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Fターム[5E315CC01]の内容

Fターム[5E315CC01]に分類される特許

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本発明の絶縁ペーストは、(a)ガラス粉末と、(b)有機溶剤とを含み、ガラス拡散抑制剤としてアルミナ(Al23)および酸化チタン(TiO2)の一方または両方が前記ペースト中に含有され、このガラス拡散抑制剤の含有量は、前記ペースト中の無機成分の含有量に基づいて12〜50重量%である。
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導電性コア(10)を第一除去可能材料でコーティングする工程;該第一除去可能材料中に開口部を作成し、該導電性コアの一部を曝露する工程;該導電性コアの曝露された一部上に導電性材料(34)をめっきする工程;該導電性材料を第二除去可能材料でコーティングする工程;該第一除去可能材料を除去する工程;該導電性コアを誘電コーティング(44)で電気泳動的にコーティングする工程;および、該第二除去可能材料を除去する工程を包含する方法が提供される。
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【課題】静電気の帯電を効率的に除去することができ、しかも、配線の短絡を防止することのできる、配線回路基板を提供すること。
【解決手段】金属支持基板2の上に、一方側ベース開口部11Aおよび他方側ベース開口部11Bが形成されるように、ベース絶縁層3を形成し、ベース絶縁層3の上に、一方の1対の配線9aおよび9bと、他方の1対の配線9cおよび9dと、一方側ベース開口部11Aおよび他方側ベース開口部11B内に、一方側グランド接続部7Aおよび他方側グランド接続部7Bとを同時に形成し、ベース絶縁層3と、一方の1対の配線9aおよび9bと、他方の1対の配線9cおよび9dと、一方側グランド接続部7Aおよび他方側グランド接続部7Bとの各表面に、一方側半導電性層5Aおよび他方側半導電性層5Bを、これらの間に間隔が隔てられるように、形成する。 (もっと読む)


【課題】安価な破砕品の無機フィラーを用いて、金属板や金属箔との接着性に優れ、放熱製と電気絶縁性に優れる混成集積回路用の組成物を提供する。
【解決手段】エポキシ樹脂と前記エポキシ樹脂の硬化剤と無機フィラーとを含む組成物であって、無機フィラーの最大粒径が100μm以下で且つ粒子径1〜12μmのものを50体積%以上含有し、しかもαクリストバライトを含有することを特徴とする組成物であり、好ましくは、無機フィラーが、平均粒子径が5〜50μmである粗粉と、粒径2.0μm以下を70体積%以上含有し、平均粒子径が0.2〜1.5μmである微粉とを含むことを特徴とする前記の組成物であり、更に好ましくは、前記粗粉がαクリストバライトである前記の組成物、前記組成物を用いてなる基板、金属ベース回路基板、及び金属ベース多層回路基板。 (もっと読む)


【課題】基板の厚さ方向において高い熱伝導性を実現し、半導体の高機能化、高密度化や小形化による発熱量や発熱密度の増大に対しても十分な対応できる優れた放熱性が得られる放熱基板を提供する。
【解決手段】上下両面を露出させた状態で絶縁材21、22中に埋設され、それぞれが電気的に独立した少なくとも1個以上の金属放熱体11を備え、金属放熱体11の上面は下面より面積的に小さく形成されている。そして、金属放熱体11の上面に発熱素子10が搭載され、絶縁材21の上面に発熱素子以外の電子部品13が搭載される。 (もっと読む)


【課題】絶縁層カケの無い、沿面放電耐圧特性及び絶縁信頼性に優れる金属ベース回路基板を提供する。
【解決の手段】プレス金型の抜き落とし箇所に最大剪断荷重の1.0倍から0.1倍の力を有するプッシュバック機構を設け、且つダイスと地面の隙間にロックウェル硬度で50〜80の硬度を有する鋼材を設けた金属ベース回路基板の製造方法であり、前記方法で得られた、絶縁層の厚みが150μm〜450μmであることを特徴とする金属ベース回路基板。 (もっと読む)


【課題】導電性の良好な導電性ペーストを使用することにより、優れた接続信頼性を有するプリント配線板を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のプリント配線板1は、金属基板2と、金属基板2の表面上に設けられた絶縁層3と、絶縁層3の表面上に設けられ、金属基板2と電気的に接続される導電層4とを備えている。また、プリント配線板1は、絶縁層3と導電層4に形成され、金属基板2を底面とするとともに、絶縁層3、および導電層4を壁面とする貫通孔6と、貫通孔6に充填され、金属基板2と導電層4を電気的に接続するための導電性ペースト7を備えている。そして、プリント配線板1において、金属基板2と導電性ペースト7との界面に対して、電流を流す処理がなされている。 (もっと読む)


