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【課題】単位体積あたりの静電容量を増大させると共に製造効率を向上させることが可能な積層型コンデンサ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】積層型コンデンサは、第1電極部1、第2電極部2、及び誘電体層を備えている。第1電極部1は、第1帯部11と、該第1帯部の側縁から延びた複数の第1平板部12とを有している。第2電極部2は、第2帯部21と、該第2帯部の側縁から延びた複数の第2平板部22とを有している。第1電極部1及び第2電極部2は、第1平板部12及び第2平板部22が積層された状態で配置されている。第1平板部12は、第2平板部22と第2帯部21とに対向し、第2平板部22は、第1平板部12と第1帯部11とに対向している。誘電体層は、互いに隣り合う第1平板部12と第2平板部22との間に介在すると共に、第1平板部12と第2帯部21との間、並びに第2平板部22と第1帯部11との間に介在している。 (もっと読む)


【課題】誘電体フィルムの表面に蒸着された蒸着膜中の粒界面積の減少と格子欠陥の修復を図り、電気抵抗率の小さな金属化フィルムコンデンサの内部電極を構成する金属化フィルムとその製造方法を提供する。
【解決手段】金属化フィルムコンデンサ10を構成する誘電体フィルム1と該誘電体フィルム1の表面に配された内部電極層2とからなる金属化フィルム4の製造方法であって、誘電体フィルム1の表面に金属を蒸着させ(蒸着金属2”)て金属蒸着膜2’とし、冷間加工にて金属蒸着膜2’の結晶内に加工歪を導入し、誘電体フィルム1と加工歪を導入した金属蒸着膜2’からなる中間体3を製造する第1のステップ、中間体3を熱処理し、金属蒸着膜2’の少なくとも一部を再結晶化して内部電極層2とし、誘電体フィルム1と内部電極層2とからなる金属化フィルム4を製造する第2のステップからなる。 (もっと読む)


【課題】 コンデンサ本体と外部電極との接合強度が高い積層セラミックコンデンサを提供する。
【解決手段】 複数の誘電体層5と複数の内部電極層7とが交互に積層されたコンデンサ本体1と、該コンデンサ本体1の前記内部電極層7が露出した端面1aに設けられ、前記内部電極層7と接続された外部電極3とを具備する積層セラミックコンデンサであって、積層セラミックコンデンサを縦断面視したときに、前記コンデンサ本体1の前記端面1aの前記誘電体層5と前記外部電極3との間にSiの酸化物層8を有する。 (もっと読む)


【課題】従前の積層型コンデンサと互換性があり、且つ、高耐電圧化の要求を満たすコンデンサを構成するのに有用なユニットを提供する。
【解決手段】ユニットU10は、厚さ方向の複数の貫通孔11aが形成された矩形状の誘電体プレート11と、プレート上面の前端部及び後端部を除く領域を覆う第1導体膜14と、プレート上面の前端部を覆う第1絶縁体膜16と、プレート上面の後端部を覆う第2絶縁体膜17と、プレート下面の前端部及び後端部を除く領域を覆う第2導体膜15と、プレート下面の前端部を覆う第3絶縁体膜17と、プレート下面の後端部を覆う第4絶縁体膜18と、複数の貫通孔11aの一部の内側に配置されていて第1導体膜14に電気的に接続され第2導体膜15に電気的に絶縁された複数の第1電極棒12と、複数の貫通孔11aの残部の内側に配置されていて第2導体膜15に電気的に接続され第1導体膜14に電気的に絶縁された複数の第2電極棒13とを備える。 (もっと読む)


【課題】コンデンサのさらなる大容量化を容易に実現可能な技術を提供する。
【解決手段】本発明のコンデンサ用電極体の製造方法は、弁作用金属およびその合金の少なくとも一方からなる第1金属粒子7の2次粒子の空孔部に、第1金属粒子7よりも優先的に除去される第2金属粒子13を含む複合粒子14を、陽極用基材5上に吹き付けることにより複合層15を形成する第1の工程と、複合層15から第2金属粒子13を除去する第2の工程とを含むことを特徴としている。 (もっと読む)


【課題】Ca及びZrの複合酸化物を含む誘電体薄膜を備え、従来に比べてリーク電流を抑制できる薄膜コンデンサを提供する。
【解決手段】本発明の薄膜コンデンサ2は、下記化学式(1)で表される誘電体組成物を含み、厚さが200〜1000nmである誘電体薄膜4と、誘電体薄膜4を間に挟む一対の電極6、8と、を備える。
CaZr1−xTi (1)
[化学式(1)中、0.9≦m≦1.1であり、0≦x<1である。] (もっと読む)


【課題】 設計値に近い静電容量を得ることができるとともに静電容量のばらつきの小さい積層セラミックコンデンサとその製法を提供する。
【解決手段】 コンデンサ本体1をメディアボールと平均粒径が0.2μm〜0.8μmのセラミック粒子11とを混在させてバレル研磨した後に再酸化処理を行う工程を用いて、内部電極層7の露出した端面10に平均粒径が0.2μm〜0.8μmのセラミック粒子11が付着しており、前記コンデンサ本体1の端面9に露出する前記内部電極層7の幅を100%としたときに、当該内部電極層7の露出した端面10に付着している前記セラミック粒子11の粒子径を加算した合計長さの割合が5%〜20%である積層セラミックコンデンサを得る。 (もっと読む)


