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Fターム[5E343ER42]の内容

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Fターム[5E343ER42]に分類される特許

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【課題】加熱対象となる基板以外に加熱の影響が及ぶことを防ぎつつ、基板に過剰なストレスを与えることなく、塗布液または熱硬化性の部材を効率的に均一に乾燥させることができる、局所加熱装置を提供する。
【解決手段】基板1を搬送する搬送手段と、側部周囲を囲まれ上下に開口を有する空間11が形成され、上部開口端の全周が基板1の下面と接触して基板1を支持する基板支持部材4とを備える。また、基板支持部材4が基板1を支持した状態で上記空間11の内部に位置し、基板1の加熱対象となる局所位置の下面側に熱風を噴射して、非接触な状態で局所位置を加熱する非接触加熱手段3と、上記空間11と連通するように接続され、空間11に存在する空気を排出する排気手段とを備える。 (もっと読む)


低温基板上の薄膜を反応性雰囲気中で反応させる方法が開示される。薄膜は、還元性の金属酸化物を含み、反応性雰囲気は、水素またはメタンのような還元性ガスを含む。低温基板は、ポリマー、プラスチックまたは紙であり得る。金属酸化物を金属に還元し、適用可能であれば上記金属を焼結するために高強度ストロボシステムからの複数の光パルスが用いられる。本発明の好ましい実施形態に従って、ガス雰囲気が初めに提供される。次に、低温基板の上部に位置する薄膜の層がガス雰囲気中を通って運ばれる。薄膜の層がガス雰囲気中を移動するときに、上記薄膜の層が複数のパルス電磁放射線に曝露されて、薄膜の層がガス雰囲気と化学的に反応することを可能にする。
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【課題】本発明の目的は、前記従来技術に基づく問題点を解消し、高温焼結することなく、高信頼性を有する、すなわち、マイグレーションの発生を防止することができる配線形成方法を提供することにある。
【解決手段】多孔質型受容層が表面に形成された受容層付基材上に、導電性パターンの画像データに基づいて、金属コロイド溶液をインクジェット方式により吐出して描画した後、マイグレーション防止溶液を塗布するマイグレーション防止処理を行って前記導電性パターンを持つ配線を形成することにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】基材上に、信頼性及び導電性の良好な、厚みが約5μm以上の銅薄膜からなるパターン状の導電層を有する導電性基板を効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】基材上に、銅ナノ粒子を含む塗布液をパターン状に印刷して印刷層を形成した後、この印刷層を焼成処理してパターン状の銅ナノ粒子焼結膜からなる導電層を形成し、次いでこの導電層上に電解銅めっきを施す導電性基板の製造方法であって、前記印刷層の焼成処理を、マイクロ波エネルギーの印加により発生する表面波プラズマに、該印刷層を晒すことにより行うことを特徴とする導電性基板の製造方法である。 (もっと読む)


薄膜(210)の表面に設けられた物質パターンを硬化せしめる装置(220)が記述されている。該装置は:− 薄膜(210)を目的平面(O)内で輸送するための搬送手段(236,238)と、− 該目的平面の第1の側に配置され、前記薄膜が透明であるような波長領域の光子線を放射する光子放射源(240)と、− 光子放射源から目的平面中に放射される光子線をマッピングするために目的平面(O)の互に相反する側に配置された第1及び第2の凹面をなす反射面(252,254)と、を含んで構成される。該装置内で、光子放射源(240)は、第1の凹面をなす反射面と目的平面の間に配置されている。光子放射源から放射された光子線は、第1及び第2の凹面をなす反射面(52,54;152,154;252,254;352,354)によって目的平面中に集束される。 (もっと読む)


【課題】ホット・プレート状の基板加熱手段を利用して、基板面側から金属ナノ粒子分散液塗布膜を加熱処理する手法を適用して、下地層に対する優れた密着性と、高い導電性を有する金属ナノ粒子焼結体厚膜層を基板上に形成する方法の提供。
【解決手段】表面に塗布膜が描画された基板を、温度Tplateに加熱されたホット・プレート状の基板加熱手段上に配置し、基板加熱手段に接する基板裏面側から加熱を行い、
塗布膜の基板面側の温度:Tbottom(t)を、150℃〜250℃の範囲であって、塗布膜中に含まれる分散溶媒の沸点Tb-solventよりも低く選択される温度とし、
塗布膜の表面温度:Ttop(t)を、温度差ΔT(t)={Tbottom(t)−Ttop(t)}≧10℃となる範囲に維持して、該塗布膜に対する加熱処理を行って、含まれている金属ナノ粒子の低温焼結を起させる。 (もっと読む)


