【課題】 例えば、マスクに形成されたパターンの透過率の位置依存性に起因する結像特性の変動の像高依存性を低減した露光装置を提供する。
【解決手段】 本発明は、マスクに形成されたパターンを介して基板を露光する露光装置である。露光装置は、マスクからの光を前記基板に投影する投影光学系と、マスクを保持する第１ステージと、基板を保持する第２ステージと、制御部とを備える。制御部は、パターンの透過率の位置依存性に基づき、投影光学系の結像特性の変動の像高依存性を低減するように、投影光学系を構成する光学素子、第１ステージ及び第２ステージの少なくとも一つの駆動を制御する。 （もっと読む）

【課題】浮上ユニットによって浮上・支持される基板の浮上量を精度よく制御して、露光精度を向上させることができる近接スキャン露光装置及びその制御方法を提供する。
【解決手段】近接スキャン露光装置１は、基板Ｗを浮上・支持する浮上ユニット１６及び基板駆動ユニット１７を備える基板搬送機構１０と、マスクＭを保持するマスク保持部１１と、基板Ｗの浮上量を検出する基板ギャップセンサ６０とを備え、基板ギャップセンサ６０によって検出された基板Ｗの浮上量と目標浮上量との差に基づいて制御部１５が浮上ユニット１６のエア流量及びエア圧力を調節し、基板Ｗの浮上量を精度よく制御する。 （もっと読む）

【課題】基板搬送時の振動等により発生する基板の高さのばらつきをリアルタイムで補正することができ、より高精度な露光を実現する近接スキャン露光装置及びその露光方法を提供する。
【解決手段】マスクMに近接しながらX方向に搬送される基板Wに対してマスクMを介して露光用光ELを照射し、基板ＷにマスクＭのパターンＰを露光する近接スキャン露光装置１は、基板ＷをＸ方向に搬送する基板搬送機構２０と、マスクＭを保持するマスク保持部７１と、マスク保持部７１を駆動するマスク駆動部７２と、基板搬送機構２０に搬送される基板Ｗと、マスク保持部７１に保持されるマスクＭとの間のギャップを検出するギャップセンサ１６０ａ，１６０ｂ，１６０ｃと、を備える。そして、マスク駆動部７２は、露光動作中、ギャップセンサ１６０ａ，１６０ｂ，１６０ｃによって検出されたギャップに基づいてマスク保持部７１を上下方向に駆動する。 （もっと読む）

【課題】ウエハを含む種々の基板を接合させる際に基板間のギャップを高精度で測定することのできる基板接合装置を提供する。
【解決手段】基板接合装置は、前記第１の組の基板（Ｗ１）を保持する第１の基板保持手段（１０１）と、前記第２の組の基板（Ｗ２）を保持する第２の基板保持手段（２０１）と、前記第１および第２の基板保持手段の内の少なくとも一方を、基板の面と垂直な方向に移動させる移動手段（２０５）と、を備える。基板接合装置は、前記第１および第２の組の基板の側面に光を照射する照明手段（４０３）と、前記第１および第２の組の基板を隔てて、前記照明手段と対向する位置から、前記第１の組の基板および第２の組の基板の側面を撮影するカメラ（４０１）と、前記カメラの撮影した画像から、前記第１および第２の組の基板の間のギャップの値を求める画像処理手段（４０５）と、をさらに備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】作業者の視覚に拠らないでロボットの搬送面とステーションの搬送面との傾斜ずれを精度良く、自動的に計測する方法及びそれを使った半導体ウェハ搬送システムを提供する。
【解決手段】ロボットのウェハ把持部の先端に設けた透過式センサで搬送面検出治具１１の被検出部である三角柱１３や１４の傾斜部をセンサで検出し、そのときのセンシング点１５ａを搬送面検出治具１１の表面上に正射影した正射影点１６を算出し、少なくとも３点の正射影点１６ｂによって治具１１の表面の式を算出し、この式が表す傾きをステーションとロボットのウェハ搬送面との傾きとして検出するようにした。 （もっと読む）

