【課題】コンデンサを製造する方法を提供すること。
【解決手段】本発明の方法は、第１の電極または裸の金属箔を有する基板の上に誘電体層を形成するステップと、誘電体層の上に上部導電層を堆積するステップと、誘電体層および上部導電層をアニールするステップとを含み、箔または第１の電極、誘電体、および導電層がコンデンサを形成する。 （もっと読む）

【課題】多端子電極とすることなく、低製造コストで、ＥＳＬを大幅に低減できる積層コンデンサおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】積層コンデンサ１０は、複数の誘電体層１２ａが積層される誘電体素体１２と、第１内層用導体層２１および第２内層用導体層２２が該誘電体層１２ａを介して交互に積層される内層部１７と、該内層部１７の両端面に隣接し、第１外層用導体層２３および第２外層用導体層２５が誘電体層１２aを介して積層される外層部１９ａ，１９ｂと、第１側面１２Ａに形成される第１端子電極３１と、第２側面１２Ｂに形成される第２端子電極３２とを有する。前記外層部１９ａ，１９ｂに位置する一対の前記第１外層用導体層２３あるいは一対の前記第２外層用導体層２５と重複する領域において、一対の前記第１外層用導体層２３同士あるいは一対の前記第２外層用導体層２５同士を互いに接続させる複数のピンホール導体部２０を有する。 （もっと読む）

【課題】所望の静電容量が得られるキャパシタを薄膜プロセスによって安定して形成できるキャパシタの製造方法を提供する。
【解決手段】外面に金属層１２ａが形成された基板１０を用意する工程と、誘電体パターン層１４が配置される領域に開口部２０ｘが設けられた絶縁層２０を金属層１２ａの上に形成する工程と、絶縁層２０の開口部内２０ｘに誘電体を埋め込むことにより、誘電体パターン層１４を形成する工程と、誘電体パターン層１４の上に上部電極１６を形成すると共に、絶縁層２０を除去する工程と、金属層１２ａをパターニングすることにより、誘電体パターン層１４の下に下部電極１２を形成する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】信頼性が向上するグリーンシートおよびこれを用いたセラミックスの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】この目的を達成するために、本発明は、ペロブスカイト化合物の一般式をＡＢＯ₃（Ａ、Ｂは元素、Ｏは酸素をそれぞれ示す）としたとき、少なくとも元素Ａと元素Ｂからなるとともに元素Ａのモル数が元素Ｂのモル数よりも大きい化合物αと少なくとも元素Ｂを含む化合物βを用いてなることを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】リンギングの発生を抑制できると共に、電源電圧の変動時においても迅速にＩＣへ電力供給を行うことができる積層コンデンサ、回路基板及び回路モジュールを提供すること。
【解決手段】第１の内部電極５と第２の内部電極６とを含む積層コンデンサ１。第１のビア導体７は、上面１６と下面１７との間を貫通するように形成され、金属酸化物を含有する材料により形成され、下面１７側の端部における金属酸化物の含有率が中央部又は上面１６側の端部における金属酸化物の含有率よりも高い。第２のビア導体８は、上面１６と下面１７との間を貫通するように形成され、金属酸化物を含有する材料により形成され、下面１７側の端部における金属酸化物の含有率が中央部又は上面１６側の端部における金属酸化物の含有率よりも高い。 （もっと読む）

【課題】本発明は、誘電率を向上させるペロブスカイト化合物粉末の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】この目的を達成するために、本発明は、ペロブスカイト化合物の一般式をＡＢＯ₃（Ａ、Ｂは元素、Ｏは酸素をそれぞれ示す）としたとき、少なくとも元素Ａと元素Ｂからなるとともに元素Ａのモル数が元素Ｂのモル数よりも大きい化合物αと、少なくとも元素Ｂを含む化合物βとを混合して熱処理することを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】好適なチューナブルマルチプレクサを提供すること。
【解決手段】本発明は、ＣＤＭＡ通信デバイスにおいて利用するためのチューナブル強誘電性マルチプレクサを提供する。チューナブル強誘電性キャパシタは、マルチプレクサで利用されるいくつかの共振器の共振周波数をチューニングし、かつ、マルチプレクサの周波数応答の形状をチューニングするために利用される。低損失強誘電性材料および構成が提供される。チューナブルマルチプレクサは、同様であり、固定チューニングされたマルチプレクサより小さい挿入損失を有する。 （もっと読む）