【課題】基板との密着性に優れた金属膜を有し、且つ、湿度変化による密着力の変動が少ない表面金属膜材料、及び該表面金属膜材料を有機溶剤の使用を低減しつつ作製することができる表面金属膜材料の作製方法を提供すること。
【解決手段】(a)基板上に、シアノ基を有するポリマーからなる粒子を含有する水分散物を塗布し、乾燥する工程と、(b)前記基板上に存在する該粒子をエネルギー付与により熱融着させて、熱融着層を形成する工程と、(c)該熱融着層にめっき触媒又はその前駆体を付与する工程と、(d)該めっき触媒又はその前駆体に対してめっきを行う工程と、を有することを特徴とする表面金属膜材料の作製方法、この作製方法により得られた表面金属膜材料。 (もっと読む)


【課題】 金属微粒子の分散液を用いて基材に印刷し、この印刷物を加熱し金属微粒子を焼結させる導電パターン形成方法は、耐熱性の低い樹脂フィルムを基材として使用する場合、金属微粒子の焼結時に基材が溶融し、変形し、また、変色することがあり、その上、金属微粒子の焼結時間を短縮することが困難となっていた。
【解決手段】金属又は金属化合物の微粒子を分散させた分散液を用いて非導電性の基材にパターン印刷して作製した印刷物100を予め準備する。そして、この印刷物100は、マイクロ波表面波プラズマを発生させるパターン形成装置の処理室11内でプラズマに晒し、パターン印刷物の金属微粒子を焼結させて導電性パターンを形成する構成としてある。 (もっと読む)


【課題】電気化学センサー用電極として、電極上へ滴下した液の不必要な拡がりを起こさない電気化学センサー用プレナー型電極を提供する。
【解決手段】基材上に導電性パターンE1、E2を形成した材料において、基材の導電性パターン形成面の導電性パターン部分以外の表面Bにフッ素系界面活性剤を含有することを特徴とする導電性材料を用いることにより、電極上へ滴下した液の不必要な拡がりを起こさない電気化学センサー用プレナー型電極を提供することである。 (もっと読む)


【課題】基材として耐熱性の低い材料を用いることができ、実用上十分な導電性を有し、かつ基材と導電性薄膜の密着性が高い導電性基板及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】基材上に導電性薄膜を有する導電性基板の製造方法であって、基材にアゾール基を官能基として有するシランカップリング剤を塗布する工程、金属又は金属化合物の微粒子の分散液を印刷する工程、及び焼成する工程を有する導電性基板の製造方法及び該製造方法により得られる導電性基板である。 (もっと読む)


【課題】耐熱性が低い基材上に、ばらつきが少なく、電気抵抗がほぼ均一で、かつ、低抵抗化を実現した配線を製造する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】基材上に配置された金属粒子を含む塗布膜に電流を流すことにより前記塗布膜を焼成し、前記金属粒子から形成された配線を得る配線の製造方法が提供される。この製造方法では、前記金属粒子が、金、銀、白金、銅、鉄、パラジウム、スズ、ニッケル、アルミニウム、ジルコニウム、チタンおよびタングステンの金属群から選択された1種の金属、または、前記金属群から選択された2種以上の合金であるのが好ましい。 (もっと読む)


【課題】基材として耐熱性の低い材料を用いることができ、かつ実用上十分な導電性を有する導電性基板及び該導電性基板を高い生産性で製造する方法を提供すること。
【解決手段】基材上に金属又は金属化合物の微粒子の分散液を印刷し、焼成してなる導電性基板の製造方法であって、金属又は金属化合物の微粒子の平均一次粒子径が1〜100nmであり、焼成を電磁誘導加熱により行うことを特徴とする導電性基板の製造方法、及び該製造方法により得られる導電性基板である。 (もっと読む)


