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Fターム[5E346EE24]の内容

多層プリント配線板の製造 (97,916) | 多層形成の方法 (8,890) | グリーンシート法型のもの (1,694) | 積層法が特定されたもの (797) | シート積層法型 (609)

Fターム[5E346EE24]に分類される特許

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【課題】コイル内蔵基板の内蔵コイルの重畳特性を向上させると共に、上面や下面に搭載された半導体チップやチップ部品に対するコイル用導体から発生する磁力線の影響を大幅に抑制することができるコイル内蔵セラミック基板および電子装置を提供する。
【解決手段】コイル内蔵基板は、内部にコイル導体4が埋設されているフェライト層2、3を、各々が非磁性フェライト層により形成されている一対の絶縁層1で挟持し、半導体チップまたはチップ部品を搭載する搭載用電極に電気的に接続するための電極パッド7を絶縁層1の上面に形成し、外部電気回路に電気的に接続するための電極パッド8を絶縁層1の下面に形成するとともに、絶縁層1とフェライト層2、3との間に、コイル導体4と対向する部分を有するシールド層9を介在させて成る。 (もっと読む)


【課題】表面電極と、内部電極や内部回路などの内部導体との間の絶縁性を確保することが可能で、信頼性の高い多層セラミック基板を確実に製造できるようにする。
【解決手段】セラミック積層体20の焼成工程で、セラミック積層体の、表面電極パターン11が形成された主面と、収縮抑制層3との間に、セラミック積層体を構成する第1のセラミックグリーン層1よりも収縮開始温度が低い第2のセラミックグリーン層2を配置した状態で焼成を行った後、第2のセラミックグリーン層が焼成されてなる第2のセラミック層と、収縮抑制層とを除去する。
第2のセラミックグリーン層として、収縮開始温度が、第1のセラミックグリーン層の収縮開始温度よりも20℃以上低いものを用いる。
第2のセラミックグリーン層に含まれるセラミック材料としては、ガラス材料のみからなるものを用いる。
また、前記ガラス材料は、結晶化しないガラスからなるものを用いる。 (もっと読む)


【課題】マイグレーション現象の発生を抑制し、導通不良の発生が防止された信頼性の高い配線基板を提供すること。
【解決手段】本発明の配線基板は、金属粒子と前記金属粒子が分散する分散媒とを含む導体パターン形成用インクを液滴吐出法により吐出して形成される導体パターンを備えた配線基板であって、複数のセラミックス基板が積層した積層基板と、隣接する前記セラミックス基板同士の間に埋設された前記導体パターンと、前記積層基板の前記導体パターンの周囲の一部に形成された空隙とを有することを特徴とする。導体パターンから空隙までの距離は、前記導体パターンの平均厚さの0.3倍以上5倍以下であることが好ましい。また、空隙の平均厚さは、前記導体パターン平均厚さの0.5倍以上3倍以下であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】十分に優れた強度を有するガラスセラミックス基板及び配線基板を提供すること。
【解決手段】ガラスと該ガラス中に分散された板状アルミナフィラーとを含有し、板状アルミナフィラーのアスペクト比が20以上であり、板状アルミナフィラーの(104)結晶面のX線回折ピークに対する(006)結晶面のX線回折ピークの強度比が1.0以上であるガラスセラミックス基板11a〜11d、及びガラスセラミックス基板11a〜11dと導体12,13,14を備える配線基板10である。 (もっと読む)


【課題】 ガラスセラミックグリーンシート積層体の中央付近にボイドが発生するのを抑制するとともに、配線層間の静電容量の増加を抑制しつつ、多層配線基板の熱膨張係数をシリコンの熱膨張係数に合わせた寸法精度の高い多層配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 第1のガラスセラミックグリーンシートの焼成後の厚みが前記第2のガラスセラミックグリーンシートの焼成後の厚みの1/10〜1/3となるように設定し、前記第1のガラスセラミックグリーンシートにのみSiC、TiO、ZnOおよびSiの群から選ばれる1種の高誘電率粒子を含有させるとともに、前記ガラスセラミックグリーンシート積層体の積層方向の上下層側から中央層側に向けて前記第1のガラスセラミックグリーンシートに含まれる前記高誘電率粒子の含有量を多くなるようにしたガラスセラミックグリーンシート積層体をマイクロ波加熱により焼成する。 (もっと読む)


