説明

Fターム[5E346CC12]の内容

多層プリント配線板の製造 (97,916) | 多層の材料・材質 (18,988) | 絶縁材料 (10,015) | 合成樹脂系 (5,654) | ポリエステル樹脂系 (206)

Fターム[5E346CC12]に分類される特許

21 - 40 / 206


【課題】平坦性によるインピーダンス整合及び設計自由度が高く、高密度実装が可能な多層配線基板及びその製造方法並びに半導体装置を提供する。
【解決手段】多層配線基板10は、基板11の上部に絶縁層12を備え、これと対称に基板11の下部に絶縁層13を備える。これらの絶縁層は、ポリイミド樹脂により形成されており、基板11に対してキャスティングによりビルドアップして形成される。ビルドアップされた絶縁層12,13のいずれか又は両方が、基板の流れ方向であるMD方向と、基板の垂直方向であるTD方向とにおいて強度を同じに設定している。 (もっと読む)


【課題】フレキシブルデバイスを製造する方法を提供し、フレキシブル基板を分離する方法、特にフレキシブル基板をリジッドキャリアから分離する方法を更に提供する。
【解決手段】リジッドキャリアを用意するステップと、リジッドキャリア上に所定のパターンの接着層21を形成するステップと、リジッドキャリア上にフレキシブル基板層を形成するステップであり、フレキシブル基板層の一部はリジッドキャリアと接触して第1の接触界面を形成し、フレキシブル基板層の残部分が接着層と接触して第2の接触界面を形成するステップと、第1の接触界面の反対側のフレキシブル基板層の表面上に少なくとも1つのデバイスを形成するステップと、第1の接触界面を介してリジッドキャリアからフレキシブル基板を分離するステップとを含む。 (もっと読む)


【課題】内層回路の埋め込み性の向上と、厚み精度の向上との両立を図る。
【解決手段】ビルドアップ用プリプレグ1は、繊維基材2と、繊維基材2の両面に設けられた樹脂層3、4とを備え、IPC−TM−650 Method 2.3.17に準拠し、171±3℃、1380±70kPaの条件で5分間加熱加圧して測定された樹脂流れが、15重量%以上50重量%以下である。 (もっと読む)


【課題】内層回路の埋め込み性の向上と、厚み精度の向上との両立を図る。
【解決手段】ビルドアップ用プリプレグ1は、繊維基材2と、繊維基材2の両面に設けられた樹脂層3、4とを備え、IPC−TM−650 Method 2.3.17に準拠し、171±3℃、1380±70kPaの条件で5分間加熱加圧して測定された樹脂流れが、15重量%以上50重量%以下であり、対向する一対のゴム板によりプリプレグ1を挟んだ状態で、120℃、2.5MPaの条件下に加熱及び加圧したとき、平面視で繊維基材2の外縁からはみ出る樹脂層3、4の重量が、樹脂層3、4の全体に対して、5重量%以下である。 (もっと読む)


【課題】高密度で高い配線収容性を備え、層間の電気的接続が安定した両面あるいは多層構造の回路基板を提供する。
【解決手段】内層用回路基板と外層回路が層間接続用絶縁基材の導通孔を介して電気的に接続され、前記層間接続用絶縁基材には選択的に硬化部が形成されていることを特徴とする。これにより、回路基板の製造過程でのバラツキや、絶縁基材あるいは層間接続用絶縁基材の寸法変化等を最小にし、多層構造の回路基板の位置決め積層精度を向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】高密度で高い配線収容性を備え、層間の電気的接続が安定した両面あるいは多層構造の回路基板を提供する。
【解決手段】内層用回路基板と外層回路が層間接続用絶縁基材の導通孔を介して電気的に接続され、前記層間接続用絶縁基材には選択的に硬化部が形成されていることを特徴とする。これにより、回路基板の製造過程でのバラツキや、絶縁基材あるいは層間接続用絶縁基材の寸法変化等を最小にし、多層構造の回路基板の位置決め積層精度を向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】リジッド部とフレキシブル部を構成する基板材料が同じでありながら、高い硬度を有するリジッド部と、屈曲性が良好で配線抵抗が低いフレキシブル部とを備えたリジッドフレキシブル基板、および、その製造方法を提供すること。
【解決手段】可撓性の絶縁性基板と、該絶縁性基板の少なくとも一方の表面に形成された導体配線層とを有するプリント基板を用いて作製され、導体配線層の密度が低いフレキシブル部と、該フレキシブル部よりも導体配線層の密度が高いリジッド部を有するリジッドフレキシブル基板であって、前記リジッド部の表面の少なくとも一部に平面電極を備え、前記平面電極が、Snを含有する第1金属と該第1金属よりも高い融点を有する第2金属との反応により生成する300℃以上の融点を有する金属間化合物を含み、前記第2金属の表面に最初に生成する金属間化合物の格子定数と前記第2金属の格子定数との差が、前記第2金属の格子定数に対して50%以上であることを特徴とする、リジッドフレキシブル基板。 (もっと読む)


