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Fターム[5E346AA25]の内容

多層プリント配線板の製造 (97,916) | 多層の形状、構造 (21,562) | 基板と基板・層相互の形状、構造が特定されたもの (1,912) | 基板と基板 (1,426) | 熱膨張性に関するもの (181)

Fターム[5E346AA25]に分類される特許

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【課題】低熱膨張率を維持しつつ剛性を確保することができるビルドアップ基板を提供する。
【解決手段】第1絶縁層21には繊維23が埋め込まれる。繊維23の働きで第1および第2絶縁層21、22の熱膨張率は低く抑えられる。第1および第2絶縁層21、22の熱膨張率は導電ランド15の熱膨張率に合わせ込まれる。ビルドアップ基板11で応力の発生は低減される。しかも、繊維23の働きでビルドアップ基板11の剛性は高められる。加えて、第1絶縁層21の表面に積み重ねられる第2絶縁層22は樹脂材料からなる。第2絶縁層22の表面で繊維23の露出は確実に回避される。ビア16および導電ランド15の形成時、たとえ樹脂材料および繊維23の界面に沿って第1絶縁層21内にめっき液が染み込んでも、第2絶縁層22の表面にめっき液の到達は回避される。ビア16とビア16に本来接続されてはいけない導電パターンとの間で導通は確実に回避される。 (もっと読む)


【課題】厚みの増大を抑制しつつ、変形を低減できる多層プリント配線板を提供する。
【解決手段】多層プリント配線板1は、絶縁性樹脂層11と、絶縁性樹脂層11上に接着された電子部品13と、絶縁性樹脂層11上に接着されたスペーサ14と、補強部材16と、電子部品13及び補強部材16の周りの空隙に設けられた樹脂を含む層間接着層12と、接着層上に設置された絶縁性樹脂層21とを備えている。補強部材16は、形状記憶合金からなり、平面視にて電子部品を囲繞する。補強部材16は、スペーサ14に埋め込まれている。 (もっと読む)


【課題】本発明は、アディティブ法の多層配線板の製造方法における、部品実装のリフロー工程などの熱履歴による多層配線板の膨れの緩和およびレーザービア加工性向上による歩留まりの低下を抑制することである。
【解決手段】導体回路と絶縁性樹脂層を組合せてなる多層配線板の製造方法であって、少なくとも、(1)導体回路が形成された回路基板の導体回路面とキャリアフィルム付き絶縁性樹脂シートの絶縁性樹脂面とが対峙するように張り合わせて熱圧着する工程、(2)該キャリアフィルム付き絶縁性樹脂シートのキャリアフィルムをつけたままで熱処理し、絶縁性樹脂の硬化度を80%以上95%以下とする工程、(3)絶縁性樹脂にレーザー照射することによりビアホールを形成する工程、(4)その後、さらに熱処理を行うことにより絶縁性樹脂を硬化する工程、を含むことを特徴とする多層配線板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】常温から実装領域温度の範囲において面方向の熱膨張率の上昇を、実装時の多層プリント配線板の反りを低減させるプリプレグ、積層板、多層プリント配線板、及び半導体装置を提供する。
【解決手段】(A)ナフタレン環を有する特定の多官能エポキシ樹脂、(B)フェノールノボラック型シアネート樹脂、(C)硬化剤、(D)無機充填材を必須成分とする樹脂組成物を基材に含浸してなることを特徴とするプリプレグ。該硬化剤は、イミダゾール化合物であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】反りの発生を抑制することができる極薄化された高密度配線の配線基板およびその製造方法を提供することである。
【解決手段】上面から下面にかけてコア用の配線導体2が配設されたコア用の絶縁基板3の上下面に、それぞれビルドアップ用の配線導体5が配設されたビルドアップ用の第1の絶縁層11と、第2の絶縁層15とをこの順に積層し、絶縁基板3および第1の絶縁層11は、いずれも補強材を含有し、第2の絶縁層15は補強材を含有しないと共に、絶縁基板3の厚さをa、各第1の絶縁層11の厚さをb、各第2の絶縁層15の厚さをcとしたとき、前記a,bおよびcが、a>b>cの関係を有する配線基板10であり、その製造方法である。 (もっと読む)


