【課題】メッシュ状の導電層と、導電層上に樹脂組成物のハードコート層を備えた構造を含むディスプレイ用光学フィルタであって、表面が高度な平面性を有するディスプレイ用光学フィルタ、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】透明基材１２の一方の表面にメッシュ状の導電層１３と、導電層１３上に樹脂組成物のハードコート層１４を備えた構造を含むディスプレイ用光学フィルタ２０であって、ハードコート層１４が、透明樹脂微粒子１９を含み、且つ透明樹脂微粒子１９の平均粒径が、下記式（Ｉ）：
【数１】


［但し、Ｄはハードコート層の透明基材表面からの層厚を表し、Ｐは透明樹脂微粒子の平均粒径を表す。］を満たすことを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。 （もっと読む）

【課題】 メッシュ状の導電層と、導電層上に設けられたハードコート層を備えた構造を含むディスプレイ用光学フィルタであって、ハードコート層表面の平面性が優れ、かつハードコート層とメッシュ状の導電層との密着性が向上したディスプレイ用光学フィルタ、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 透明基材１２と、当該透明基材１２の一方の表面に設けられたメッシュ状の導電層１３と、当該導電層１３上に設けられたハードコート層１４とを含むディスプレイ用光学フィルタ１０であって、前記ハードコート層１４が、その樹脂成分として、カチオン重合性の硬化物を含むことを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ１０、及びその製造方法が得られた。 （もっと読む）

【課題】干渉縞を抑えた反射防止機能、電磁波シールド機能が一体化した電磁波シールド性反射防止フィルムを得ることを主要な目的とする。
【解決手段】電磁波シールド性反射防止フィルム６は、基材層２を備える。基材層２の一方の面に、屈折率が１．２０〜１．５０である低屈折率層１が直接設けられている。基材層２の他方の面に、ハードコート層３、導電性ペーストインキのにじみを防止するためのインキ受容層４が設けられている。インキ受容層４の上に、スクリーン印刷された導電性ペーストインキを、焼成することによって形成された電磁波シールドメッシュ層５が設けられている。 （もっと読む）

【課題】電磁波シールド特性がよく、凸状パターン層を例えば２０μｍ以下特に１０μｍ以下の線幅への細線化を可能にする電磁波シールド材を提供する。
【解決手段】透明基材１と、透明基材１上に形成された導電性組成物からなる凸状パターン層２とを有し、導電性組成物が凸状パターン層２の線幅Ｗの１／４以下の長さを平均粒径とする導電性粒子４とバインダー樹脂５とを含み、凸状パターン層２の横切断面において１６個以上の導電性粒子４が相互に接触する塊部３を有する電磁波シールド材１０によって、上記課題を解決する。この塊部３は、導電性粒子４が少なくとも縦４個×横４個で相互に接触していることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】パターンの線幅を、より一層微細化、具体的には、線幅３０μｍ以下、より好ましくは１５〜２０μｍ以下の細線化が求められている電磁波シールド材において、より低い表面抵抗率とすることができる構成、及び表面抵抗率を、簡易かつ短時間の処理で低減させる処理方法を含む電磁波シールド材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】透明基材１と、透明基材１上に所定のパターンで形成された導電性組成物からなる凸状パターン層２を有する電磁波シールド材１０であって、該導電性組成物は導電性粒子とバインダー樹脂を含んでなり、凸状パターン層２の横断面の電子顕微鏡写真による観察において、該導電性粒子の少なくとも一部が融合した連なりを有する。 （もっと読む）

【課題】パターンの線幅を、より一層微細化、具体的には、線幅３０μｍ以下、より好ましくは１５〜２０μｍ以下の細線化が求められている電磁波シールド材において、より低い表面抵抗率とすることができる構成、及び表面抵抗率を、簡易かつ短時間の処理で低減させる処理方法を含む電磁波シールド材及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】透明基材１と、該透明基材１上に所定のパターンで形成された導電性組成物からなる凸状パターン層２を有する電磁波シールド材１０，２０であって、該導電性組成物は導電性粒子２ａとバインダー樹脂２ｂを含んでなり、該凸状パターン層２の横断面の電子顕微鏡写真による観察において、該導電性粒子の少なくとも一部が融合した連なりを有してなる、電磁波シールド材１０，２０及びその製造方法である。 （もっと読む）

【課題】パターンの線幅を、より一層微細化、具体的には、線幅３０μｍ以下、より好ましくは１５〜２０μｍ以下の細線化が求められている電磁波シールド材において、より低い表面抵抗率とすることができる構成、及び表面抵抗率を、簡易かつ短時間の処理で低減させる処理方法を含む電磁波シールド材及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】透明基材１と、該透明基材上に所定のパターンで形成された導電性組成物からなる凸状導電パターン層２を有する電磁波シールド材１０であって、該導電性組成物は導電性粒子とバインダー樹脂を含んでなり、該凸状導電パターン層の横断面の電子顕微鏡写真による観察において、該導電性粒子の少なくとも一部が融合した連なりを有してなる、電磁波シールド材及びその製造方法である。 （もっと読む）