【課題】設計の自由度を向上させることができる多層プリント配線板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】多層プリント配線板の製造方法は、スリット7が形成されたプリント配線板と他のプリント配線板を積層して、複数層の第1の導体配線3を有する多層構造の配線板を製造する工程と、前記スリット7を介して、前記プリント配線板の一部を除去することにより、前記複数層の第1の導体配線3の最外層以外の前記第1の導体配線に形成された第1の接続部9を外部に露出させて、該第1の接続部9を前記多層構造の配線板の本体から外方に向けて引き出す工程と、前記第1の接続部9に、フレキシブルプリント配線板が有する第2の導体配線12に形成された第2の接続部14を接続する工程とを少なくとも含む。 (もっと読む)


【課題】高速伝送を実現しつつも設計が容易なプリント配線板の構造を提供する。
【解決手段】
第1絶縁層10の一方主面に形成されたグランド層30と、他方主面に形成された信号線41と、第1絶縁層10の他方主面に形成され、信号線41を挟んで並設された2本の導電線42と、信号線41と導電線42とを覆う第2絶縁層20と、を備え、第2絶縁層(絶縁層A)20の誘電正接A>第1絶縁層(絶縁層B)10の誘電正接Bである場合は、関係式1:比誘電率B×信号線41の幅(W41)÷第1絶縁層(絶縁層B)10の厚さ(T10)>比誘電率A×{信号線41の厚さ(T41)÷信号線41と一方の導電線42aとの距離(S1)+信号線41の厚さ(T41)÷信号線41と他方の導電線42bとの距離(S2)+信号線41の厚さ(T41)÷一対の信号線(41a、41b)間の距離(S3)×2)}を満たす。 (もっと読む)


【課題】本発明は、実装構造体の電気的接続信頼性を向上させる要求に応える配線基板およびその実装構造体を提供するものである。
【解決手段】本発明の一形態にかかる配線基板は、交互に積層された複数の絶縁層13および導電層14を備え、複数の絶縁層13は、最外層に位置する第1絶縁層13aと、該第1絶縁層13aに接している第2絶縁層13bとを有し、導電層14は、第1絶縁層13aと第2絶縁層13bとの間に配された接続パッド18を有し、第1絶縁層13aは、厚み方向に貫通して接続パッド18を露出する貫通孔Pを具備し、接続パッド18は、貫通孔Pの開口部に向かって突出した突起部20とを具備する。 (もっと読む)


【課題】層間接続を安定させ、信頼性の高い配線板、電子部品内蔵基板、配線板の製造方法及び電子部品内蔵基板の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】配線板又は電子部品内蔵基板は、複数のフィラーを含有する樹脂を有する基板と、基板に設けられた少なくとも1つの配線と電気的に接続されるビアと、を含み、ビアは、基板よりも径方向内側に、複数のフィラー間に金属が設けられている混合領域を有する。そして、配線板又は電子部品内蔵基板の製造方法は、複数のフィラーを含有する樹脂を有する基板を準備する手順と、基板にビア形成穴を形成する手順と、少なくともビア形成穴の内壁をアッシング処理する手順と、ビア形成穴の内壁を無電解めっきする手順と、を有する。 (もっと読む)


【課題】熱変化や外力等に起因した応力による性能劣化を抑制する。
【解決手段】配線板10が、基板を貫通する開口部R100に配置され、複数の第1パッド200aを有する電子部品200と、基板上及び電子部品200上に形成される積層部と、積層部上に形成される複数の第1外部接続端子321b及び複数の第2外部接続端子322bと、を有する。第1外部接続端子321bは、第1パッド200aの直上を避けつつ電子部品200の直上に形成され、且つ、第2外部接続端子322bは、基板の直上に形成され、1つの主面に投影した場合において、第1外部接続端子321bは、第1パッド200aに囲まれるように配置され、第1パッド200a及び第1外部接続端子321bは、第2外部接続端子322bに囲まれるように配置され、積層部における基板に最も近い絶縁層を構成する材料が、開口部R100における基板と電子部品200との隙間に充填される。 (もっと読む)


【課題】多層配線の層間導電路を、印刷工程により作製可能な多層配線体を提供する。
【解決手段】
本発明に関する多層配線体は、基材上に形成された第1配線と、第1配線と、第1配線の上層に形成された第2配線とを接続する層間接続部と、基材上に形成され層間接続部を中心として開口を設けた第1絶縁層と、層間接続部を中心として周囲に1つあるいは複数のパターンとして形成され、少なくとも一部を開口内に設けている第2絶縁層とを備え、第2配線は前記層間接続部と第1絶縁層上に形成されていることを特徴とする多層配線体。 (もっと読む)


【課題】粗化処理又はデスミア処理された硬化物の表面の表面粗さを小さくすることができ、該硬化物の表面に微細な配線を形成できるエポキシ樹脂材料を提供する。
【解決手段】本発明に係るエポキシ樹脂材料は、エポキシ当量が300以下であるエポキシ樹脂と硬化剤と無機フィラーとを含む。上記エポキシ樹脂材料中の上記無機フィラーを除く成分を配合した配合物を、80℃の5重量%水酸化ナトリウム水溶液に20分間浸漬したときに、無機フィラーを除く成分を配合した配合物の硬化物の重量減少が0.2重量%以下であり、かつ、上記無機フィラーを80℃の5重量%水酸化ナトリウム水溶液に2分間浸漬したときの無機フィラーの重量減少が1.0重量%以上8.0重量%以下である。 (もっと読む)