【課題】ブレイクパターンが変形してブレイク不良が発生する問題を改善できるセラミック多層基板の製造方法を提供する。
【解決手段】未焼成のセラミックシートの表面にブレイクパターンを形成し、それを積層してセラミック積層体を得た後、セラミック積層体を焼成してブレイクパターンを消失させ、空隙を形成する。ブレイクパターンの形成方法として電子写真法を用いることで、粒子径の大きなトナーを使用でき、積層圧着時にブレイクパターンの潰れを抑制し、アスペクト比の大きな空隙を形成できる。そのため、ブレイク不良を改善できる。 (もっと読む)


【課題】当て板にセラミックグリーンシートをずれないように積層して固定できるセラミックグリーンシートの積層装置及びその積層方法を提供する。
【解決手段】キャリアテーブルに順次送り込まれる当て板またはセラミックグリーンシートの上側を積層ヘッドで吸引し、吸引された当て板またはセラミックグリーンシートの下側に積層ベッドを当接させて、積層ベッドに積層するセラミックグリーンシートの積層装置において、当て板に複数の係止孔が設けられると共に、積層ベッドに既に積層した当て板の上に積層ヘッドに吸引した最初のセラミックグリーンシートを位置決めして積層する時、セラミックグリーンシートを係止孔に押し込んで固定する押圧ロッドが備えられる。 (もっと読む)


【課題】本発明は多層セラミック基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ビアホール120a及び該ビアホール120aに充填された伝導性材料120bを含むビア120を介して層間接続をなして多層のセラミック層を積層してなるセラミック積層体110と、該ビアホール120aの内壁に形成された接着補助層130と、該ビア120を介して互いに電気的に接続され、該セラミック積層体110の上面及び下面に各々配設されたパッド160a、160bとを含む。 (もっと読む)


【課題】導電性ペースト内の導体粉末の二次粒子の直径に影響を受けることなく高精細な印刷が可能であり、かつ焼成時の基板反りを小さく抑えたセラミック多層回路基板を得ることのできる導電性ペーストおよびセラミック多層回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のセラミック多層回路基板の製造方法は、導電性ペーストを焼成して配線を形成する工程を含むセラミック多層回路基板の製造方法であって、配線を形成する工程に用いられる導電性ペーストは導体と分散剤とを含み、導体の含有量は、導電性ペースト全重量に対して60重量%以上90重量%以下であり、導体に対する分散剤の含有量が0.1重量%以上3.0重量%以下であって、上記導体は、電性ペーストにおいて二次凝集体を形成していることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】製造コストの増大を抑制でき、かつ、微細配線に対応可能な配線基板及びその製造方法並びに前記配線基板を有する半導体パッケージを提供する。
【解決手段】本配線基板は、積層された複数のセラミック層及び内部配線を備え、前記内部配線と電気的に接続された電極が一方の面から露出しているセラミック基板と、主面に形成された配線パターンと、一端が前記配線パターンと電気的に接続され、他端が前記主面の反対面である裏面から露出しているビアフィルと、を含む配線層を備えたシリコン基板と、を有し、前記シリコン基板の前記ビアフィルは、金属層を介して、前記セラミック基板の前記電極と接合されている。 (もっと読む)