【課題】静電気の帯電を効率的に除去して、実装される電子部品の静電破壊を確実に防止することのできる、配線回路基板およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】回路付サスペンション基板1において、第1半導電性層5を、導体パターン4から露出するベース絶縁層3の表面に、導体パターン4および金属支持基板2と電気的に接続されるように形成し、第2半導電性層7を、カバー絶縁層6の表面に、金属支持基板2と電気的に接続されるように形成する。第1半導電性層5と第2半導電性層7とによって、導体パターン4、ベース絶縁層3およびカバー絶縁層6に帯電する静電気を、金属支持基板2に接地させ、効率的に除去することができ、実装される電子部品の静電破壊を確実に防止することができる。 (もっと読む)


【課題】加工工程の煩雑さを省略化し、且つ銅配線を微細に加工できる安価な加工法に適したHDDサスペンション用積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】a)ステンレス層A上に、ポリイミド系樹脂溶液又はその前駆体溶液を塗布・乾燥・熱処理して複数のポリイミド系樹脂層からなる線膨張係数が1×10-5〜3×10-5/℃の絶縁樹脂層Bを形成すること、b)絶縁樹脂層B上に、スパッタ法により金属薄膜としての第1シード層Cを形成する工程、c)第1シード層C上に、スパッタ法により良導電性の金属薄膜としての第2シード層Dを形成する工程、及びd)第2シード層D上に、導体層となるメッキ層Eを形成する工程、の各工程を含むHDDサスペンション用積層体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】簡易な層構成により、伝送損失を低減させることができるとともに、金属支持基板と金属箔との密着性を十分に図ることができ、優れた長期信頼性を確保することができる配線回路基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】金属支持基板2を用意し、その金属支持基板2の上に金属薄膜3を形成し、その金属薄膜3の上に金属箔4を形成し、金属箔4および金属支持基板2の上にベース絶縁層5を形成し、ベース絶縁層5の上に導体パターン6を配線回路パターンとして形成し、金属支持基板2における金属箔4と対向する部分に、エッチングにより開口部9を形成する。 (もっと読む)


【課題】金属から成るコア層を備えた回路装置の効率的な製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の回路装置の製造方法は、導電箔30の上面を部分的に除去して導電箔よりも浅い第1分離溝17を形成する工程と、第1分離溝17が充填されるように導電箔30の表面を第1絶縁層12で被覆する工程と、第1分離溝17に充填された第1絶縁層12が露出するまで導電箔30を裏面から除去して、第1分離溝17が設けられた箇所で導電箔30を分離して導電パターン11を形成する工程と、導電パターン11が被覆されるように第2絶縁層32を形成する工程と、第1絶縁層12および第2絶縁層13の主面に、第1配線層14および第2配線層15を形成する工程とを具備する。 (もっと読む)


【課題】電子部品の実装前においては、静電気の帯電を効率的に除去することができ、電子部品の実装後においては、配線回路本体部の電気的安定性を確実に確保することのできる、配線回路基板を提供すること。
【解決手段】金属支持層12と、ベース絶縁層13と、配線回路本体部2に形成される主配線回路5および帯電除去部3に形成される補助配線回路11を有する導体パターン14と、カバー絶縁層15とが順次積層された回路付サスペンション基板1において、帯電除去部3において、ベース絶縁層13の上に、補助配線回路11を被覆する半導電性層9を形成する。そして、磁気ヘッドの実装前には、半導電性層9によって、配線回路本体部2に帯電する静電気を、効率的に除去することができ、磁気ヘッドの実装後には、帯電除去部3を、導電遮断部4を境界として、配線回路本体部2から分離して、配線回路本体部2と帯電除去部3との導電を遮断する。 (もっと読む)


【課題】簡易な層構成により、伝送損失を低減させることができるとともに、第1絶縁層と金属箔との密着性を向上させて、長期信頼性に優れる配線回路基板を提供すること。
【解決手段】金属支持基板2を用意し、第1ベース絶縁層3を金属支持基板2の上に形成し、第1金属薄膜4を、第1ベース絶縁層3の全面に形成し、金属箔5を、第1金属薄膜4の上に形成し、第2金属薄膜6を、金属箔5および第1金属薄膜4を被覆するように連続して形成し、第2ベース絶縁層7を、第1ベース絶縁層3の上に、第2金属薄膜6を被覆するように形成し、第3金属薄膜8を、第2ベース絶縁層7の全面に形成し、導体パターン9を、第3金属薄膜8の上に形成し、第4金属薄膜10を、導体パターン9および第3金属薄膜8を被覆するように連続して形成し、カバー絶縁層11を、第2ベース絶縁層7の上に、第4金属薄膜10を被覆するように形成する。 (もっと読む)


