【課題】転写パターンの位置合わせ精度を向上させる。
【解決手段】インプリント方法は、被加工膜上に光硬化性有機材料を塗布する工程と、テンプレートの凹凸パターンを前記光硬化性有機材料に接触させる工程と、前記テンプレートを前記光硬化性有機材料に接触させた状態で、前記テンプレートに力を加える工程と、前記テンプレートを前記光硬化性有機材料に接触させた状態で、前記光硬化性材料に光を照射し、前記光硬化性材料を硬化させる工程と、前記光の照射後に、前記テンプレートを前記光硬化性材料から離型する工程と、を備える。前記テンプレートに加える力は、前記被加工膜の表面と前記テンプレートとの間隔に対応した大きさである。 （もっと読む）

【課題】主平面研磨工程の前に発生するキズ等の欠陥を防止し、主平面の平滑性に優れた磁気記録媒体用ガラス基板を高い生産性で歩留まりよく得る。
【解決手段】中央部に円孔を有する円盤形状の磁気記録媒体用ガラス基板を形成するためのガラス素板であって、少なくとも一方の主平面に、樹脂を含有する保護膜を有する磁気記録媒体用ガラス素板である。磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法は、磁気記録媒体用ガラス素板準備工程と、前記ガラス素板を中央部に円孔を有する円盤形状のガラス基板に加工する形状付与工程と、前記ガラス基板の主平面を研磨する主平面研磨工程と、前記ガラス基板の洗浄工程とを有し、前記磁気記録媒体用ガラス素板準備工程は、ガラス素板の少なくとも一方の主平面に樹脂を含有する保護膜を形成し、磁気記録媒体用ガラス素板とする保護膜形成工程を有する。 （もっと読む）

【課題】チッピングやクラックの発生を防止しつつ，経済的且つ衛生的に硬質脆性材料基板の側部を研磨できる研磨方法を提供する。
【解決手段】弾性母材２１に砥粒２２を分散又は付着させた弾性研磨材２０を基板１０’の側部に向かって圧縮空気と共に噴射する。噴射は，加工点Ｐで幅方向線Ｗと交叉し，接触線Ｔに対し２〜６０°の範囲から選択された所定の傾斜角θを成す噴射方向Ｄで，加工点Ｐを中心とした所定の加工領域Ｆに対して前記弾性研磨材の噴射を行うと共に，前記加工領域Ｆを前記被加工物１０の周方向に一定の速度で移動させ，移動した位置における各加工点Ｐ’において前記噴射方向Ｄを維持するよう，前記噴射ノズル３０と前記被加工物とを相対的に移動させる。基板１０’を重ねて処理する場合，基板１０’の幅方向に対しても一定速度で加工領域Ｆを移動させる。 （もっと読む）

【課題】研磨液中の遊離砥粒として酸化セリウムの代替として、酸化セリウムと同等の研磨効果が得られる研磨工程によって、次世代のハードディスク用基板に求められる、機械的強度が高い材料を低コストで高精度の表面性状に加工する製造方法を提供すること。
【解決手段】情報記録媒体用基板の製造方法は、少なくともＳｉＯ_２成分を含むガラス又は結晶化ガラスからなる板状の無機材料を、研磨液及び研磨パッドを用いて研磨する研磨工程を含む情報記録媒体用基板の製造方法であって、研磨液は、Ｚｒ及びＳｉを含む化合物からなる砥粒を少なくとも含有し、研磨開始時における研磨液中の砥粒濃度が１５ｗｔ％〜４０ｗｔ％の範囲であり、研磨液中の砥粒の全重量に対する、Ｚｒ及びＳｉを含む化合物からなる砥粒の含有量が７０ｗｔ％以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】表面が平滑で、且つ耐熱性に優れ、しかも表面硬度の高い磁気記録媒体用アルミニウム基板を製造する方法を提供する。
【解決手段】アルミニウム基板にベーマイト処理を施した後、加熱して酸化皮膜を形成する工程と、加熱後のアルミニウム基板表面に無機ポリシラザン含有溶液を塗布した後、加熱して表面硬度の高いＳｉＯ₂膜を形成する工程、を含む製造方法。 （もっと読む）