【課題】本発明は多層セラミック回路基板の製造方法に関する。
【解決手段】本発明の一側面は、複数のセラミックグリーンシートを設ける段階と、上記複数のセラミックグリーンシートのうち少なくとも1つのセラミックグリーンシートに所望のライン形状の溝部と上記溝部に連結されたビアホールを形成する段階と、上記ビアホールを導電性物質で充填して導電性ビアを形成する段階と、上記溝部を導電性物質で充填して上記導電性ビアに連結された回路ラインを形成する段階と、上記複数のセラミックグリーンシートを積層しセラミックグリーンシートの積層体を形成する段階と、上記セラミックグリーンシートの積層体を焼結する段階を含む多層セラミック回路基板の製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】
樹脂基板上に導電性ペーストを用いた配線が形成される配線基板においては、導電性ペーストを焼結させる時の熱が樹脂基板に伝熱されてしまい、樹脂基板に耐熱温度の低い材料を使用できない。さらに、焼結時の長時間の加熱により、樹脂基板の反りや機械的特性の劣化などの不具合がある。
また、樹脂基板の反りや機械的特性の劣化を防ぐために、低温で焼結を行うと、導電性ペーストの焼結が不完全で、焼結後の配線において導通の抵抗が高くなる不具合もある。
【解決手段】
配線と樹脂基板の間に、酸化物セラミックスからなる層を設ける。 (もっと読む)


【課題】製造コストの増大を抑制でき、かつ、微細配線に対応可能な配線基板及びその製造方法並びに前記配線基板を有する半導体パッケージを提供する。
【解決手段】本配線基板は、積層された複数のセラミック層及び内部配線を備え、前記内部配線と電気的に接続された電極が一方の面から露出しているセラミック基板と、主面に形成された配線パターンと、一端が前記配線パターンと電気的に接続され、他端が前記主面の反対面である裏面から露出しているビアフィルと、を含む配線層を備えたシリコン基板と、を有し、前記シリコン基板の前記裏面は、前記セラミック基板の前記一方の面にポリマー層を介して接合され、前記シリコン基板の前記ビアフィルは、前記ポリマー層を貫通し、前記セラミック基板の前記電極と直接接合されている。 (もっと読む)


【課題】大きな引張応力などを生じさせ得る金具を基板本体に取り付けても、外力にて破壊しにくく耐久性に優れた多層セラミック基板を提供する。
【解決手段】複数のセラミック層s1〜s8、および該セラミック層s1〜s8間に形成された導体層p1〜p7を含む基板本体2と、該本体2の裏面4に形成したメタライズ層7の上に接合材9を介して固定された金具10と、を備えた多層セラミック基板1aであって、該金具10は、接合材9と接触するベース部12の底面積A1が15mm2以上であり、且つ該ベース部12から基板本体2の外側に立設する機能部13の断面積A2がベース部12の底面積A1以下で且つ5mm2以上であり、基板本体2において、金具10が固定されたメタライズ層7を基板本体2の厚み方向に沿って投影した領域(ma×sd)内には、導体層p1〜p7が形成されていないセラミック部SAが配設されている、多層セラミック基板1a。 (もっと読む)


【課題】複数のセラミック層を積層してなり、内部に焼成時の反りを抑制し、電気的に独立した金属層を有し、反りなどの変形が抑制されており、且つ電気的に信頼性の高い多層セラミック基板、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】表面3および裏面4を有し、且つ複数のセラミック層s1〜s7を積層してなる基板本体2と、該基板本体2の厚み方向における表面3と裏面4との中間で且つ該基板本体2の平面方向に沿って位置する仮想の中間平面cfよりも、該基板本体2の表面3側に位置するセラミック層s1〜s4間に形成された平面状の配線層p1〜p3と、中間平面cfよりも基板本体2の裏面4側に位置するセラミック層s4〜s6間に形成され且つ電気的に独立した金属層m1,m2と、を備えた多層セラミック基板1aであって、該金属層m1,m2は、基板本体2の裏面4側における最外側のセラミック層s7とこれに隣接して積層されたセラミック層s6との間には、形成されていない、多層セラミック基板1a。 (もっと読む)