【課題】パターンの線幅を、より一層微細化、具体的には、線幅３０μｍ以下、より好ましくは１５〜２０μｍ以下の細線化が求められている電磁波シールド材において、より低い表面抵抗率とすることができる構成、及び表面抵抗率を、簡易かつ短時間の処理で低減させる処理方法を含む電磁波シールド材及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】透明基材と、該透明基材上に所定のパターンで形成された導電性組成物からなる凸状パターン層を有する電磁波シールド材であって、該導電性組成物は導電性粒子とバインダー樹脂を含んでなり、該凸状パターン層の横断面の電子顕微鏡写真による観察において、該導電性粒子の少なくとも一部が融合した連なりを有してなる、電磁波シールド材及びその製造方法である。 （もっと読む）

【課題】従来よりも表面抵抗が低く、導電性が高い導体パターンが生産性高く基材に形成された導体パターン形成基材を提供する。
【解決手段】導体パターン形成基材に関する。基材４の表面にセルロースアセテートアルキレートで受容層５が形成されている。前記受容層５の表面に導電性ペースト３が所定パターン形状に印刷されて導体パターン６が形成されている。 （もっと読む）

【課題】電磁波遮蔽層中の金属層の酸化及び侵食を防ぎ、かつ生産性が良い保護層付き電磁波遮蔽材を提供する。
【解決手段】電磁波遮蔽材は、透明基材フィルム上に金属層を含む電磁波遮蔽層が形成され、さらにその上に硬化性組成物を硬化してなる保護層が直接形成されて構成されている。硬化性組成物としては紫外線硬化性樹脂が用いられ、該紫外線硬化性樹脂に紫外線を照射して硬化させることにより保護層が電磁波遮蔽層上に直接形成される。この保護層は、保護機能を向上させると共に、表面硬度を高めるために、ハードコート層であることが好ましい。また、保護層は、電磁波遮蔽材に反射防止機能を付与するために、最外層に反射防止層を有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】廃棄物の量が少なく手間のかからない工程で導電性の高い導体パターンを形成することができる導体パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】導体パターン１の形成方法に関する。基材２の表面にレジスト層３を形成する工程、前記レジスト層３に前記基材２が底面に露出する溝４を所定パターン形状に形成する工程、前記レジスト層３の表面に導電性ペースト５を供給し、スキージ６を用いて前記導電性ペースト５を前記溝４に充填すると共に余分な導電性ペースト５を前記レジスト層３の表面から掻き取って除去する工程、前記レジスト層３を除去する工程をこの順で経る。 （もっと読む）

【課題】電磁波遮蔽材の導電体パターン層を導電性粒子と樹脂バインダからなる導電性組成物層として、プライマ層を介在さて透明基材上に引抜プラマイ方式凹版印刷法で形成した時に、凹版版面の鏡面加工の跡が開口部で露出するプライマ層表面に現れる筋が光学欠陥になるのを防ぐ。
【解決手段】透明基材１上にプライマ層２を介して導電体パターン層３が形成され、またプライマ層２の厚みが導電体パターン層の形成部で非形成部よりも厚く、非形成部である開口部４で露出するプライマ層表面に現れる互いに平行な多数の直線状の筋５について、鏡面加工時のバイトの送りピッチを調整して、筋が延びる方向に直交方向での筋周期Ｗが５０μｍ以下となる様に設定する。画像表示装置はＰＤＰの前面にこの電磁波遮蔽材をプライマ層面をＰＤＰ側にして間に空間を空けて配置する。 （もっと読む）

【課題】電磁波遮蔽材の導電体パターン層を導電性粒子と樹脂バインダからなる導電性組成物層として、プライマ層を介在さて透明基材上に引抜プラマイ方式凹版印刷法で形成した時に、凹版版面の鏡面加工の跡が開口部で露出するプライマ層表面に現れる筋が光学欠陥になるのを防ぐ。
【解決手段】透明基材１上にプライマ層２を介して導電体パターン層３が形成され、またプライマ層２の厚みが導電体パターン層の形成部で非形成部よりも厚く、非形成部である開口部４で露出するプライマ層表面に現れる互いに平行な多数の直線状の筋５について、それが延びる方向と外形長方形の電磁波遮蔽材１０の短辺との成す劣角である傾斜角θを５〜９０°の範囲に設定する。画像表示装置はＰＤＰの前面にこの電磁波遮蔽材をプライマ層面をＰＤＰ側にして間に空間を空けて、且つ短辺をディスプレイ鉛直方向に平行にして配置する。 （もっと読む）

【課題】電子機器のメカ構造への制約を極力排除しつつフラット表示モジュールに対するＥＳＤ対策を行う。
【解決手段】電子機器は、正面側筐体部分（透明板）１２および背面側筐体部分３０により構成される筐体を有する。この筐体内にフラット表示モジュール１０が収容される。正面側筐体部分１２の、両筐体部分の接合部近傍の内壁に導電層３７が形成される。導電層３７は、接地手段により電気部品を搭載した回路基板のＧＮＤに導通する。 （もっと読む）

