【課題】ウェハ収納容器等の薄板収納容器の変形の検査における判定を正確に行うことができると共に、その検査効率を向上させる手段を提供する。
【解決手段】絶縁性を有し、薄板を１枚毎に支持する段ガイドを備えた薄板収納容器の検査装置が、上面および下面を有し、段落ガイドに支持されると共に導電性を有する導電板７と、上面および下面に、それぞれ隙間Ｃを介して配置された導電性を有するシャフトと、導電板に当接する導電性を有する接触子２５とを備える。 （もっと読む）

【課題】誤った欠陥検知または、検査感度の損失を引き起こすことのない基材支持の装置及び方法を提供する。
【解決手段】ステージミラー１１０に対する基材チャック１０６の変位を感知し、ステージミラーへ結合されているＺステージアクチュエータ１２６及びＸＹステージアクチュエータ１４６、１４８のうちの一方又は両方を有する１つ以上のフィードバックループにおける変位に比例する信号を結合することによって、ステージミラーに対する基材チャックの運動が動的に補償される。これに代えて、基材支持装置は、Ｚステージプレート1１２、ステージミラー１１０、Ｚステージプレートへ取り付けられている１つ以上のアクチュエータ、及びステージミラーへ取り付けられている基材チャックを含み得る。基材チャックは基材チャックの６つの運動自由度に対する拘束を有する。 （もっと読む）

【課題】微動ステージの駆動に寄与する電機子コイル１つあたりの発熱を抑制する。
【解決手段】粗動ステージに設けられた４つの電機子コイル５６Ａ〜５６Ｄそれぞれと、これに対応する微動ステージＷＦＳ１に設けられた磁石ユニット５２Ａ〜５２Ｄとが協働して発生する各駆動力の合力を、微動ステージに作用させることができるので、電機子コイル１つあたりで消費される電流を抑制することができる。これにより、電機子コイル１つあたりの発熱を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】前記基板搬送手段との間で基板の受け渡すために行われる前記処理ユニットの傾きを調整する作業の手間を抑えることができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】複数段に積層された処理ユニットに設けられ、処理ユニット内の基板載置面について、水平面上の２軸であるＸ軸及びＹ軸周りの各傾きを検出するための傾斜検出部と、各傾斜検出部からの傾き検出結果を取り込み、その検出結果に基づいて前記基板載置面のＸ軸周りの傾き及びＹ軸周りの傾きを表示すると共に各基板載置面の前記傾きが許容値に収まっているか否かを判断してその判断結果を表示する制御部と、を備えるように基板処理装置を構成する。表示に基づき必要な処理ユニットについてだけ調整を行うことで手間が軽減できる。 （もっと読む）

【課題】基板を受け取るおよび／または輸送する方法を提供すること。
【解決手段】少なくとも１つのセンサによって、基板の位置、具体的には容器のスロットに配置された基板の位置の逸脱が、１自由度に少なくとも関して検出され、少なくとも１つの受取りデバイスおよび／または輸送デバイスの移動工程が、前記逸脱を含むことで決定される。 （もっと読む）

【課題】安全性を確保しつつ、短時間でのステップ動作を行い、スループットを向上することができる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置の制御装置は、Ｚ軸送り台２Ａの鉛直方向の相対移動とワークステージ送り機構２Ｂの水平方向の相対移動とを同期させるようにＺ軸送り台２Ａ及びワークステージ送り機構２Ｂを制御する。 （もっと読む）

【課題】高速かつ高精度に安定した基板の搬送及び載置手段への受け渡しを行えるようにした基板搬送方法及び基板搬送を提供すること。
【解決手段】ウエハＷを搬送する搬送アーム５０と、搬送アームによって搬送されたウエハを搬送アームから受け取るスピンチャック６０と、を具備する基板搬送装置において、搬送アームに設けられ、スピンチャックの載置部６０ａを検出する載置部検出手段５９と、搬送アームを昇降及び水平方向に移動する移動手段５５と、載置部検出手段からの検出信号に基づいて移動手段を制御するコントローラ７０と、を具備する。搬送アームによって搬送されるウエハをスピンチャックに受け渡す際、載置部検出手段がスピンチャックの載置部を検出した後、コントローラからの制御信号に基づいて移動手段を駆動して搬送アームを斜め方向に下降して、ウエハをスピンチャック上に載置する。 （もっと読む）

【課題】寸法精度を保持したり寸法的な余裕を付与しなくても必要な位置精度が得られるようにした搬送システムとそれを可能にした電動機駆動制御装置を提供すること。
【解決手段】マッピングセンサ４をウエハ７の積載方向に移動させるマッピング装置５と、その電動機２を制御する電動機制御部１５を備え、電動機制御部１５は予めその内部に持っているラック８の基準位置と、実際にマッピングセンサ４により測定したラック８の基準位置の偏差量を演算し、搬送ロボットによるウエハ７の搬出と搬入に対するティーチングデータの補正が与えられるようにしたもの。 （もっと読む）