【課題】研磨液中の遊離砥粒として酸化セリウムの代替として、酸化セリウムと同等の研磨効果が得られる研磨工程によって、次世代のハードディスク用基板に求められる、機械的強度が高い材料を低コストで高精度の表面性状に加工する製造方法を提供すること。
【解決手段】情報記録媒体用基板の製造方法は、少なくともＳｉＯ_２成分を含むガラス又は結晶化ガラスからなる板状の無機材料を、研磨液及び研磨パッドを用いて研磨する研磨工程を含む情報記録媒体用基板の製造方法であって、前記研磨液は、Ｚｒ及びＳｉを含む化合物からなる砥粒を少なくとも含有し、前記研磨液中の砥粒濃度が２ｗｔ％〜４０ｗｔ％の範囲であり、前記研磨液中の砥粒の全重量に対する、前記Ｚｒ及びＳｉを含む化合物からなる砥粒の含有量が７０ｗｔ％以上であり、前記研磨工程における加工圧力が１２０ｇ／ｃｍ^２〜１６０ｇ／ｃｍ^２であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】研磨液中の遊離砥粒として酸化セリウムの代替として、酸化セリウムと同等の研磨効果が得られる研磨工程によって、次世代のハードディスク用基板に求められる、機械的強度が高い材料を低コストで高精度の表面性状に加工する製造方法を提供すること。
【解決手段】少なくともＳｉＯ_２成分を含む板状の無機材料を、研磨液及び研磨パッドを用いて研磨する研磨工程を含む情報記録媒体用基板の製造方法であって、前記研磨液は、Ｚｒ及びＳｉを含む化合物からなる研磨砥粒を少なくとも含有し、前記研磨液中の砥粒濃度が２ｗｔ％〜４０ｗｔ％の範囲であることを特徴とする情報記録媒体用基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、オフセットデータおよびサーボ領域を備えるパターン化磁気媒体を製造するための方法を提供する。
【解決手段】本発明は、パターン化磁気媒体を製造するための方法である。本方法は、別領域のパターニングに悪影響を及ぼす一領域へのパターニングを必要とせずに、データ領域およびサーボ領域の両方がパターン化されることを可能にする。本方法によって、パターン化されたデータ領域と、パターン化されたサーボ領域と、サーボ領域とデータ領域との間の中間領域と、が設けられる。前記中間領域は、互いに非対称になる可能性が高いが、それが必然ではなく、本方法が媒体をパターン化するため使用されたことを示している。 （もっと読む）

【課題】耐衝撃性がさらに改善されたＨＤＤ用ガラス基板の製造方法、ＨＤＤ用ガラス基板、及びＨＤＤ用磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】溶融したガラス素材を板状のブランクスに成型する成型工程と、ブランクスの表面を研削するラッピング工程とを含むＨＤＤ用ガラス基板の製造方法において、最終のガラス基板の厚みをｔとしたときに、ラッピング工程において、ｔ×０．１５以上の研削を行う。成型工程でブランクスの表面近傍に混入した異物や気泡あるいはキズ等の欠陥がラッピング工程で除去されるので、これらの欠陥が最終のガラス基板に残存する可能性が低くなり、ガラス基板が割れ難くなり、ガラス基板の耐衝撃性が向上する。 （もっと読む）

【課題】面記録密度が高いＨＤＤ用磁気記録媒体であっても、外周端部のヘッドクラッシュを抑制し、記録領域の拡大に寄与する、ＨＤＤ用ガラス基板を提供する。
【解決手段】面記録密度が６３０Ｇｂ／平方インチ以上のＨＤＤ用磁気記録媒体の製造に用いられるＨＤＤ用ガラス基板５０は、ガラス基板５０の主表面５１に定義された基準面からのガラス基板５０の外周端部の高さのズレ量をＡとしたときに、式（１）に従って算出されるＡの周方向のバラツキＸが３％以下であり、かつ、ガラス基板５０の外周端部の周方向のＴＩＲが０．４μｍ以下である。バラツキＸ（％）＝｛（ＭＡＸ−ＭＩＮ）／（ＭＡＸ＋ＭＩＮ）｝×１００…式（１）（式（１）中、ＭＡＸはＡの周方向の最大値、ＭＩＮはＡの周方向の最小値を表す。） （もっと読む）