【課題】 デラミネーションが発生するのを抑制するとともに、ホットメルト組成物を含む配線パターンが溶融によって変形するのを抑制する配線基板の製造方法および配線基板を提供する。
【解決手段】 本発明の配線基板の製造方法は、支持フィルム1の上に導体粉末およびホットメルト組成物を含む導体ペーストによる配線パターン2を形成し、支持フィルム1を覆うように第1のセラミック粉末およびホットメルト組成物の溶融温度よりも低い温度で硬化する熱硬化性樹脂を含む第1のセラミックスラリーによる被膜3を形成し、熱硬化性樹脂を硬化させ、第1のセラミック粉末と同一組成であり第1のセラミック粉末よりも平均粒径の大きい第2のセラミック粉末および有機バインダを含む第2のセラミックスラリーを、第1のセラミックスラリーによる被膜3の上面を覆い、かつ部分的に厚みを異ならせて平坦な上面が形成されるように塗布することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】分割用の溝が形成されたグリーンシートを焼成してなるセラミックシートを、当該溝に沿って分断してセラミック基板を形成する製造方法において、グリーンシートに溝を形成するとき、当該溝の周囲の盛り上がりを防止する。
【解決手段】ドクターブレード100を用いて、セラミックよりなるスラリー10をシート状に引き延ばし、このシート状のスラリー11を乾燥させてグリーンシート20を形成し、これを焼成した後、これを分断して個片化されたセラミック基板1を製造する製造方法において、シート状のスラリー11のうち最終的に分断される部位に、窪み12を形成した後、この窪み12の形状を維持しつつ乾燥を行ってグリーンシート20を形成した後、窪み12の底部に対して金型300を押し当てて溝13を形成し、これを焼成してセラミックシート30を形成した後、溝13に沿ってセラミックシート30の分断を行う。 (もっと読む)


【課題】 貫通導体パターンがセラミックスラリーを塗布する際に倒れるのを抑制し、ホットメルト組成物を含む貫通導体パターンが溶融によって変形するのを抑制する配線基板の製造方法および配線基板を提供する。
【解決手段】 本発明の配線基板の製造方法は、支持フィルム1の上に導体粉末およびホットメルト組成物を含む導体ペーストによる貫通導体パターン2を形成し、支持フィルム1を覆うように第1のセラミック粉末およびホットメルト組成物の溶融温度よりも低い温度で硬化する熱硬化性樹脂を含む第1のセラミックスラリーによる被膜3を形成し、熱硬化性樹脂を硬化させ、第1のセラミック粉末と同一組成であり第1のセラミック粉末よりも平均粒径の大きい第2のセラミック粉末および有機バインダを含む第2のセラミックスラリーを、第1のセラミックスラリーによる被膜3の上面を覆い、かつ部分的に厚みを異ならせて平坦な上面が形成されるように塗布する。 (もっと読む)


【課題】 より安価に製造でき、生体適合性に優れた白金を主成分とする緻密な接続パッドを備えた多層配線基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、アルミナ質焼結体からなる複数のセラミック絶縁層11、12、13、14が積層された絶縁基体1と、絶縁基体1の内部に形成されたタングステンまたはモリブデンを主成分とする配線層2と、セラミック絶縁層11、12、13、14を貫通するタングステンまたはモリブデンを主成分とする貫通導体3と、絶縁基体1の一方主面および他方主面に形成された接続パッド41、42とを備え、少なくとも一方主面に形成された接続パッド41の表面が71〜88質量%の白金と残部の金とからなり、白金の中に金がほぼ均一に分散していることを特徴とするものである。この構成により、安価に製造でき、生体適合性に優れた白金を主成分とする緻密な接続パッドを備えた多層配線基板を実現することができる。 (もっと読む)


【課題】 デラミネーションが発生するのを抑制するとともに、近接する配線間の絶縁性に優れた多層配線基板の製造方法および多層配線基板を提供する。
【解決手段】 本発明の多層配線基板の製造方法は、平均粒径が1〜10μmのセラミック粉末および有機バインダを含むセラミックグリーンシート4を用意し、セラミックグリーンシート4の上面に、第2の金型2を押し付けて第2の突条21による溝41を形成し、セラミックグリーンシート4の上面の少なくとも溝41の内壁に、平均粒径が0.1〜0.5μmのセラミック粉末およびホットメルト樹脂を含むセラミックスラリー5を被着形成し、セラミックグリーンシート4の上面に、ホットメルト樹脂が軟化するように加熱した第1の金型1を押し付けて、第2の突条21による溝の内側に、側面および底面がセラミックスラリー5からなる配線形状の溝51を形成することを特徴とする。 (もっと読む)


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