【課題】同期基準信号以上の分解能で記録媒体上にマーク形成を行う。
【解決手段】マーク形成装置は、ヘッド部により、レーザ駆動パルスに基づくレーザ光照射により記録媒体に対して行ってマークを形成する。このヘッド部に供給するレーザ駆動パルスの開始タイミングの制御信号を生成する制御信号生成部を設け、またヘッド部による記録媒体へのマーク形成動作に同期する同期基準信号を逓倍して逓倍信号を生成する逓倍器を設ける。そしてレーザ駆動パルス生成部は、レーザ駆動パルスを、制御信号に応じて、逓倍信号に基づく分解能で開始タイミングを設定して発生させる。 （もっと読む）

【課題】欠陥を低減できる光ディスク原盤、成型用スタンパ、光ディスク、及びこれらの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】所定の凹凸パターンが形成された基板部材１と、基板部材１の凹凸パターン上に形成され、酸素の原子組成百分率比をＸ、タングステンの原子組成百分率比をＹとすると、５５（atomic %）＜Ｘ＜６０(atomic %)かつＹ＝１００−Ｘ(atomic %)である酸化タングステン膜２と、を含んで光ディスク原盤１００を構成する。また、この光ディスク原盤１００上に金属層５を形成し、これを剥離することにより成型用スタンパ２００を製造する。また、この成型用スタンパ２００を用いて、ディスク基板６を成型し、ディスク基板６上に反射膜７、保護膜８を形成することにより、光ディスク３００を製造する。 （もっと読む）

【課題】ハードマスクパターンを用いたドライエッチングで基板の表面に凹凸のパターンを形成する場合に、パターンの側面をボーイング形状にしないで垂直面に近づける。
【解決手段】基板上にハードマスク層を形成する第１工程（Ｓ２）と、ハードマスク層を覆う状態でレジスト層を形成した後、レジスト層をパターニングしてレジストパターンを形成する第２工程（Ｓ３〜Ｓ５）と、レジストパターンをマスクに用いてハードマスク層をエッチングしてハードマスクパターンを形成する第３工程（Ｓ６）と、ハードマスクパターンをマスクに用いて基板をドライエッチングすることにより、基板に凹凸のパターンを形成する第４工程（Ｓ８）と、を含み、第４工程（Ｓ８）においては、ハードマスクパターンの後退に寄与するガスを添加したエッチングガスを用いて基板をドライエッチングすることにより、基板のエッチングの進行とともにハードマスクパターンを後退させる。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高い酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｂとを含む。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高いアルコール溶媒Ｂと、酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｃとを含む。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層を用いて、所望の解像度を示すレジストパターンを形成する際の必要露光量の低減。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるアルコール溶媒Ａと、酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｂとを含むレジスト現像剤。 （もっと読む）

【課題】溝付きレジスト板の溝の内部に溝又はピットを正確に形成することができる電子線描画装置及び電子線描画方法を提供する。
【解決手段】描画処理後の原盤をターンテーブルから外した後再度ターンテーブルに載置したときの原盤の中心座標と、ターンテーブルの回転中心との差を検出し、ターンテーブルの停止時に検出手段からの検出信号に基づいて吸着前の原盤を径方向に移動させ、前記ターンテーブルを所定の角度だけ回転させて得られた検出手段からの検出信号に基づいて移動手段により吸着前の原盤を径方向に移動させる。 （もっと読む）

【課題】記録マーク全体の形状の測定が可能な原盤検査方法を提供する。
【解決手段】ディスク原盤に記録マークを形成する。そして、スピンドルを回転させ、スライダを一定幅ごとに移動させながら、ピックアップユニットにより記録マークをディスク原盤の内側から外側又は外側から内側まで走査させて再生信号を読み出す。信号取得部において上記再生信号から再生データを取得し、演算部において再生データが適正であるか判断する。適正でないと判断された場合に、ディスク原盤への記録マークの形成条件の最適化を行う。 （もっと読む）