【課題】ハードディスクドライブへの搭載時の磁気記録媒体の変形が抑制され得るＨＤＤ用ガラス基板を提供する。
【解決手段】中心部に円孔５０ａを有するＨＤＤ用ガラス基板５０は、円孔５０ａの半径をｒ、半径がｒ＋０．３０ｍｍである、円孔５０ａと同心の第１の円ｃ１と、半径がｒ＋４ｍｍである、円孔５０ａと同心の第２の円ｃ２との間にある、円孔５０ａと同心の円Ｃに沿って計測したガラス基板５０の厚みの最大値をｔｍａｘ、最小値をｔｍｉｎ、平均値をｔａｖｅとしたときに、ｔｍａｘ≦ｔａｖｅ＋０．０５μｍであり、かつ、ｔｍｉｎ≧ｔａｖｅ−０．０５μｍである。 （もっと読む）

【課題】ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法において、洗浄、乾燥後のガラス基板の外周端部に欠陥が残らないようにする。
【解決手段】ガラス基板５０を洗浄液３１で洗浄する洗浄工程を含むＨＤＤ用ガラス基板の製造方法において、洗浄工程では、ガラス基板５０に対して洗浄液３１を乱流で流して洗浄する。洗浄槽３０の下に洗浄液供給装置３２を備え、洗浄液３１を下から上に流しつつ、洗浄槽３０内のガラス基板５０の下方に配置した遮蔽板３３により、ガラス基板５０に対して洗浄液３１を乱流で流す。 （もっと読む）

【課題】強度に優れたＨＤＤ用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ダイレクトプレス法により作製した円盤状のガラス基板前駆体を用いたＨＤＤ用ガラス基板の製造方法であって、前記ガラス基板前駆体の表面を４〜１０μｍの固定砥粒を用いて研削する粗ラッピング工程と、前記ガラス基板前駆体の表面を４μｍより小さい固定砥粒を用いて研削する精密ラッピング工程と、前記ガラス基板前駆体の表面を処理する化学処理工程と、を含み、前記粗ラッピング工程と前記精密ラッピング工程との間に前記化学処理工程を行うことを特徴とするＨＤＤ用ガラス基板の製造方法。前記化学処理工程において除去されるガラス基板前駆体の深さが、１〜３μｍであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】一定の加速電圧で処理対象物の厚さ方向全長に亘って均一なイオン濃度分布を得ることができる生産性のよいイオン注入法を提供する。
【解決手段】本発明は、減圧下で所定の処理ガスを導入してプラズマを形成し、このプラズマ中のイオンを引き出し、引き出したイオンを加速して処理対象物Ｗ内に注入するイオン注入法であって、処理ガスとして、Ｘ_ｍＹ_ｎ（式中、Ｘ及びＹを互いに異なる元素であって、その質量数が１、５〜４０の原子とし、ｍ＝１〜４、ｎ＝１〜１０とする）で表される分子の中から選択されるものを用いる。 （もっと読む）

【課題】強度に優れ、かつ高平滑性を備えたＨＤＤ用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】中心孔を有するガラス基板前駆体を化学強化液と接触させて、前記ガラス基板の表面のアルカリ金属イオンを、前記化学強化液が含む前記アルカリ金属イオンより大きなイオン径のアルカリ金属イオンと置換して圧縮応力層を付与する化学強化工程を２回以上有するＨＤＤ用ガラス基板の製造方法において、１回目の化学強化工程と２回目以降の化学強化工程との間に主表面加工工程を有することを特徴とするＨＤＤ用ガラス基板の製造方法。記ＨＤＤ用ガラス基板の製造方法において、前記１回目の化学強化工程前に前記ガラス基板前駆体の内径研磨を施し、前記１回目の化学強化工程と２回目の化学強化工程の間に前記ガラス基板前駆体の外径研磨を行うことが好適である。 （もっと読む）