【課題】製造コスト及び環境負荷の少なくともいずれかを改善又は低減することができるキャパシタ構造及びその製造方法を提供する。
【解決手段】樹脂材料内部において、導電性フィラー含有率が相対的に低い第1の領域(13)の厚み方向の両側に、導電性フィラー含有率が相対的に高い、第2の領域及び第3の領域がそれぞれ配置されていることにより、該第2の領域及び第3の領域との間に電気的な容量を形成していることを特徴とするキャパシタ構造及びその製造方法。 (もっと読む)


【課題】誘電体膜の結晶化のための熱処理による下部電極の酸化、及び熱処理による誘電特性の劣化等の問題を解消することができる薄膜キャパシタ材の製造方法を提供する。
【解決手段】下記の工程(1)〜(3)を含むことを特徴とする。
工程(1):10〜500μmの厚さからなり、表面抵抗値が0.1〜1Ω、及び最大表面粗さ(Rmax)が100〜700nmであるニッケル箔を準備する。
工程(2):前記ニッケル箔の表面上に、次の(イ)〜(ハ)の手順を2〜5回繰り返し膜形成した後、これをカーボン製容器内に挿入して、非酸化性雰囲気下に700〜800℃の温度で加熱し、所望の厚さの誘電体膜を形成する。
(イ)誘電体の前駆体溶液を塗布する。
(ロ)次いで、大気下に300〜350℃の温度で加熱する。
(ハ)続いて、大気下に450〜500℃の温度で加熱する。
工程(3):前記誘電体膜の表面上に、第1導電材を成膜する。 (もっと読む)


【課題】基板との密着性を改善し、2枚の樹脂基板の間に埋め込んだ際に強度及び信頼性を高めることが可能な電子部品及び電子部品モジュールを提供する。
【解決手段】誘電体素子1aにおいて、側面2Eの表面粗さRaが15nm以上と粗面化されている。これにより、ガラスエポキシ樹脂基板10と絶縁性機材30との接触面積が大きくなり、樹脂基板との密着性を改善し、2枚の樹脂基板の間に埋め込んだ際に強度及び信頼性を高めることが可能となる。誘電体素子1aにおいて、側面2Eの表面粗さRaが5000nm以下であるため、誘電体素子1a,1bをガラスエポキシ樹脂基板10と絶縁性機材30との間に埋め込む際に、誘電体素子1a,1bの表面と樹脂との間に気泡が生じることを防止することができる。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、加工精度がよく、確実に金属層の転写が可能なセラミックコンデンサ製造用金属層転写フィルムの提供を課題とする。
【解決手段】
その表面に乾式めっき法にて金属層が設けられ、かつその表面形状が所望の積層セラミックコンデンサ電極の形状となっている柱状体である樹脂体と、樹脂フィルムとから構成され、複数の樹脂体が、樹脂体の金属層面側と相対する面が樹脂フィルムと等間隔で、接着材層を介して接合されており、前記金属層と樹脂体との密着強度が10〜50N/mであるものである。そして、樹脂体と樹脂フィルムとがポリエチレンテレフタレート(PET)及び/又はポリエチレンナフフタレート(PEN)性であり、前記樹脂体の高さが5〜100μm、樹脂フィルムの厚さが16〜200μmであり、前記金属層の厚さが0.1〜1.0μmの金属層転写フィルム。 (もっと読む)


【課題】パターニングされた絶縁性を有する樹脂材料に、金属の導体層を形成した後、切削により平坦化して、前記パターンに応じた配線層を形成する際に、切削で生じるリボン状の切粉が工具に巻き付くことがない製造方法を提供する。
【解決手段】基板8上に凹部を有する樹脂層13を形成して、この樹脂層13の表面に前記凹部を埋めるように金属層14を形成した後に、前記基板8を回転させながら、金属層14を少なくとも樹脂層13まで切削により除去して、前記凹部に配線層を形成する工程を繰り返すことで、前記配線層を積層する工程を含む電子部品の製造方法であって、前記凹部は、第一、第二の凹部9、12とからなり、この第一の凹部9には、その天面部を越えないように、前記第二の凹部12にはその天面部を越えるように前記金属層14を埋め込み形成した。 (もっと読む)


【課題】電極金属箔の端部とメタリコン外部電極との間における耐圧を高め、長寿命で信頼性の高いフィルムコンデンサを提供する。
【解決手段】金属箔とこの金属箔で重ならない部分を一方の側辺に確保した熱可塑性ポリイミドフィルムとを積層巻回または積層し、端面にメタリコン電極とを備えたフィルムコンデンサにおいて、メタリコン電極部分を除いて、前記金属箔が前記フィルムに沈降しているフィルムコンデンサを提供する。 (もっと読む)