【課題】透明性に優れ、且つ、低い表面抵抗率を有すると共に、表面平滑性を有していて安価に製造することが可能な、透明導電性フィルムの製造方法及び透明導電性フィルムを提供する。
【解決手段】（１）透明樹脂基材２の片面上に、溶剤溶解性の印刷材料を印刷したパターンを、細線メッシュパターン用のネガ型の遮蔽マスク８として形成し、（２）遮蔽マスク８が透明樹脂基材２を覆っている状態で、透明樹脂基材２の上に、スパッタまたは真空蒸着により、金属薄膜９を形成し、（３）遮蔽マスク８を溶剤に溶解させて除去し、金属薄膜５からなる細線メッシュパターンを表出させ、（４）細線メッシュパターンの金属薄膜５が成す凸状部と、金属薄膜５が形成されていない凹状の開口部７の一部または全面に、透明性を有する導電樹脂層６を、前記凸状部が埋没するように被覆し、導電樹脂層６による被覆表面の表面高低差が５０〜４００ｎｍとする。 （もっと読む）

【課題】光の透過率が高く、ヘイズ（曇り度）が低いシールド材を提供する。
【解決手段】透明基材１０と、透明基材１０上に形成された第１の粘着層１２と、第１の粘着層１２上に形成された樹脂層１４と、樹脂層１４上にパターン化されて形成された金属層１６ａと、金属層のパターン１６ａ及び樹脂層１４の上に、第３の粘着層１２ｂを介して形成された反射防止層２０とを含む。 （もっと読む）

【課題】交流磁場においても磁気シールド性能の劣化が少ない開放型磁気シールド構造を提供する。
【解決手段】所定幅ｗで厚さ３０μｍ以下の複数の強磁性薄帯材１２を同じ形状の絶縁性薄帯材１４と長手方向中心軸Ｃで位置合せしつつ交互に重ね合わせて帯状積層磁性板１０とし、その複数の帯状積層磁性板１０を各磁性板１０の長手方向中心軸Ｃが同一面Ｆ上にその所定幅ｗ以上の所定間隔ｄで平行に並ぶように配置して磁気シールド面Ｆを形成する。好ましくは、強磁性薄帯材１２を鉄系アモルファス製、コバルト系アモルファス製、又はナノ結晶軟磁性材料製とし、絶縁性薄帯材１４を強磁性薄帯材１２と実質上同じ厚さの紙製又は合成樹脂製のシート又はフィルムとする。絶縁性薄帯材１４は、強磁性薄帯材１２の片側又は両側の帯状面を覆う絶縁性被覆材としてもよい。 （もっと読む）

【課題】外光に対する優れた反射防止性能を発揮し、且つ、表面抵抗値の増加を抑え、導電性の低下を抑制することが可能な透明導電材、及び該透明導電材の製造方法を提供する。
【解決手段】透明基材の一面側に、銀粒子及びバインダー樹脂を含む導電性組成物からなる導電性パターン層を有し、該導電性パターン層の表面に、ＡｇＣｌ、ＴｅＣｌ_２、ＴｅＣｌ_４、Ｔｅ、ＡｇＯ、Ａｇ_２Ｏ及びＴｅＯ_２からなる群より選ばれる少なくとも１種を含み、且つ、厚みが０．０１〜０．５μｍである黒化層が積層されていることを特徴とする透明導電材、及び該透明導電材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】パターンの線幅をより一層微細化しても低い電気抵抗とすることができ、電磁波シールド材の凸状パターン層形成側をディスプレイパネルに向けて設置したときに、外光及び画像光による画像の白化、画像コントラストの低下が防止できる電磁波シールド材を含むディスプレイ用フィルタ及びこれを用いた画像表示装置を提供する。
【解決手段】透明基材１と、該透明基材１上に形成されたプライマー層２と、該プライマー層２上に所定のパターンで形成された導電性組成物からなり、かつ、その表面が黒化処理された凸状パターン層３を有する電磁波シールド材であって、該導電性組成物は導電性粒子５とバインダー樹脂６を含み、該凸状パターン層３中の該導電性粒子５の分布が、相対的に、該プライマー層２近傍において疎であり、又該凸状パターンの頂部近傍において密であり、電磁波シールド材の凸状パターン層３形成側をディスプレイパネル側に向けて使用する。 （もっと読む）

【課題】導電性の凸状パターン層を覆う全面に透明保護層を設けた電磁波シールド材において、画像表示装置の前面に配置した場合に透過画像が歪むという課題を解決した電磁波シールド材を提供する。
【解決手段】透明基材１と、透明基材１上に形成された導電性組成物からなる凸状パターン層２と、凸状パターン層２を覆う全面に形成された透明保護層３とを有し、透明保護層３が電離放射線硬化性樹脂からなり、透明保護層３の表面における水に対する接触角が７９°以上であるように構成した。この場合において、透明基材１と凸状パターン層２の間にはプライマー層４が設けられていてもよい。 （もっと読む）