【課題】無機レジスト材料を用いたディスク原盤の製造方法において、無機レジスト材料の露光感度をより高いものとする。
【解決手段】所定の凹凸パターン形状を有する光記録媒体用のスタンパを製造するためのディスク原盤の製造方法であって、基板上に、無機レジスト材料からなるレジスト層を形成するレジスト層形成工程と、前記レジスト層に露光処理及び現像処理を施すことにより、凹凸パターン形状を形成する凹凸パターン形成工程とを有するディスク原盤の製造方法において、前記レジスト層形成工程前に、前記基板と前記レジスト層との間に中間層を設ける中間層形成工程と、前記中間層の表面に逆スパッタによる表面処理を行う表面処理工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】光ディスクの高記録密度化を実現するために、不定形の酸化物の析出を抑えることが可能な光ディスク形成用のスタンパ、および光ディスク形成用のスタンパ製造方法を提供する。
【解決手段】凹凸パターン１１ａが形成されたニッケル層１１と、このニッケル層１１における凹凸パターン１１ａの形成面を覆う酸化被膜１３とを備えた光ディスク形成用のスタンパである。特に、酸化被膜１３における酸素濃度は５ｗｔ％以上である。酸化被膜は、凹凸パターンが形成されたニッケル層を１６０℃未満の温度で熱処理することで成膜される。 （もっと読む）

【課題】微細なパターンをレジスト層に高精度で描画できる描画方法、これを用いた原盤の製造方法、スタンパの製造方法及び情報記録ディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】走査型電子顕微鏡による観察が可能な材料で構成されたレジスト層支持材３４と描画領域ＥＡにおいてレジスト層支持材３４を被覆し、且つ、内側非描画領域ＮＥＡ１及び外側非描画領域ＮＥＡ２の少なくとも一部においてレジスト層支持材３４を被覆しないようにレジスト層支持材３４の上に形成されたレジスト層３６とを備える被加工体３０を用意し、レジスト層支持材３４におけるレジスト層３６から露出する部分を走査型電子顕微鏡により観察しこの観察の結果に基づいて電子ビームの焦点の位置を調整して電子ビームをレジスト層３６に照射しレジスト層３６を所定の描画パターンで露光する。 （もっと読む）

【課題】優れたスループットを実現できる導電性素子を提供する。
【解決手段】導電性素子は、第１の波面および第２の波面を有する基体と、第１の波面上に形成された導電層とを備える。導電層は、導電パターン部を形成し、第１の波面および第２の波面が、０≦（Ａｍ１／λｍ１）＜（Ａｍ２／λｍ２）≦１．８（但し、Ａｍ１：第１の波面の振動の平均幅、Ａｍ２：第２の波面の振動の平均幅、λｍ１：第１の波面の平均波長、λｍ２：第２の波面の平均波長）の関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】化学増幅型レジスト層における未露光部については高残膜率を維持でき、かつ、露光部については現像後において未露光部に対して高いパターンコントラストを得る。
【解決手段】化学増幅型レジスト層を基体上に形成する工程と、前記化学増幅型レジスト層に対して露光前ベークを行う工程と、前記化学増幅型レジスト層に対して所定のパターン露光を行う工程と、前記化学増幅型レジスト層に対して露光後ベークを行う工程と、を有し、前記露光前ベーク時間の方が、前記露光後ベーク時間よりも長くする。 （もっと読む）

【課題】製造効率を下げることなく、記録信号に符号間干渉が生じ得るか否かを高精度に評価することが可能な露光状態評価装置を提供する。
【解決手段】光ディスクの記録信号に対応させてレーザ光を照射したレジスト層１０１に、感光しないレーザ光を照射して反射光を検出するディテクタ１４と、検出信号から、記録信号の各符号長を判定する符号長判定部と、判定結果に基づいて、スライスレベルと交差する検出信号の傾き角度の累積分布を算出する算出部と、算出された傾き角度の累積分布に対して、複数の凸部を有するように変化する第１の条件、分布幅が所定の幅以上である第２の条件、ピーク値が所定値未満である第３の条件を満たすか否かを判定する判定部と、少なくとも１の条件を満たすと判定したとき、微細加工されて得られる凹凸パターンには符号間干渉が生じると評価する評価出力部とを備える。 （もっと読む）