【課題】基板載置台に半導体基板を載置したときに、該基板が水平となるように基板載置台を整準する際、半導体基板処理装置の処理炉を開放せず、さらに処理炉内に基板載置台を整準するための装置を設置することなく、簡単且つ安価で基板載置台を整準することができる載置台整準方法及び載置台整準装置を提供する。
【解決手段】半導体基板処理装置が具備する基板載置台４に半導体基板５を載置したときに、該基板５が水平となるように基板載置台を整準するための載置台整準方法及びその装置であって、基板載置台４の上方に設置してある発光器１から鉛直下向きに光を出射し、該出射光２を基板載置台４に載置した基板５で反射させ、該基板５からの反射光３と出射光２とが一致するように基板載置台４の傾きを調節して基板載置台を整準することを特徴とする載置台整準方法及びその装置。 （もっと読む）

【課題】基板の受け渡し動作の高速化を図りながら、基板の吸着不良による位置ずれの発生を防止する。
【解決手段】基板載置部１５にて基板１を両持支持状態で吸着保持して基板受渡位置に搬送する工程と、基板受渡位置で基板載置部１５での基板１の吸着を開放する吸着開放工程と、基板保持部１６を基板受渡位置の下側から上側に移動させて吸着を開放された基板１を受け取る基板受取工程と、基板１の受取時又はその前後の動作中に吸着動作を行って基板保持部１６で基板１を吸着する吸着工程と、基板保持部１６による基板１の吸着保持状態の適否を検出する工程と、検出した基板１の吸着保持状態が不適正な場合基板保持部１６を基板受渡位置に戻し基板１を基板載置部１５で支持した状態で反り矯正手段２１にて基板１を上方から基板保持部１６に向けて押圧して基板１の反りを矯正する工程と、基板１を適正に吸着保持した基板保持部１６を移動する移送工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】 ウェハ処理ロボット、ウェハ処理ロボットを含むイオン注入システム、および関連する方法を開示する。
【解決手段】 イオン注入システムは、ロードロックが連結されたイオン注入ステーションと、ロードロック内に少なくとも部分的に位置しており、少なくとも１つのウェハを処理するエンドエフェクタとエンドエフェクタを垂直方向に動かすモータとを有するウェハ処理ロボットと、ロードロック内に位置して、エンドエフェクタの垂直位置を決定するセンサと、を備えうる。 （もっと読む）

【課題】チャックトップの高さのバラツキを小さくして常に一定のオーバードライブを掛けることができるチャックトップの高さを求める方法及びこの方法を記録したプログラム記録媒体を提供する。
【解決手段】チャックトップ１１の上面の中心及びその上下左右の５点の理想座標面で座標値ｘ、ｙを指定し、上カメラによって５点に対応するチャックトップ１１の高さを計測する工程と、ＸＹ座標面の所定の象限の上記各指定座標値に対応するチャックトップ１１の中心Ｏ以外の隣り合う２点Ａ、Ｂの計測値がチャックトップ１１の中心Ｏを中心として形成される円周上を変化して得られる点であるとする円錐モデルを設定する工程と、所定の象限内の任意の一点を指定し、この指定座標値、所定の座標変換式及び上記円錐モデルに基づいてチャックトップ１１の任意の点の高さＺを求める工程と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】基板の大口径化や超大口径化に伴う基板搬送時の基板中央部の自重による撓みを抑制ないし防止する。
【解決手段】大口径の基板ｗの上方又は下方に移動される支持部１７と、該支持部１７に設けられ基板ｗの周縁部を掴んで支持する掴み機構２８とを有する基板搬送装置において、上記支持部１７に、基板の上面中央部又は下面中央部を撓まないように空気層を介して非接触で吸引保持する非接触吸引保持部３０を１つ又は複数設け、該非接触吸引保持部３０は、上記基板の上面又は下面に対向する平面円形の本体３１と、該本体に形成され中央に向って深くなるように傾斜した傾斜面３２ａを有する凹部３２と、該凹部３２の中央に設けられ上記傾斜面に沿って流れるように気体を放射状に噴出することにより負圧を発生させるための複数の気体噴出ノズル３３と、上記凹部３２の周縁部に適宜間隔で形成された気体逃げ溝３４とを備えている。 （もっと読む）