【課題】静電気の帯電を効率的に除去することができ、しかも、導体パターンの短絡を確実に防止することのできる、配線回路基板を提供すること。
【解決手段】金属支持基板2の上に、複数の配線9に対応する複数のベース開口部11が形成されるように、ベース絶縁層3を形成し、ベース絶縁層3の上に、複数の配線9を有する導体パターン4と、各ベース開口部11内に、複数のグランド接続部7とを同時に形成し、ベース絶縁層3の上に、各半導電性層5を、各配線9と各グランド接続部7とを被覆するように、各配線9に対応して、互いが独立するように形成し、ベース絶縁層3の上に、各半導電性層5から露出する各配線9と、ベース絶縁層3とを被覆するように、カバー絶縁層6を形成する。 (もっと読む)


【課題】静電気の帯電を効率的に除去することができ、しかも、導体パターンの早期の短絡を防止することのできる、配線回路基板を提供すること。
【解決手段】金属支持基板2の上に、ベース開口部11が形成されるように、ベース絶縁層3を形成し、ベース絶縁層3の上に、1対の配線9間の間隔D1が狭い中間領域14と、1対の配線9間の間隔D2が広い先端領域15Aおよび後端領域15Bとを有する導体パターン4と、ベース開口部11内に、グランド接続部7とを同時に形成し、後端領域15Bのみにおいて、ベース絶縁層3、導体パターン4およびグランド接続部7の各表面に、半導電性層5を形成し、ベース絶縁層3の上に、半導電性層5と、ベース絶縁層3とを被覆するように、カバー絶縁層6を形成する。 (もっと読む)


【課題】熱抵抗が小さくヒートシンクなどを使用しなくても放熱効果が高く、発光素子を大電流領域で使用可能で高出力化にも対応可能な光源用基板及びこれを用いた照明装置を提供する。
【解決手段】光源用素子が実装される光源用基板であって、高い熱伝導性を有するベース基板と、ベース基板の光源用素子が実装される実装面側に形成された高い熱伝導性を有する絶縁層と、絶縁層を介して実装面側に形成された配線パターンと、実装面側と反対側の面に形成された高い熱放射性を有する放熱層とを有する構成とする。 (もっと読む)


【課題】静電気の帯電を効率的に除去して、実装される電子部品の静電破壊を確実に防止することのできる、配線回路基板およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】回路付サスペンション基板1において、第1半導電性層5を、ベース絶縁層3の上に、導体パターン4を被覆するように、金属支持基板2と電気的に接続されるように、形成し、第2半導電性層7を、カバー絶縁層6の表面およびカバー絶縁層6から露出するベース絶縁層3の表面に、金属支持基板2と電気的に接続されるように、形成する。これら第1半導電性層5と第2半導電性層7とによって、導体パターン4、ベース絶縁層3およびカバー絶縁層6に帯電する静電気を、金属支持基板2に接地させ、効率的に除去することができ、実装される電子部品の静電破壊を確実に防止することができる。 (もっと読む)


【課題】静電気の帯電を効率的に除去することができ、しかも、金属支持基板のイオンマイグレーションを確実に防止することのできる、配線回路基板を提供すること。
【解決手段】金属支持基板2、ベース絶縁層3および導体パターン4が順次積層された回路付サスペンション基板1において、半導電性層5を、導体パターン4の上面および側面と、導体パターン4から露出するベース絶縁層3の上面と、一方の1対の配線9aおよび9bの対向領域Sに対する幅方向外側一方側(右側)におけるベース絶縁層3の側面と、その側面に連続する金属支持基板2の上面とに、幅方向にわたって連続するように形成し、カバー絶縁層6を、その半導電性層5の上に、形成する。 (もっと読む)


【課題】静電気の帯電を効率的に除去することができ、しかも、高温高湿雰囲気下において、金属支持基板の腐食を防止することのできる、配線回路基板を提供すること。
【解決手段】金属支持基板2の上に、ベース開口部11が形成されるベース絶縁層3を形成し、ベース絶縁層3の上に導体パターン4と、ベース開口部11から露出する金属支持基板2の上に、ベース開口部11内に充填されるグランド接続部7とを同時に形成し、ベース絶縁層3、導体パターン4およびグランド接続部7の上に半導電性層5を形成し、半導電性層5の上にカバー絶縁層6を形成する。この回路付サスペンション基板1では、導体パターン4に帯電する静電気を、半導電性層5およびグランド接続部7を介して効率的に除去でき、しかも半導電性層5は、金属支持基板2と直接接触せず、グランド接続部7を介して金属支持基板2と接続されるので、金属支持基板2の腐食を有効に防止できる。 (もっと読む)


【課題】熱放散性と電気絶縁性を確保しつつ、かつ、電磁波シールド性が良好で折り曲げることのできる金属ベース回路基板とその製法ならびにそれを用いたLEDモジュールを提供する。
【解決手段】金属箔上に絶縁層を介して導体回路を設け、更にカバーレイ、磁性損失を有する層又は誘電損失を有する層を設けてなる金属ベース回路基板であって、少なくともカバーレイの一部が除かれて形成されているスリットが前記導体回路の設けられていない部分に形成されていることを特徴とする金属ベース回路基板。 (もっと読む)


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