本発明は、微粒子と分散剤を含む組成物の層を基板に適用し、層を帯電ガスで処理して、分散剤を層から除去し、誘導加熱して、微粒子の機能結合を形成することにより、微粒子の薄層を基板に形成する方法である。 (もっと読む)


【課題】導電性材料を含むインクにより基板上に形成された回路を、基板や回路に熱影響を及ぼすことなく簡便かつ確実に乾燥焼成でき、生産性に優れた電子回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】電子回路基板の製造方法は、導電性材料を含むインクを用いて基板上に回路を形成する工程と、該基板が熱変形する温度未満の温度で該回路を形成した基板全体を予備加熱処理する工程と、フラッシュランプを用いた光照射により該形成された回路を加熱焼成する工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】導電性材料を含むインクにより基板上に形成された回路を、基板や回路に熱影響を及ぼすことなく簡便かつ確実に乾燥焼成でき、生産性に優れた電子回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】電子回路基板の製造方法は、導電材料を含むインクでインクジェットにより基板上に回路を描く工程と、該基板が熱変形する温度未満の温度で該回路を形成した基板全体を予備加熱処理する工程と、該形成された回路をフラッシュ光照射により加熱焼成する工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】基材として耐熱性の低い材料を用いることができ、実用上十分な導電性を有し、かつ基材と導電性薄膜の密着性が高い導電性基板を提供すること。
【解決手段】基材上に導電性薄膜を有する導電性基板であって、該導電性薄膜の少なくとも最表面は金属微粒子が融着しており、該導電性薄膜の少なくとも基材と接する面は微粒子が粒子形状を維持することを特徴とする導電性基板である。 (もっと読む)


【課題】 比較的低温で硬化し、硬化後において、比較的低い内部抵抗値を示すことができる導電性ペーストの提供。還元剤を使用することに伴う貯蔵安定性の低下、硬化後の腐食およびマイグレーション発生等を防止することができる導電性ペーストの提供。
【解決手段】 この導電性ペーストは、硬化性樹脂、硬化剤成分、金属粒子、カーボンナノチューブおよび粘度調整剤を所定の割合で含んでなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、ベースフィルム300の熱変形及び熱分解を最小化し、優れた配線310の焼結過程を提供することができ、工程時間を短縮し、接着強度が優れた印刷回路基板400を提供することができる印刷回路基板400の配線形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の印刷回路基板400の配線形成方法は、ベースフィルム300を準備する段階と、金属ナノ粒子を含有するインクを前記ベースフィルム300に印刷して配線310のパターンを形成する段階と、前記配線310のパターンが形成されたベースフィルム300を誘導加熱して配線310を形成する段階と、を含み、誘導加熱方式を用いることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 絶縁層の比誘電率を増加せることなく、マイクロ波加熱による焼成が可能なセラミック配線基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 内部配線導体2、ビアホール導体3および表面配線導体4,5は、Ag系、Cu系、Pd系、Ptなどの金属導体に加えて、絶縁層よりも比誘電率の高い材料から成る添加剤を含むように構成されている。添加剤の比誘電率は7以上が好ましく、具体的には、比誘電率が高いSiC、TiO、ZrO、MgO、AlN、Cr、ZnOおよびSiから選ばれる1種または2種以上を用いることができる。これらの中でもSiC、TiO、ZrO、MgO、Cr、ZnOは、少ない添加量で比誘電率を高くすることができるので好ましい。 (もっと読む)


【課題】基材として耐熱性の低い材料を用いることができ、かつ実用上十分な導電性を有する導電性基板及び該導電性基板を高い生産性で製造する方法を提供すること。
【解決手段】基材上に金属微粒子分散液を印刷し、焼成してなる導電性基板の製造方法であって、該金属微粒子分散液は平均粒子径1〜100nmの金属微粒子を分散せしめたものであり、該焼成は300MHz〜300GHzの電磁波の照射により行うことを特徴とする導電性基板の製造方法、及び基材上にパターニングされた導電性薄膜を有する導電性基板であって、基材がプラスチック、ガラス、又は紙であり、導電性薄膜の主成分が金属でありかつ気孔率が3〜30%であることを特徴とする導電性基板である。 (もっと読む)


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