【課題】基板の大口径化や超大口径化に伴う基板搬送時の基板中央部の自重による撓みを抑制ないし防止する。
【解決手段】大口径の基板ｗの上方又は下方に移動される支持部１７と、該支持部１７に設けられ基板ｗの周縁部を掴んで支持する掴み機構２８とを有する基板搬送装置において、上記支持部１７に、基板の上面中央部又は下面中央部を撓まないように空気層を介して非接触で吸引保持する非接触吸引保持部３０を１つ又は複数設け、該非接触吸引保持部３０は、上記基板の上面又は下面に向って突設された柱体又は錐体からなる負圧形成突部３１と、該負圧形成突部３１に対して側方から気体を噴出することにより負圧形成突部３１の近傍に負圧を形成するための気体噴出ノズル３２とを備えている。 （もっと読む）

【課題】露光装置全体の軽量化及び小型化を図る。
【解決手段】レチクルステージＲＳＴのＹ軸方向の移動に伴う反力を受ける固定子２２Ａと、ウエハステージＷＳＴのＹ軸方向の移動に伴う反力を受けるＹ固定子２５Ｙ１とが連結棒２７Ａによって機械的に連結され、レチクルステージＲＳＴのＹ軸方向の移動に伴う反力を受ける固定子２２Ｂと、ウエハステージＷＳＴのＹ軸方向の移動に伴う反力を受けるＹ固定子２５Ｙ２とが連結棒２７Ｂによって機械的に連結されているので、固定子２２Ａに作用する反力をＹ固定子２５Ｙ１に作用する反力で相殺し、固定子２２Ｂに作用する反力をＹ固定子２５Ｙ２に作用する反力で相殺することができる。これにより、従来のように、反力をキャンセルするための構造物（カウンタマス）の重量を大きくしたり、ストロークを大きく設定したりする必要がなくなる。 （もっと読む）

【課題】 ステージの全動作範囲において、基板搭載面の位置を連続的に計測する。これにより、ステージ位置決め精度の向上と基板ステージの小型化を図る。
【解決手段】 本発明の面位置計測装置は、基板を搭載するステージの基板搭載面の、予め定められた基準面に対する位置を計測する。そのために、前記ステージとは分離して前記基準面と平行に配設された第１ミラーと、前記基板搭載面と前記第１ミラーとの距離を計測する第１レーザ干渉測長系と、前記第１ミラーと前記基準面との距離を計測する第２レーザ干渉測長系とを備える。さらに、前記第１レーザ干渉測長系による計測値と前記第２レーザ干渉測長系による計測値に基づいて前記基準面に対する前記基板搭載面の位置を演算する演算手段を備える。 （もっと読む）

【課題】検査対象となる基板を所定の検査位置に載置して検査を行う場合に、基板の載置される位置を正確に把握して検査を行うことを可能とする基板検査装置における位置合わせ方法及び基板検査装置の提供。
【解決手段】複数の配線パターンが形成される基板を所定検査位置に載置して、該配線パターンの良不良を判断する基板検査装置における基板の位置合わせ方法であって、基板が載置される載置台を撮像手段が配置される撮像位置へ移動させ、前記撮像位置において、前記基板の第一位置情報を前記撮像手段により取得し（ステップＣ）、前記載置台を前記撮像位置から、基板の検査が行われる検査位置へ移動させ、前記検査位置において、前記基板の第二位置情報を検査手段により取得し（ステップＤ）、前記第一位置情報と前記第二位置情報を比較することによって、前記撮像位置と前記検査位置との補正位置情報を得る（ステップＥ）ことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】重力による前後軸の垂直方向へのたわみが大きくなっても、薄板をラックへ挿入するロボットの前後軸、上下軸及び回転軸の動作を停止することなく、薄板をラックへまっすぐ挿入することができる搬送ロボットシステムのたわみ補正装置を提供。
【解決手段】ラック４の基準部材とハンド３の先端との距離を測定するハンド３の先端部に取り付けられた変位検出器7a、又は、ラックの基準部材とハンドの先端との距離を測定する各ラック入口に取り付けられた変位検出器7bを有し、変位検出器7a、7bからの距離情報により、上下軸５及び回転動作軸６の重力によるたわみ量を補正する上下軸５及び／又は回転動作軸６の補正動作量を決定し補正する補正制御回路により、ハンドの先端下面と薄板を格納するラックの基準部材との垂直方向距離ｄを、薄板２の搬入、取り出しを行う動作中を通じて一定に保つようにした。 （もっと読む）