【課題】半導体素子を搭載するための素子搭載用基板、およびこの素子搭載用基板に半導体素子を搭載してなる半導体モジュールの製造時間を短縮する。
【解決手段】素子搭載用基板100は、非晶質のSi含有組成物からなる基材10、基材10の一方の主表面に設けられた第1接着層12、および基材10の他方の主表面に設けられた第2接着層14を含む基板構成単位15と、第1接着層12の基材10と反対側の主表面に設けられた第1配線層16と、第2接着層14の基材10と反対側の主表面に設けられた第2配線層18と、基材10、第1接着層12、および第2接着層14を貫通するビアホール19に設けられ、第1配線層16と第2配線層18とを電気的に接続するビア導体20と、を備える。 (もっと読む)


【課題】ハロゲン原子を含まず、熱膨張係数が低く、且つ、難燃性を有する多層プリント配線板の材料として信頼性を有する多層プリント配線板用接着フィルムを提供する。
【解決手段】支持フィルム上に、(A)1分子中に2個以上のエポキシ基を有し、常圧下、温度20℃において液状であるエポキシ樹脂、(B)1分子中に3個以上のエポキシ基を有し、常圧下、温度20℃において固体である芳香族系エポキシ樹脂、(C)ビス(アミノフェニル)フェニルホスフェート構造を有するアミノ基含有リン酸エステル化合物、(D)有機高分子成分及び(E)無機充填材を含有する樹脂組成物からなる樹脂組成物層が形成されてなる多層プリント配線板用接着フィルム。 (もっと読む)


【課題】本発明は、電気的信頼性の優れた部品内蔵基板を提供することを目的とする。
【解決手段】平面方向の熱膨張率が厚み方向の熱膨張率よりも小さい第1フィルム層5aと、第1フィルム層5a上に形成される導電層8と、導電層8上に形成され、平面方向の熱膨張率が第1フィルム層5aの平面方向の熱膨張率よりも大きい絶縁層6と、絶縁層6内に設けられ、導電層8と接続される電子部品7と、絶縁層6上に形成され、平面方向の熱膨張率が厚み方向の熱膨張率よりも小さい第2フィルム層5bと、を備えたことを特徴とする部品内蔵基板2。 (もっと読む)


【課題】応力の発生を抑制することができるコア基板およびプリント配線板を提供する。
【解決手段】コア基板12では、コア層13は、炭素繊維に樹脂を含浸して形成される。例えばコア層13の温度上昇時に樹脂はコア層13の厚み方向に熱膨張する。コア層13は1対の絶縁層22、23で挟み込まれる。絶縁層22、23にはガラス繊維が含まれることから、絶縁層22、23は比較的に高い強度を有する。その結果、絶縁層22、23は厚み方向にコア層13の熱膨張を抑制する。コア基板12内で熱応力の発生は抑制される。その一方で、絶縁層を備えないプリント配線板では、その厚み方向にコア層の熱膨張は抑制されない。大きな熱応力が発生してしまう。 (もっと読む)


【課題】耐熱性や難燃性と高接続信頼性を有する低熱膨張係数のエポキシ樹脂組成物を実現させた多層プリント配線板用支持体付き絶縁フィルム及び多層プリント配線板を提供する。
【解決手段】(A)多官能型エポキシ樹脂、(B)フェノール性水酸基含有ポリアミドイミド及び(C)無機フィラーを含有する絶縁樹脂組成物の半硬化状態のフィルムが支持体表面に形成されてなる多層プリント配線板用支持体付き絶縁フィルム及び、片面または両面に内層回路を有する基板の内層回路上に絶縁樹脂層及び回路が逐次積層されてなり、絶縁樹脂層が前記絶縁樹脂組成物の硬化物で、熱膨張係数が40ppm /K以下である多層プリント配線板である。 (もっと読む)