【課題】熱化学反応を利用して無機レジスト層に形成された凹凸パターンを、電鋳処理により、表面に微小な陥没状の欠陥を生じさせることなく、スタンパに転写可能な光ディスク原盤の製造方法を提供する。
【解決手段】スタンパに凹凸パターンを転写可能な光ディスク原盤の製造方法において、第１のレジスト層１０１を、基板１００上に成膜する第１の成膜工程と、成膜された第１のレジスト層１０１を、光ディスクの記録用信号の凹凸パターンに対応させて選択的に露光する露光工程と、露光された基板を現像して、第１のレジスト層１０１が成膜された基板１００上に、凹凸パターン１０２を形成する現像工程と、凹凸パターン１０２が形成された基板の第１のレジスト層１０１に、第１のレジスト層１０１よりも酸素含有量が少ない遷移金属の酸化物を含む第２のレジスト層１０３を成膜する第２の成膜工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】無機レジストの現像速度を抑制することができる現像液、およびそれを用いた微細加工体の製造方法を提供する。
【解決手段】微細加工体の製造方法は、基材上に設けられた無機レジスト層を露光する工程と、露光された無機レジスト層を現像液により現像する工程とを備える。現像液は、アルカリ性水溶液とアミン類とを含んでいる。 （もっと読む）

【課題】レーザ光によるフォトレジストの露光により形成された複数の凸部を備え、ディスク基板に微細な凹凸パターンを形成することができる光ディスク原盤を、ウエット処理を含む現像工程を経ることなく製造することができる、光ディスク原盤の製造方法を提供する。
【解決手段】ディスク状の基板３０上に、所定波長のレーザ光に感度を有するヒートモード型の感光材料を積層してフォトレジスト層３２を形成する。ディスク状の基板を回転させながら、フォトレジスト層の表面に、光ディスクの基板表面の凹凸パターンに応じて強度変調された所定波長のレーザ光で露光して、ヒートモード型の感光材料の膨張により、複数の凸部３２Ａを前記基板の回転軸に対し同心円状又はスパイラル状に形成する。これにより、表面に複数の凸部が形成されたフォトレジスト層を備えた光ディスク原盤を製造する。 （もっと読む）

【課題】簡便で、ヒートモードレジスト層が形成された被加工物に対して、深さ方向の加工性が良好で、アスペクト比が高く、高精細な微細穴を形成可能な被加工物の加工方法を提供すること。
【解決手段】本発明の被加工物の加工方法は、少なくとも、基板上に形成されたヒートモードレジスト層を加熱する加熱工程と、前記加熱された状態の前記ヒートモードレジスト層に対してレーザ光を照射して微細穴を形成する微細穴形成工程と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】形状変形を起こすまでの寿命が改善されたスタンパを提供する。
【解決手段】表面にデータ領域の記録トラックまたは記録ビットに対応するパターンおよびサーボ領域の情報に対応するパターンが凹凸で形成され、内周および外周が加工され、裏面で内周端および外周端と裏面主面とが同一平面になっていることを特徴とするスタンパ。 （もっと読む）

【課題】高データ密度光記録媒体を提供する。
【解決手段】本発明は、高データ密度光記録媒体（２０）に関する。本発明はさらに、かかる光記録媒体（２０）からの読出し方法および読出し装置、ならびにかかる光記録媒体（２０）のマスタリング方法に関する。高データ密度を実現するために、光記録媒体（２０）は、先端を有し、かつ高電界の影響下で検出可能な作用を生じる材料（２２）によって被覆されたマーク（２１）を有する。 （もっと読む）