【課題】良好なティーチング精度を得ることのできるティーチング装置及びこれを用いたティーチング方法の提供。
【解決手段】まず、キャリアステージ６に、ウェハ撓み量チェックキャリア１５と、校正用基板５の複数の反射板との距離Ｌを測定する複数個の変位センサ１０ａ〜１０ｅを備えるティーチング治具１１と、をセットする。ロボットハンド３によって校正用基板５をウェハ撓み量チェックキャリア１５内の所定の校正開始位置に収容し、ティーチング治具１１の変位センサ１０ａ〜１０ｅから読み出される距離を合わせることによって、キャリアステージ６の水平出し及び基板収容高さ位置の教示を実行する。最後に、ロボットハンド３をθ軸、Ｘ軸に移動させ、変位センサ１０ａ〜１０ｄによるウェハエッジ検出を行い基板収容位置の校正と、変位センサ１０ｅによる撓み測定を行いロボットハンドの挿入高さ位置の教示を実行する。 （もっと読む）

【課題】 レチクルとウエハとの位置合わせの精度及びスループットを向上させる。
【解決手段】 レチクルまたはそれ相当の位置に構成されたキャリブレーションマークを従来の構成よりも多く構成する。更に、それらのキャリブレーションマークの中から適切な計測マークを選択し、それらの相対位置を、ウエハ側に構成された基準マークによって、検出する。更に、複数のキャリブレーションマークを特別な配置にする事で、高精度且つ高スループットな検出が可能となる。 （もっと読む）

【課題】ステージの変形や変位を抑制しつつ、高精度に傾斜できるステージ装置を提供する。
【解決手段】支持部材１７が傾斜すると、その方向（連結部１７ｃの幅方向即ちステージ２１の面に垂直な方向）の連結部１７ｃの剛性は比較的高いので、それに応じて支持部１７ｂも傾斜する。また相対変位部１７ａと支持部１７ｂとを連結する連結部１７ｃは、その面に垂直な方向即ちステージ２１の面に沿った方向の剛性が低く、また隣接する相対変位部１７ａ、１７ａはばね板１７ｄにより連結されているので、固定された相対変位部１７ａに対して、ステージ２１の面に沿った方向に変形しやすくなっており、図４の二点鎖線で誇張して示すように、変位した相対変位部１７ａにおけるステージ２１の面に沿った方向の変位を許容し、ストレスを解放するようにしている。 （もっと読む）

【課題】小型で、試料の離脱を速やかに行うことのできる試料台を備えたプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】内部に減圧される処理室を形成する真空容器と、該真空容器内にプラズマを生成し、生成したプラズマにより前記真空容器内に配置した試料台２０１上に載置された試料にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置であって、前記試料台に配置され前記試料を前記試料台に吸着させる手段と、前記試料台内に配置され、前記試料台の上方に移動して前記試料を試料台上面から押し上げるピン３０５と、前記減圧された処理室とは封止され大気圧にされた室内に配置され、前記ピンと連結されて内部のシリンダ内のピストンの動作により前記ピンを駆動する駆動機構３２０と、前記ピンと前記大気圧にされた室との間を封止するとともに前記ピンの動作に伴って伸縮するベローズ３０６と、可圧縮性の流体を前記ピストンにより仕切られる前記シリンダ内の空間に、シリンダ押し上げ力が所定値以下となるように調整して供給する調節器３０８を備えた。 （もっと読む）

【課題】ウェハ収納容器等の薄板収納容器の変形の検査における判定を正確に行うことができると共に、その検査効率を向上させる手段を提供する。
【解決手段】絶縁性を有し、薄板を１枚毎に支持する段ガイドを備えた薄板収納容器の検査装置が、上面および下面を有し、段落ガイドに支持されると共に導電性を有する導電板７と、上面および下面に、それぞれ隙間Ｃを介して配置された導電性を有するシャフトと、導電板に当接する導電性を有する接触子２５とを備える。 （もっと読む）