【課題】原盤の表面状態変化、或いは露光装置の光学系デバイス類の状態変化が発生した場合、その露光パワー及びフォーカス状態が変動すること。
【解決手段】非点収差光学系２２３の４分割ディテクタ２２３ｃ、即ち原盤１２１からの反射光でパワーコントロール及びフォーカス位置制御を実行。またそのビームの偏光状態を一定に保つように光学系の所定の位置に偏光子を設置することにより、高精度なパワーコントロールが可能になり、メインテナンス性に優れた光ディスク原盤の露光装置を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】レーザ光の空間強度分布に時間変動がある場合でも安定なフォーカス状態を維持する光ディスク原盤露光装置を提供する。
【解決手段】ビーム形状の変化を読み取り、ビームの変動に合わせて４分割光ディテクタ１１３ｃの位置を補正することを特徴とし、ビーム形状の変化による４分割フォトディテクタ１１３ｃに入射するビームの光強度の空間強度分布の変動をキャンセルすることで、フォーカス状態の変動を抑制できる。 （もっと読む）

【課題】 スタンパーの偏心量を正確に測定する。
【解決手段】 押し当て具１５を用いて、スタンパーＳＴをホルダー１３に一方向から押し当てた状態で、ホルダー１３をクランプ１２にセットして、スピンドルモータ１１を駆動することによりスタンパーＳＴを少なくとも１回転させる。このとき、コントローラ１００はスタンパーＳＴの回転角度に応じて変化する径方向ずれ量を取得する。径方向ずれ量とは、スタンパーＳＴの回転時における回転中心に対するスタンパーＳＴの中心の所定の径方向におけるずれ量である。コントローラ１００は、この回転角度及び径方向ずれ量に基づき、スタンパーＳＴの偏心ベクトルを計算する。そして、この偏心ベクトルから、スタンパーＳＴのホルダ１３への押し当てベクトルを減算する減算処理により、スタンパーＳＴ自身の偏心量を求める。 （もっと読む）

【課題】微細なパターンをレジスト層に高精度で描画できる描画方法、これを用いた原盤の製造方法、スタンパの製造方法及び情報記録ディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】環状の描画領域ＥＡに形成され更に内側非描画領域ＮＥＡ１及び外側非描画領域ＮＥＡ２にも形成されたレジスト層３６を備える被加工体３０のレジスト層３６における内側非描画領域ＮＥＡ１又は外側非描画領域ＮＥＡ２の部分に走査型電子顕微鏡用凹凸パターン３９を形成し、走査型電子顕微鏡用凹凸パターン３９を走査型電子顕微鏡により観察し走査型電子顕微鏡による観察の結果に基づいて電子ビームの焦点の位置を調整して電子ビームをレジスト層３６における描画領域ＥＡの部分に照射しレジスト層３６を所定の描画パターンで露光する。 （もっと読む）

【課題】フォーカスアクチュエータ駆動部の質量を削減して、追従性を向上させたレーザ露光装置を提供する。
【解決手段】コリメートされたレーザ光Ｌを、偏光ビームスプリッタ１２０，１／４波長板１２１を経て、集光レンズ１２２により、光軸方向に移動可能な反射基板１２３上に集光させる。反射基板１２３からの反射光を再び集光レンズ１２２を通して、再度、コリメート光にした後、固定されている対物レンズ１１０に入射させる。フォーカスずれ情報に基づいて反射基板１２３を光軸方向に移動制御することによりフォーカシングを行う。このようにして、質量の大きな対物レンズ１１０の代わりに質量の小さな反射基板１２３を駆動する。 （もっと読む）

【課題】微細加工処理全体の加工効率を下げることなく、レーザ光を集光するレンズ系の焦点距離を最適な値に調整可能な露光装置を提供する。
【解決手段】レジスト層１０１に対して、レンズ系１３によりレーザ光を集光して所定の走査方向に並んだ凹凸パターンに対応させて選択的に露光する露光処理部１０と、レンズ系１３の焦点距離を変化させて選択的に感光したレジスト層１０１に対し、レンズ系１３によりレジスト層が感光しないレーザ光を集光して反射光を検出するディテクタ１４と、ディテクタ１４による検出結果から、試験露光アシンメトリ値を算出するアシンメトリ算出部１６と、焦点距離の変化に対応した試験露光アシンメトリ値の変化が極値となる焦点距離を、レンズ系１３の焦点距離に設定するオフセット設定部１７と、オフセット設定部１７で設定した焦点距離で、レンズ系１３がレーザ光を集光してレジスト層１０１を露光するように露光処理部１０を制御するフォーカスサーボ制御部１５とを備える。 （もっと読む）