【課題】強度に優れたＨＤＤ用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ダイレクトプレス法により作製した円盤状のガラス基板前駆体を用いたＨＤＤ用ガラス基板の製造方法であって、前記ガラス基板前駆体の表面を４〜１０μｍの固定砥粒を用いて研削する粗ラッピング工程と、前記ガラス基板前駆体の表面を４μｍより小さい固定砥粒を用いて研削する精密ラッピング工程と、前記ガラス基板前駆体の表面を処理する化学処理工程と、を含み、前記粗ラッピング工程と前記精密ラッピング工程との間に前記化学処理工程を行うことを特徴とするＨＤＤ用ガラス基板の製造方法。前記化学処理工程において除去されるガラス基板前駆体の深さが１〜３μｍであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 磁気ヘッドと磁気ディスクとのトラックずれを防止することにより、少なくとも面記録密度が１００ギガビット／平方インチを達成し得る磁気ディスク、あるいはハードディスクドライブに確実に固定できるモバイル用途のハードディスクに特に好適な磁気ディスクを与えることのできる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 中心部に円孔が形成されたディスク状ガラス基板を化学強化処理液に浸漬し、前記ガラス基板表面に含まれる相対的に小さなイオンを、化学強化処理液に含まれる相対的に大きなイオンとイオン交換することにより、当該ガラス基板表面に圧縮応力層を創生する化学強化処理工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、当該ディスク状ガラス基板中心部に形成された前記円孔の変形量が、円孔直径の０．０５％以内になり、かつ当該ディスク状ガラス基板の抗折強度が９８Ｎ以上になるように化学強化処理する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】強度に優れ、高い耐衝撃性を備えたＨＤＤ用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ダイレクトプレス法により作製した円盤状のガラス基板前駆体を用いたＨＤＤ用ガラス基板の製造方法であって、前記ガラス基板前駆体を精密にラッピングする精密ラッピング工程と、前記ガラス基板前駆体の表面のアルカリ金属イオンを、前記アルカリ金属イオンより大きなイオン径のアルカリ金属イオンと置換して圧縮応力層を付与する化学強化工程と、前記ガラス基板前駆体の主表面を研磨する主表面研磨工程と、をこの順で含み、前記精密ラッピング工程と前記化学強化工程との間に、前記ガラス基板前駆体の外周端面を研磨し鏡面化する外周研磨工程と、前記ガラス基板前駆体の表面を処理する化学処理工程と、を順不同で含むことを特徴とするＨＤＤ用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】表面が平滑な磁気記録媒体用アルミニウム基板を製造するにあたり、研磨前の表面粗度を小さくすることにより研磨量を低減して生産性を高めると共に、コストを削減できる技術を提供する。
【解決手段】アルミニウム基板にりん酸処理を施す工程と、りん酸処理後のアルミニウム基板表面に、酸素ガスと有機シロキサンガスを用いてプラズマ化学気相成長法によりＳｉＯ₂膜を形成する工程とを含む磁気記録媒体用アルミニウム基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】磁性部とその凹部内に埋め込まれた非磁性部とを露出させて平坦な研磨面を形成させることができる研磨液を提供すること。
【解決手段】磁性材料を含む磁性部１１と、該磁性部１１に形成された複数の凹部１２０を覆うように埋め込まれた非磁性材料１２５とからなる複合体１５を、磁性部１１と凹部１２０内に埋め込まれた非磁性材料からなる非磁性部１２とが露出して平坦な研磨面１６を形成するまで研磨するために用いられる研磨液である。研磨液は、水と極圧剤とエッチング剤とを含有する。極圧剤は、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルリン酸エステル又はその塩、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル硫酸エステル又はその塩、アルキルベンゼンスルホン酸又はその塩、α−オレフィンスルホン酸又はその塩、及びアルキルアミン又はそのアルキレンオキシド付加物から選ばれる少なくとも１種である。エッチング剤は、酸からなる。 （もっと読む）