【課題】 高温高湿度下においてもポリイミドフィルムと無機基板との接着を維持でき、無機基板との線膨張係数差が小さく、接続信頼性が高い多層基板を提供する。
【解決手段】 ポリイミドフィルムが熱可塑性樹脂層を介して無機基板に積層された多層基板において、前記熱可塑性樹脂層がフッ素樹脂及びサーモトロピック型の液晶高分子を含有し、該熱可塑性樹脂層中におけるフッ素樹脂の含有率が20〜80質量%、サーモトロピック型の液晶高分子の含有率が20〜80質量%である前記熱可塑性樹脂層が少なくともフッ素樹脂と、サーモトロピック型の液晶高分子とを主成分とする樹脂であることを特徴とするポリイミド多層基板。 (もっと読む)


【課題】4層以上の配線パターン導体層が積層された多層プリント配線板のスルーホールまたはインナーバイアホールのめっき膜に対して、冷熱衝撃試験での導通信頼性を高め、自動車のエンジンルーム等の過酷な温度環境下においても高い信頼性の得られる厚肉導体を用いた金属コア多層プリント配線板を提供する。
【解決手段】外層の導体層11及び19の厚さをL1及びL9とし、金属コア層15の厚さをL5とし、内層の導体層13及び17の厚さをL3及びL7とし、絶縁層12、14、16、及び18の厚さをL2、L4、L6、及びL8としたとき、金属コア多層プリント配線板10は、(条件1) L1、L9 > L2、L4、L6、L8 と、(条件2) L3、L5、L7 < L2、L4、L6、L8 の2つの条件を満足する。 (もっと読む)


【課題】スルーホールのめっき膜に対して、高温、低温の温度サイクルの厳しい環境下においても導通信頼性の高い、厚肉導体を用いた金属コア多層プリント配線板を提供する。
【解決手段】外層の配線パターン導体層14及び15に設けられたスルーホール21のランド幅をWとし、スルーホール21の銅めっき膜25と内層の配線パターン導体層11の内壁部11aとの間の距離である内層絶縁離隔をSとするとき、金属コア多層プリント配線板10は、S≧W×6を満足する。 (もっと読む)


本発明は多層基板の応力をバランスする方法及び多層基板を提供する。本発明の多層基板は第一金属層(102)と、第二金属層(112,114)とを含む。第一金属層(102)の第一面積が第二金属層(112,114)の第二面積より大きい。第二冗長金属層(202,204,206)は第二金属層(112,114)がある同一層に設けられ、第二冗長金属層(202,204,206)の面積に第二面積を加えた面積は、第一面積に相当する。或いは、第一冗長スペース(402,404,406、408,410)は第一金属層(102)の中に設けられ、第一金属層の第一面積から第一冗長スペースの面積を減じた面積は、第二面積に相当する。多層基板は第一誘電層(522)と第二誘電層(524)とを含む。第一誘電層(522)は開口(502)を有する場合に、第二誘電層(524)に第一誘電層(522)の開口(502)の位置に冗長開口(602)が設けられる。本発明によって、多層基板の応力をバランスすることができ、多層基板の中に異なる金属層または誘電層の占める面積及び位置を均質化するために、多層基板の変形を予防することができる。
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【課題】 プリント配線板の反りを小さいものとし、層状コンデンサにクラックが発生することを防止しつつ、絶縁信頼性を高めることができる、プリント配線板を提供することを目的とする。
【解決手段】 セラミック製の高誘電体層と前記高誘電体層を挟む第1電極と第2電極とからなるコンデンサを内蔵し、最上層の樹脂絶縁層に形成されている複数の第1パッドと複数の第2パッドとからなる半導体素子搭載用パッドが形成されており、前記半導体素子と前記プリント配線板の間に充填されるアンダーフィル樹脂で覆われる被覆領域の大きさが前記高誘電体層が形成されている領域より大きく、前記コンデンサは前記アンダーフィル被覆領域の直下に位置していることを特徴とするコンデンサ内蔵プリント配線板を提供する。 (もっと読む)