【課題】位置決めを簡単な構成で行なえるステージ装置を提供する。
【解決手段】Ｙステージ１２の前端中央には、光検出器３２が取り付けられている。また、ガントリ部１４の中間位置にはレーザ光を光検出器３２に照射するレーザ発光器３４が取り付けられている。光検出器３２とレーザ発光器３４とは、Ｙ軸に対する位置ずれを計測する計測手段を構成しており、Ｙステージ１２が基準位置にあるときレーザ発光器３４から出射されるレーザ光の光軸がＹステージ１２の移動方向（Ｙ方向）と一致するように設けられている。光軸位置検出部は、第１乃至第４の受光部から出力された検出信号を比較して光強度分布から光軸の直交する方向への位置ずれ量を検出する。また、光軸位置検出部は、光検出器３２の中心とレーザ発光器３４のＹ方向光軸との相対位置が一致するとＹステージ１２が基準位置にあることを検出する。 （もっと読む）

【課題】コストアップを招くことなく、振動等の異常発生による画像品質の劣化を抑制する描画装置及び描画方法を提供する。
【解決手段】感光材料が載置された移動ステージ１５２及び露光ヘッド１６６を走査方向に相対移動させながら、描画素子により描画点を描画させることにより、感光材料上に画像を描画する描画装置において、位置ずれ量演算部７５は、ステージ位置測定部２０によって測定された移動ステージ１５２の位置情報に基づいて移動ステージ１５２の位置ずれ量をリアルタイムで演算する。フレームデータ作成部７４は、描画素子毎に予め定めた取り出し位置から所定数のデータを画像データ記憶部７１に記憶された画像データから取り出すことにより、描画素子毎に描画点データを生成する。制御部１０は、検出した位置ずれ量に応じた取り出し位置の補正量をメモリ７６に記憶した補正テーブルデータから求め、フレームデータ作成部７４に出力する。 （もっと読む）

【課題】 本発明はステージ装置の薄型化及び小型化を図るすることを課題とする。
【解決手段】 ステージ装置１０のベースプレート１２は、下面側に各プレートを収容する凹部２０を有し、凹部２０の内部にはチルトプレート１４、ＸＹステージ１６、θ軸ステージ１８が収容される。また、ステージ装置１０は、チルトプレート１４の凹部にＸ軸プレート５０を収容し、Ｘ軸プレート５０の凹部にＹ軸プレート５２を収容すると共に、Ｘ軸プレート５０及びＹ軸プレート５２を側方からガイドすると共に側方から駆動する。θ軸プレート９０は、θz軸方向の位置を調整されると共に、チルトプレート１４を介してＺ，θx，θｙ軸方向が調整され、Ｘ軸プレート５０を介してＸ軸方向が調整され、Ｙ軸プレート５２を介してＹ軸方向が調整される。 （もっと読む）

【目的】 アライメント時間を短縮することができる、マスク検査装置におけるアライメント方法を提供することを目的とする。
【構成】 アライメントマークの画像データと、測長されたステージ位置の座標データを関連付けて蓄積し、アライメントマークの取得画像から、前記アライメントマークの取得画像上の傾きを算出し、アライメントマークの取得画像と関連付けられた前記ステージ位置の座標データから、ステージ走行方向のステージ座標軸との傾きを算出し、算出されたアライメントマークの取得画像上の傾きと、前記算出されたステージ走行方向のステージ座標軸との傾きから、実際の前記マスクと前記ステージ座標軸との傾きを算出して、１箇所のアライメントマークの取得画像についてのみ算出された、マスクとステージ座標軸との傾きから、マスクの回転補正をすることを特徴とするマスク検査装置におけるアライメント方法。 （もっと読む）

【課題】半導体製造装置のウェハを収納するウェハカセットとウェハカセットにウェハを
搬送する搬送手段からなる搬送系において、作業者が目視による官能調整によることなく
、ウェハカセットと搬送手段の高さと傾きを調整することができる搬送系調整用装置を得
ること。
【解決手段】ウェハカセット内にウェハを搬送する搬送アームに保持され、ウェハカセッ
ト内に配置される基準ウェハ２０と、ウェハの端部を保持するウェハカセットのカセット
脚に保持され、基準ウェハ２０との間の距離を測定する距離測定部１２を備える基準板１
０と、距離測定部１２によって測定された基準板１０と基準ウェハ２０との間の距離を表
示する表示部４０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、基台上にステージベースを備えたステージ装置およびこのステージ装置を備えた露光装置に関し、ステージベースの変形を従来より大幅に低減することを目的とする。
【解決手段】 基台上にステージベースを配置するとともに、前記ステージベース上に配置されるガイド部材に沿ってスライダを案内し、前記スライダの移動によりステージを移動するステージ装置において、前記基台上に前記ステージベースを支持する支持手段と、前記ステージベースを押圧するとともに押圧力を制御可能な押圧手段と、前記ステージベースの傾きを検出する傾斜検出手段と、前記傾斜検出手段からの信号に基づいて前記押圧手段の前記押圧力を制御する制御手段とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 トレーに収納した部品につき短時間で高精度に位置決めして外観検査できるようにする。
【解決手段】 トレー２の複数の凹部２ａに収納された部品１をカメラ１２を用い個々に画像認識して検査するのに、トレー２を吸着保持して移動させ、その凹部２ａ内に吸着保持した部品１をカメラ１２に対し個々に位置決めしながらカメラ１２を用い順次に画像認識して検査を行うことにより、上記の目的を達することができる。 （もっと読む）

