１２に記載の電気光学装置。
【請求項１４】
前記基板側平坦化層が、導電性を有する材料からなり、
前記電極側平坦化層を形成する工程では、前記電極側平坦化層を電鋳法により形成することを特徴とする請求項１２に記載の電気光学装置。
【請求項１５】
請求項１乃至請求項１０のうちいずれか一項に記載の電気光学装置又は請求項１２乃至請求項１４のうちいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法により製造された電気光学装置を搭載したことを特徴とする投射型表示装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【公開番号】特開２００６−８４５１９（Ｐ２００６−８４５１９Ａ）
【公開日】平成１８年３月３０日（２００６．３．３０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００４−２６６５９７（Ｐ２００４−２６６５９７）
【出願日】平成１６年９月１４日（２００４．９．１４）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年３月３０日（２００６．３．３０）
【国際特許分類】
【出願日】平成１６年９月１４日（２００４．９．１４）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
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