【課題】誘電体粒子の表面に被膜が強固に形成され、焼結開始温度の高い誘電体原料粉末とその製法、ならびに、このような誘電体原料粉末の焼結体を誘電体層として用いた高容量かつ高信頼性の積層セラミックコンデンサとその製法を提供することを目的とする。
【解決手段】誘電体粒子１と被膜成分７とを溶媒中で混合し、乾燥させて、前記誘電体粒子１の表面に該誘電体粒子１よりもサイズの小さい前記被膜成分７が付着した複合粒子５を調製する工程と、該複合粒子を構成している前記被膜成分を瞬時に溶融させる加熱工程と、溶融した前記被膜成分を瞬時に固化させる冷却工程とを有する製法により、誘電体粒子１と、該誘電体粒子１の表面に形成された被膜３とを有し、前記被膜３が非晶質の金属酸化物である誘電体原料粉末を得る。 （もっと読む）

【課題】積層セラミック電子部品の内部電極を形成するために用いられ、セラミックグリーンシートの厚みを薄層化した場合においても、シートアタックを有効に防止可能な導電性ペーストを提供すること。
【解決手段】積層セラミック電子部品の内部電極を形成するために用いる導電性ペーストであって、導電性粉末と、有機ビヒクルとを含み、前記有機ビヒクル中の有機バインダが、エチルセルロース樹脂、アルキド樹脂およびアクリル樹脂から選択される１種以上を主成分とし、前記有機ビヒクル中の溶剤が、プロピレングリコールジアセテートを主成分とすることを特徴とする導電性ペースト。 （もっと読む）

【課題】１０００℃以下の温度で焼成可能であり、その焼結体は、比誘電率が低く、共振周波数の温度係数が小さく、Ｑ値が高く、さらに電気的絶縁信頼性が高い、ガラスセラミック組成物を提供する。
【解決手段】セラミック多層モジュール１に備える多層セラミック基板２において積層されるガラスセラミック層３のためのガラスセラミック組成物。フォルステライトを主成分とする第１のセラミック粉末と、ＣａＴｉＯ₃ 、ＳｒＴｉＯ₃ およびＴｉＯ₂ より選ばれる少なくとも１種を主成分とする第２のセラミック粉末と、Ｌｉ₂ Ｏ、ＭｇＯ、Ｂ₂ Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＺｎＯおよびＡｌ₂ Ｏ₃ を含むホウケイ酸ガラス粉末とを含む。ホウケイ酸ガラス粉末は、３重量％以上を占めており、ＣａＯ、ＢａＯおよびＳｒＯからなる群より選ばれる少なくとも１種の添加成分をさらに含む。 （もっと読む）

【課題】 高容量でかつ、全厚が薄くて埋め込みに適した形態を有し、高周波においても使用可能な薄膜キャパシタを、安価かつ高い歩留りで得ることができるキャパシタの製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明のキャパシタの製造方法は、基板（１０）の片面に分離層（２０）を形成する分離層形成工程と、分離層（２０）上に誘電体層（３０）を形成する誘電体層形成工程と、誘電体層（３０）上に金属箔（４０）を形成する金属箔形成工程と、基板（１０）と分離層（２０）の界面で分離する分離工程と、分離工程によって分離された誘電体層の金属箔が形成された面とは反対側の面に、分離層（２０）を介して電極層（５０）を形成する電極層形成工程と、を含むように構成される。 （もっと読む）

【課題】 高容量でかつ、全厚が薄くて埋め込みに適した形態を有し、高周波においても使用可能な薄膜キャパシタを、安価かつ高い歩留りで得ることができるキャパシタの製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明のキャパシタの製造方法は、基板（１０）の片面に貴金属層（２０）を形成する貴金属層形成工程と、貴金属層（２０）上に誘電体層（３０）を形成する誘電体層形成工程と、誘電体層（３０）上に金属箔（４０）を形成する金属箔形成工程と、貴金属層（２０）と誘電体層（３０）の界面で分離する分離工程と、分離工程によって分離された誘電体層の金属箔が形成された第一の面とは反対側の第二の面に、電極層（５０）を形成する電極層形成工程と、を含むように構成される。 （もっと読む）

【課題】金属酸化物ナノ結晶の結晶子径を数ナノメートル刻みで精密に制御できる金属酸化物ナノ結晶の製造方法を提供する。
【解決手段】金属酸化物前駆体を含酸素有機溶媒及び前記金属酸化物前駆体のモル数に対して１５〜５０倍の水を共存させてソルボサーマル法に供し、金属酸化物を得る。 （もっと読む）