【課題】ICチップや母基板との接続部分におけるクラックの発生を防止することにより、信頼性を向上させることができる多層配線基板を提供すること。
【解決手段】多層配線基板10は、樹脂絶縁層21〜27及び導体層28を交互に積層して多層化した積層構造体30を有する。樹脂絶縁層21〜27は、第1の樹脂絶縁層21,25,27と、第1の樹脂絶縁層21,25,27よりも多量の無機材料29を含有しかつ熱膨張係数が小さい第2の樹脂絶縁層22〜24,26とを含んでいる。そして、積層構造体30を厚さ方向に切断した切断面において、領域A2に占める第2の樹脂絶縁層22,23,24の厚さの比率が、領域A1に占める第2の樹脂絶縁層24,26の厚さの比率よりも大きくなっている。なお積層構造体30には、第2主面32側が凸となる反りが生じている。 (もっと読む)


【課題】薄型で剛性に優れた、電子部品を内蔵する配線基板を提供する。
【解決手段】電子部品を内蔵する配線基板であって、ベース絶縁層と、このベース絶縁層の上面側に設けられた台座パターンと、この台座パターン上の電子部品と、この電子部品の外周を取り囲む補強絶縁層と、電子部品が内側に配置された開口を持つコア絶縁層と上面側コア配線と下面側コア配線を含み、補強絶縁層上に設けられたコア配線構造層と、電子部品を埋め込むようにコア配線構造層上に設けられた埋め込み絶縁層と、電子部品と電気的に接続された基板上面側の第1配線と、基板下面側の第2配線とを含み、台座パターンの外縁は電子部品の外縁より外側に位置し、補強絶縁層は第1補強繊維を含み、この第1補強繊維は台座パターンの外縁より外側の周辺領域から台座パターンの外縁の直上にわたって配置されている。 (もっと読む)


【課題】高精細かつ密着性に優れた金属配線を製造できると共に、ビアの接続信頼性に優れた多層配線基板を高歩留まりで製造することができる、生産性に優れた多層配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】(A)金属配線を備える配線基板の表面に絶縁層を形成する工程と、(B)ビアホールを形成する工程と、(C)デスミア処理を行う工程と、(D)仮支持体と、仮支持体上にめっき触媒またはその前駆体と相互作用を形成する官能基、及び、重合性基を含有するポリマーを含む樹脂層とを備える樹脂層形成用積層フィルムを、絶縁層上に、樹脂層とデスミア処理が施された絶縁層とが接するようにラミネートし、積層体を得る工程と、(E)前記積層体から前記仮支持体を剥離する工程と、(F)ビアホールの壁面および樹脂層にめっき触媒またはその前駆体を付与し、めっきを行う工程と、を備える多層配線基板の製造方法。 (もっと読む)


【目的】 本発明の目的は、ベース基板の反りを抑制しつつ、ダミーパターンのめっき液の消費量及びクラックの発生を低減することができる配線基板を提供する。
【構成】 配線基板100は、ベース基板110と、このベース基板110の面上に交互に積層された絶縁層120及び配線層130とを備えている。配線層130は配線領域と非配線領域を有している。前記配線領域には複数の配線パターン131が間隔をあけて設けられている。前記非配線領域には複数の正六角形のダミーパターン132が間隔を空けてハニカム状に配設されている。ダミーパターン132の間の通路133はジグザグ状である。 (もっと読む)


【課題】半導体素子をワイヤを用いて電極パッドに圧着させる際に、接続強度を十分に確保できるフレキシブル多層配線板を提供する。
【解決手段】フレキシブル多層配線板30は、第1主面M及び第1主面Mに対向する第2主面Mを備える接着剤層1Aと、接着剤層1A上に配置された、第2主面Mと接する第3主面M及び第3主面Mに対向する第4主面Mを備える低弾性率素材で形成された絶縁性基材層2Aとを有する基材10Aを有する。フレキシブル多層配線板30は、基材10Aと同様の構成を備える基材10B,10Cと、最外郭基材10Dをさらに有する。最外郭基材10Dの接着剤層1D中には、接着剤層1Dよりも弾性率が高いビア層9A,9Bが埋設されている。 (もっと読む)


【課題】LSI内蔵基板のさらなる薄型化ために、内蔵基板の配線層数を低減する。
【解決手段】内蔵されたLSIの最表面の金属パターン(端子等)を複数の任意形状とし、内蔵配線の引き出しが容易となるように、金属パターンと内蔵基板の配線層との接続部を少なくとも1つの接続部がアレイ配置から逸れた配置とする。また、一部の金属パターンはまとめて一つの大きなパターンとし、内蔵配線層との接続ビア数を低減する。 (もっと読む)


21 - 40 / 206