裏面ウェハマーキングシステムにおけるレーザ処理性能を決定するためのシステムが開示される。このシステムは、目標ウェハの裏面上にパターンマークを生成するためのレーザマーキングシステムと、目標ウェハの主面を通してパターン特徴を検出するための検出システムとを含む。目標ウェハは、目標ウェハを通る検出システムの見かけの焦点領域が目標ウェハの主面に実質的に近くなるような厚さ、屈折率および２つの実質的に平坦な表面を含む。
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【課題】電気研磨および／または電気めっきプロセスにおいて、ウェーハを移動させるロボットアセンブリにおいて、エンドエフェクタ真空カップ内の粒子を取除き、真空通路に酸などが入るのを防止する装置および方法を提供する。
【解決手段】エンドエフェクタ３０６は、真空弁３２２を介して真空源と、窒素弁３２０を介して加圧窒素源と連結されている。真空弁３２２がオンされると、ウェーハをエンドエフェクタ３０６に押し付けて保持するように、真空カップ３０２内の圧力を低下させる。真空弁３２２がオフされ、かつ、窒素弁３２０がオンされると、エンドエフェクタ３０６は、真空カップ３０２内の圧力が増大されウェーハを開放する。ウェーハが保持されていない時、または移動されていない時は窒素弁３２０をオン状態のままにして、真空カップ３０２内において周囲環境圧力に近いか、またはこの周囲環境圧力よりも高い圧力を維持する。 （もっと読む）

【課題】キャリア載置台にキャリアが載置される場合、正常な位置に載置されな
いと、キャリアの搬送ロボットや、基板搬送ロボットが正常な搬送を行えなくな
るおそれがある。
【解決手段】そこで本発明のキャリア載置装置１では、キャリアＣが有するピン
穴６に対して嵌合するピン５を有する載置台３と、キャリアＣの所定の底面領域
が上下方向において基準位置にあるかどうかを検出する第１正常センサ７ａ、第
２正常センサ７ｂを有し、前記所定の底面領域が基準位置にあるとき、キャリア
Ｃはピン５に嵌合しているとして正常に載置されている旨を報知する報知部２０
を有する。 （もっと読む）

【課題】トップリング（ウエハ保持機構）に保持されたウエハが離脱してプッシャー機構（ウエハ受渡機構）に着座するまでのウエハ受渡工程の所要時間を短縮できるウエハ受渡装置を提供する。
【解決手段】ウエハＷを保持するトップリング６０と、トップリング６０との間でウエハＷの受け渡しを行うプッシャー機構１０とを備えたウエハ受渡装置において、プッシャー機構１０は、ウエハＷを載置するウエハトレイ４０を備え、トップリング１０の下端面から離脱したウエハＷがウエハトレイ４０に着座するように構成し、プッシャー機構１０に、ウエハＷがウエハトレイ４０に適正に着座したことを検知するセンサ機構５０を備えた。センサ機構５０は、投光装置５１から投光されたセンサ光が、ウエハトレイ４０に着座したウエハＷによって遮断されるようになっている。 （もっと読む）

【課題】高精度化及び高速化に有利な平面ステージ装置及びそれを組み込んだ露光装置を提供する。
【解決手段】平面ステージ装置１００は、平面部を有する固定子１と、その平面部上で移動する第１、第２の可動子２ａ、２ｂと、その平面部上で移動する第１、第２の補助構造体６ａ、６ｂと、第１、第２の補助構造体６ａ、６ｂをそれぞれＹ方向に沿ってガイドする第１、第２の第１方向ガイド４ａ、４ｂと、第１、第２の補助構造体６ａ、６ｂをそれぞれＸ方向に沿ってガイドする第１、第２の第２方向ガイドとを備える。第１、第２の補助構造体６ａ、６ｂは、それぞれ第１、第２の可動子２ａ、２ｂとほぼ一定の位置関係を維持するように駆動される。 （もっと読む）