【課題】チップ部品の周りの絶縁基材に亀裂が発生し難い多層回路基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】熱可塑性樹脂からなる樹脂フィルムが相互に接着されて絶縁基材1が形成され、該絶縁基材1中にチップ部品3が埋め込まれてなる多層回路基板100において、基板厚さ方向(Z方向)における熱膨張率が絶縁基材1の熱膨張率とチップ部品3の熱膨張率の中間にある中間絶縁材5a、5bが、チップ部品3の基板厚さ方向(Z方向)における側面に当接するようにして配置されてなる多層回路基板100とする。 (もっと読む)


【課題】内蔵された電気素子と配線基板に設けられた配線回路層との接続信頼性に優れた電気素子内蔵配線基板を得る。
【解決手段】有機材料により形成された複数の絶縁層を有する絶縁基板と、複数の誘電体層と内部電極とを積層してなる積層体と、該積層体の上面に設けられ、前記内部電極に電気的に接続された外部電極と、を有する電気素子と、を備えた電気素子内蔵配線基板において、前記複数の絶縁層は、前記電気素子が配置されたキャビティを有する第1の絶縁層と、該第1の絶縁層の上面側に配置され、前記電気素子の前記外部電極に電気的に接続されたビアホール導体を有する第2の絶縁層と、前記第1の絶縁層の下面側に配置された第3の絶縁層と、を備え、前記電気素子の前記外部電極が、該外部電極上に位置する前記ビアホール導体に対して前記電気素子の上面で直接接続されていることを特徴とする電気素子内蔵配線基板。 (もっと読む)


【課題】高流動性と硬化物の高絶縁信頼性、高接続信頼性及び低熱膨張係数を実現させた多層プリント配線板用絶縁樹脂組成物、支持体付き絶縁フィルム、多層プリント配線板を提供する。
【解決手段】(A)多官能型エポキシ樹脂、(B)リン含有エポキシ樹脂、(C)リン含有フェノール樹脂、(D)フェノール性水酸基含有ポリアミドイミド及び(E)無機フィラーを特定の組成で含有する多層プリント配線板用絶縁樹脂組成物、前記絶縁樹脂組成物が半硬化状態で支持体上に形成されている多層プリント配線板用支持体付き絶縁フィルム及び片面または両面に内層回路を有する基板の内層回路上に絶縁樹脂層及び回路が逐次積層されてなり、該絶縁樹脂層が前記絶縁樹脂組成物の硬化物で、熱膨張係数が40ppm /K以下である多層プリント配線板である。 (もっと読む)


【課題】異種セラミック同士が多層化された構造を有しながら、焼成によるデラミネーション及び反り等の不具合が抑制されたセラミック多層部品を提供する。
【解決手段】絶縁体部110と、絶縁体部内に配設された複数の電極層120と、を備え、絶縁体部110は、低誘電率層111及び113と、高誘電率層112と、を有し、低誘電率層は、低誘電率層ガラス及び低誘電率層無機フィラーを含有し、高誘電率層は、高誘電率層ガラス及び高誘電率層無機フィラーを含有するセラミック多層部品であって、低誘電率層ガラスと高誘電率層ガラスとは同一組成系であり、セラミック多層部品全体の厚さをDとした場合に高誘電率層112は実装面d1側からD/2の範囲に配設されており、且つ、絶縁体部110のうちの実装面d1側の最外層に厚さDに対して3.5%以上の低誘電率層113を備える。 (もっと読む)


【課題】反り等の変形が発生することを防止でき、もしくはその変形量を大幅に低減することが可能な配線基板およびその製造方法を提供し、電子部品実装工程において、配線基板の変形に起因して発生する搬送不良、実装不良を防止する。
【解決手段】本発明に係る配線基板は、コア層の少なくとも一面側に、該コア層と熱膨張率の異なる一層もしくは複数層が積層され、該積層された層の表面層上に複数の電子部品が実装される複数の実装領域が所定の間隔を置いて形成されている配線基板であって、前記コア層が、前記実装領域ごと、もしくは複数の実装領域にわたる実装領域群に対応して分割され、且つ互いに隣接するコア層との隙間には、前記積層された層を構成する絶縁材料が充填されている。 (もっと読む)


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