【課題】歪んで製造されたり、変形したりした蝋管に対しても、音声データを正確に読み取ることができる蝋管読取装置を提供する。
【解決手段】音声データを表す音溝が形成された円筒状の蝋管から音声データを非接触で読み取る蝋管読取装置において、蝋管を保持し且つ軸心方向を中心に回転させる保持部１１と、蝋管の表面を径方向から撮像する撮像部１２と、撮像した画像データから音溝の音声データを演算する演算部２２とを備え、保持部１１は、蝋管の表面と撮像部１２との間の距離を一定に維持すべく、蝋管を前記径方向に移動可能に構成される。 （もっと読む）

【課題】光ディスク、光ディスク原盤からの反射光に発生する干渉縞の影響を抑えたフォーカス光学系を提供する。
【解決手段】光ディスクまたは光ディスク原盤露光装置のフォーカス光学系において、非点収差光学系のシリンドリカルレンズと４分割ディテクタとの相対的な位置関係を調整し、光ディスク原盤からの反射光に現れる干渉縞を、４分割ディテクタの不感帯に入射させることにより、干渉縞によるフォーカスエラー信号の変動の影響を受けない非点収差フォーカスサーボを実現する。これにより、光ディスクまたは光ディスク原盤からの反射光に現れる干渉縞の影響を抑えることができる。 （もっと読む）

【課題】基板表面のセクタ内の領域に、トラックに沿って、第１の長さの複数の微小パターンからなるパターンと、第２の長さの複数の微小パターンからなるパターンとを混在させて形成する。
【解決手段】基板上の同心円トラックに沿ってパターンを描画する際に、セクタ内の第１領域内では、第１基長さに基づいて生成された第１クロック信号を用いて電子線をブランキングさせ、セクタ内の第２領域内では、第２基準長さに基づいて生成された第２クロック信号を用いて電子線をブランキングさせる。これにより、セクタ内の第１領域内に、同心円トラックに沿って第１の長さの円弧状の微小パターンからなるパターンを精度よく形成するとともに、第２領域内に、第２の長さの円弧状の微小パターンからなるパターンを精度よく形成することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】短波長レーザ光によって記録とフォーカスサーボを兼用する光ディスク原盤製造装置において、フォーカスずれを防止し、記録ピット形状の悪化を防止する。
【解決手段】短波長レーザ光をディスク原盤１０に集光させる対物レンズ８を光軸方向に移動させるフォーカスオフセット発生手段と、短波長レーザ光のディスク原盤１０からの反射光を撮像して画像信号を得る撮像手段１８とを備え、オフセット発生装置により微少のフォーカスオフセットを生じさせるとともに、画像信号における輝度信号の最大値を検出し、画像信号における輝度信号が常に最大値となるようにフォーカスオフセットを調節することにより、フォーカスオフセットのずれを補正する。 （もっと読む）

本発明は、記録媒体の製造プロセスにおいて使用可能なマスターデバイスであって、マスターデバイスの表面に実質的にスパイラル状または同心円状に延びる1つのメイントラック構造と、実質的にスパイラル状または同心円状に延びる少なくとも1つのサブトラック構造とが構成されており、またその際にはサブトラック構造がメイントラック構造の少なくとも片側に配置されており、さらにサブトラック構造が複数の不連続部を有しており、これらの不連続部により、記録媒体の表面に少なくとも1つの第1の補助情報が描写されるように、記録媒体の光学的に識別可能な表面性状に変化が与えられるようになっている、マスターデバイスに関する。
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【課題】基板上への微細パターン形成時に、感光性樹脂が反応する部位をより微小に制御するとともに、感光性樹脂層の厚み管理をより簡易化することを可能とするパターン形成方法の実現を目的とする。
【解決手段】特に極短パルスレーザを、その焦点が基板と感光性樹脂層との界面に位置するように集光して、感光性樹脂層を反応させて微細パターンを形成する。その際に、極短パルスレーザは基板側から照射される。 （もっと読む）

【課題】種々のパターンのＬＥＲを最小にして描画を行うことの可能な電子ビーム描画装置、電子ビーム描画方法、電子ビーム描画プログラムおよび記録媒体を提供する。
【解決手段】基材２１上にパターンを描画する際、それぞれの描画パターンごとのパターン幅（エッジ形状）に固有のエッジ形状誤差であるＬＥＲが最小となるオフセット値に基づいて、フォーカスレンズ７を駆動して電子ビーム５の焦点をオフセットさせ、また回転ステージ２２，直動ステージ２３，スピンドルモータ２４を駆動して基材２１を回転・移動させて、デフォーカス量を可変しながらパターンを描画する。 （もっと読む）