【課題】エアロゾルデポジション法により、キャパシタンスを増大させたキャパシタ構造を作製する。
【解決手段】下部電極上にエアロゾルデポジション法によりセラミック膜を形成する際に、最初に粒径の大きい微粒子を使ってエアロゾルを形成し、エアロゾル粒子を下部電極中に侵入するように打ち込み、その後で通常の、粒径のより小さい微粒子を使ってエアロゾルを形成し、堆積を行う。 (もっと読む)


【課題】際断面性状に優れた金属箔裁断方法を提供する。
【解決手段】先端が近接して配置された対向する第1刃と第2刃の間に金属箔を通して両刃間で切断する金属箔の裁断方法において、第1刃と第2刃のラップ(刃噛み深さ)を150μm〜250μmに設定して金属箔の剪断を行なうことを特徴とする金属箔の裁断方法。 (もっと読む)


【解決課題】コンデンサ用金属箔を帯状金属箔から切り出す切断装置であって、切断刃の交換が容易であり、かつ切断サイクルの高速化に対応することができ、良好な切断面を得ることができる切断装置およびこの装置を用いたコンデンサ素子の製造方法を提供する。
【手段】帯状金属箔を切断する上刃を備えた上刃用支持台と下刃を備えた下刃用支持台とを有し、これらの支持台は装着台に上下摺動自在に装着されており、該装着台は着脱自在に装置本体に取り付けられており、上刃と下刃、これらの支持台、および装着台からなる切断ユニットが装置本体に対して着脱自在に形成されていることを特徴とし、好ましくは、溝カムに連結するリンク機構によって上刃と下刃の上下動を案内する手段を有し、また、高耐久性の材質によって上刃および下刃を形成した帯状金属箔の切断装置およびこの装置を用いたコンデンサ素子の製造方法。 (もっと読む)


本発明は、積層構造体の製造方法に関する。この方法は、少なくとも第一及び第二の可撓性構造体を準備するステップと、前記第一及び第二の可撓性構造体の少なくとも一部にコーティングを施して、第一の被覆可撓性構造体と第二の被覆可撓性構造体とを得るステップと、前記第一の被覆可撓性構造体の被覆面と前記第二の被覆可撓性構造体の被覆面とを合わせて、前記第一の被覆可撓性構造体と前記第二の被覆可撓性構造体とを一緒にプレスし、前記第一の被覆可撓性構造体と前記第二の被覆可撓性構造体との間で冷間圧接をなすステップとを含む。本発明は、更に、冷間圧接により結合される第一の可撓性構造体及び第二の可撓性構造体を含む積層構造体に関する。
(もっと読む)


【課題】本発明は、曲げや引っ張り等の機械的応力や熱応力に対する耐久性が高い積層体を基体として使用することにより、実装後の耐基板曲げ性に優れ、たわみ強度が大きく、さらに、無線通信機器に用いる回路基板の設計自由度が十分に確保され、携帯端末などの電子機器の小型化・低価格を実現できるLC複合部品を提供することを目的とする。
【解決手段】セラミック層2が積層された積層体3と、積層体3の両端部に形成された一対の端部電極5と、積層体3の表面に形成されたスパイラル部6と、積層体2の表面に形成されスパイラル部6と少なくとも一方の端部電極5とを絶縁するギャップ部7と、セラミック層2と平行に積層体3に内蔵された補強層4と、を備え、補強層4と補強層4と略平行な積層体3の表面との間隔Hが50μm≦H≦200μmである。 (もっと読む)


【課題】電極膜パターンの周囲に平坦性を高める絶縁パターンが効率よく形成された高信頼性の積層電子部品の製造方法を提供する。
【解決手段】支持体1の一方主面に、電極膜パターン2を形成する工程Aと、前記支持体1の一方主面の前記電極膜パターン2を覆う絶縁スラリー8を塗布する工程Bと、前記絶縁スラリー8上に成形シート5を付着させ、前記支持体1と前記成形シート5の間隔を均一にする工程Cと、前記絶縁スラリー8の溶剤を乾燥し、成形シート5を剥離する工程Dと、前記絶縁パターン3上に絶縁シート4を積層するとともに、前記電極膜パターン2及び絶縁パターン3から前記支持体1を剥離させて複合シート7を形成し、且つ、該複合シート7を複数枚積層して積層シート6を形成する工程Eと、前記積層シート6を焼成して積層電子部品を得る工程Fとによって積層電子部品を製造する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、曲げや引っ張り等の機械的応力や熱応力に対する耐久性が高い積層体を基体として使用することにより、実装後の耐基板曲げ性に優れ、たわみ強度が大きく、さらに、無線通信機器に用いる回路基板の設計自由度が十分に確保され、携帯端末などの電子機器の小型化・低価格を実現できるLC複合部品を提供することを目的とする。
【解決手段】セラミック層2が積層された積層体3と、積層体3の両端部に形成された一対の端部電極5と、積層体3の表面に形成されたスパイラル部6と、積層体3の表面に形成されスパイラル部6と少なくとも一方の端部電極5とを絶縁するギャップ部7と、セラミック層2と略平行に積層体3に内蔵されセラミック層2よりも延性や展性に優れた補強層4と、を備える。 (もっと読む)


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