【課題】誘電率が比較的高く、積層コンデンサの誘電体層を形成するのに適した、樹脂セラミック複合材料を提供する。
【解決手段】６０〜７０％の体積割合でセラミック粒子が樹脂の中に分散している、樹脂セラミック複合材料であって、隣り合う第１および第２のセラミック粒子１，２が互いに接触する部分での径を２ａとし、第１のセラミック粒子１の径を２Ｒとしたとき、ａ／Ｒが０．３以上である状態を、ネッキングしていると定義した場合、セラミック粒子が他のセラミック粒子とネッキングしている個数割合が４０％以上となるようにし、かつ、任意の断面上での１μｍ角の面素において、セラミック粒子の占める面積割合が４０％以上である面素の個数割合が９０％以上となるようにする。 （もっと読む）

【課題】ＭＯＤ法によるペロブスカイト型複合酸化物からなる誘電体薄膜を形成してなる誘電特性に優れた誘電体薄膜被覆基板を得るための、誘電体薄膜形成用基板の前処理方法を提供する。
【解決手段】Ｐｔ膜／ＴｉＯ_２膜／ＳｉＯ_２層／Ｓｉ基板（Ａ）上に、バリウム、ストロンチウム、マグネシウム及びカルシウムからなる群から選ばれる少なくとも１種のアルカリ土類金属元素と、チタン、スズ及びジルコニウムからなる群から選ばれる少なくとも１種の金属元素とを含有する複合酸化物からなる誘電体薄膜を形成させる方法において、基板（Ａ）を、成膜されたままの状態で、酸素雰囲気中７００〜９００℃の温度下に加熱処理し、次いで加熱処理された基板（Ａ）の最上層のＰｔ膜上に、有機酸塩熱分解法に用いられる塗布液を塗布した後、酸素雰囲気中７００〜９００℃の温度下で焼成して、膜厚が３０〜８０ｎｍの誘電体薄膜を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】周波数特性に優れた大面積を有するキャパシタを形成する際に、薄膜誘電体にショートが発生しても、薄膜誘電体の上方に位置する陽極酸化可能な導体を陽極酸化処理し、これにより絶縁体である陽極酸化膜を作成してこの陽極酸化膜を誘電体としたキャパシタを形成することにより、ショート不良を修復することができる薄膜キャパシタ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】薄膜キャパシタは、下部電極１と、下部電極１の上に形成された薄膜誘電体層２と、薄膜誘電体層２の上に形成された第１の上部電極３と、第１の上部電極３の上に形成された陽極酸化可能な導体からなる導体層４と、導体層４の上に形成された第２の上部電極５と、を有し、下部電極１を一方の電極とし、第１の上部電極３、導体層４及び第２の上部電極５を他方の電極とし、薄膜誘電体層２を誘電体としてキャパシタが構成されている。 （もっと読む）

無機ガラスフラックス材料を、高誘電率組成物に添加し、得られた混合物を基板上に堆積し、基板を、無機ガラスフラックスの軟化点と、基板の融点との間の温度でアニールすることによって、化学溶液堆積により密度の高い誘電体層を製造する方法。密度の高い誘電体層を含むキャパシタを製造する方法。
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【課題】ＭＯＤ法によるペロブスカイト型誘電物質からなる高誘電体薄膜の形成において、クラックの発生がなく、膜の収縮が小さく、かつ誘電特性に優れた誘電体薄膜を形成することができる高誘電体膜形成用組成物とその効率的な製造方法を提供する。
【解決手段】金属成分としてバリウム、ストロンチウム、マグネシウム及びカルシウムからなる群から選ばれる少なくとも１種のアルカリ土類金属元素と、チタン、スズ、又はジルコニウムから選ばれる少なくとも１種の元素を含有する複合有機酸塩液と、アルコール系溶剤及びそれとエーテル系溶剤又はエステル系溶剤からなる有機溶剤に、エチルヘキサン酸類及び／又はメチルペンタン酸類からなるカルボン酸を添加してなる混合有機液相とを含み、かつ、アルコール系溶剤の含有量は、混合有機液相の全体に対して４０〜６０容量％であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 誘電体層が薄くてもリーク電流を十分に抑えられる誘電体素子を提供する。
【解決手段】 誘電体素子１０は、誘電体層１４と、この誘電体層に接する複数の金属層１２、１６を備えている。これらの金属層の少なくとも一つは、卑金属を含んでいる。これらの金属層の各々と誘電体層との間には、界面１８、２０が存在する。これらの界面の算術平均粗さの平均値をＲａｍと表すと、このＲａｍと誘電体層の厚みＴとは、Ｔ／Ｒａｍ≧１．３を満たしている。 （もっと読む）

【課題】強固な強誘電体薄膜を形成することのできる強誘電体薄膜作製溶液およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】チタン酸アルキル、水酸基を有さないカルボン酸類および水溶性金属塩を含む水溶液である、強誘電体薄膜作製溶液。 （もっと読む）