【課題】アスティグマ方法であっても合焦点の制御精度が向上し、高密度記録を実施できる光記録方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ガラス基板５０１の感光材料層５０２への情報の記録に先立って、光ディスクの信号記録外領域に記録光のパワーを変更しながら最適な前記補正値を、ミラー６０１，カメラ６０３，Ａ／Ｄ変換器６０４，ＣＰＵ６０６で学習し、光ディスクの信号記録領域に記録光を照射して情報を記録する際には、時々の記録光のパワーに応じて前記学習の結果をメモリ６０５から読み出し、この補正値を６１０を介して加算器６１１に入力してフォーカス制御を補正して合焦点制御する。 （もっと読む）

【課題】 原盤のレジストを露光する際の初期設定として、対物レンズの焦点付近に原盤の表面が位置するように制御する。
【解決手段】 対物レンズ６２をＺ方向において振幅１０μｍ、周波数２００Hzの正弦波で振動させる。１mm／secの速度で原盤６１が移動したとすると、原盤６１の変位を表す１次直線と正弦波状の変位とが複数箇所で交叉することになる。フォトディテクタの和信号をモニタすることによって、交叉している期間で和信号が発生し、対物レンズ６２を振動させない方法と比して位置決め検出の可能性を高めることができる。フォトディテクタの和信号が検出されると、原盤６１のＺ方向の移動が停止され、位置決めシーケンスが終了する。この後、フォーカスサーボがオンされる。 （もっと読む）

【課題】 十分な低域感度とダイナミックスキュー特性とを得る。
【解決手段】 固定部３１と、固定部３１に対して直線移動可能に配設される可動部３２と、外周部５２が固定部３１に取り付けられ、内周部５１が可動部３２に取り付けられ、外周部５２と内周部５１とが複数の変位部によって一体的に連結され、直線移動方向に直交する面内で対称に配設され、可動部３２を支持する導電性を有する一対の弾性支持部材３３，３４と、可動部３２の外周部に設けられ、入力端３７ａが一対の弾性支持部材３３，３４の一方に電気的に接続され、出力端３７ｂが一対の弾性支持部材３３，３４の他方に電気的に接続されたコイル３７と、一対の弾性支持部材３３，３４の一方に入力用端子３９ａが電気的に接続され、一対の弾性支持部材３３，３４の他方に出力用端子３９ｂが電気的に接続される給電線３９と、固定部３１に設けられ、コイル３７に離間した状態で対向して配置されるマグネット４１，４２とを備える。 （もっと読む）

【課題】溝付きレジスト原盤の偏芯を除去して溝内部の中央を露光し溝またはピットを形成する。
【解決手段】記録済み溝部を有するレジスト原盤１をターンテーブル上に設置してフォーカスサーボ制御する。この時はまだレジスト原盤の吸着を行わない。マイクロメータヘッド１１をレジスト原盤１の外周端部に接触させ、ターンテーブルをゆっくり回転してＴｅ信号検出器１２で得るトラッキングエラー信号から最も偏芯が少ないようにマイクロメータヘッド１１でレジスト原盤１を移動して偏芯を除去する。レジスト原盤１を回転させ、Ｔｅ信号検出器１２で得るトラッキングエラー信号から偏芯量を検知して、再度マイクロメータヘッド１１により微調整を行う。その後、レジスト原盤１を吸着してターンテーブルを回転させ、トラッキングサーボ制御をかけて露光することで、記録済み溝部をもつレジスト原盤１に対して偏芯除去し、溝内部の中央に露光することができる。 （もっと読む）

【課題】 鏡筒の円周方向の振動を防止してピッチむらのない記録原盤の製作を可能とする。
【解決手段】 対物レンズ５が固定され、装置本体１の貫通孔２に配置された鏡筒３と、貫通孔２に圧縮空気を吐出し、この空気圧によって貫通孔２内で浮遊した状態で鏡筒３を支持する第１静圧空気軸受６と、電磁力によって鏡筒３を軸方向に移動させる電磁気駆動手段１１と、鏡筒３の円周方向の回転を規制する回り止め手段Ａを第２静圧空気軸受１６で構成し、第２静圧空気軸受１６は、装置本体１側に設けられた一対の上ブロック部１９ａ，１９ｂを有し、この一対の上ブロック部１９ａ，１９ｂの対向する内面に、互いに逆方向に圧縮空気を吐出する一対の流動絞り部２５，２５を設け、この一対の流動絞り部２５，２５から吐出される圧縮空気を両面で受ける空気受け部材２６を鏡筒３に設けた。 （もっと読む）