【課題】矩形の基板がステージ上で傾いて載置されても、当該基板を位置決めし直すことのできる矩形基板の載置位置矯正方法を提供する。
【解決手段】基板Ｗの左辺Ｌに二点で接触可能な一対の第一部材１１及び第二部材１２を前後方向基準線Ｘ０に平行な直線Ｘ１上に位置させ、基板Ｗの前辺Ｆに一点で接触可能な第三部材１３、及び、基板Ｗの後辺Ｂに一点で接触可能な第七部材１７を、基板Ｗの前後方向寸法ｂよりも広い間隔でかつ左右方向基準線を中心として位置させる。左側の前記二点及び右側の第五部材１５と第六部材１６とで基板Ｗを左右方向に挟むと共に、この左右方向に挟む動作の間に、基板Ｗを第四部材１４及び第八部材１８で、左右方向基準線Ｙ０を中心として前後方向に挟む。 （もっと読む）

【課題】レーザ処理装置における被処理体配置台の平面度を容易かつ正確に調整することを可能にする。
【解決手段】被処理体配置台の下方に複数備えられて被処理体配置台を支持し、支持位置の昇降が可能な支持部と、支持部の昇降を行う駆動部と、被処理体配置台の上面形状を測定する変位測定部と、駆動部を制御するとともに変位測定部の測定結果を取得可能な制御部と、各駆動部を動作させた際の被処理体配置台の上面形状の変位から各駆動部の動作量と被処理体配置台変位量との関係データを記憶する記憶部と、を備え、制御部は、変位測定部による測定結果を受けて被処理体配置台上面を所定の平面度に調整するために各駆動部の動作によって変位すべき被処理体配置台の変位量を求め、該変位量から記憶部に記憶された関係データを参照して各駆動部の動作量を決定し、該動作量に基づいて各駆動部を動作させる。 （もっと読む）

【課題】基板サポートの不均一性を回避する。
【解決手段】リソグラフィ投影装置は、放射ビームを提供するための、放射ビームをパターニングし、かつ、パターニングされたビームを基板のターゲット部分に投影するビーム生成システムと、物品を支持するための突起を備えたサポートテーブルと、突起の高さの偏りを検出するディテクタと、突起材料の高さを修正するようになされた材料除去デバイスと、ディテクタと材料除去デバイスの間に結合されたコントローラとを備えており、材料除去デバイスは、機械研磨デバイス、マグネトレオロジー仕上げツール、および一点または多点ダイヤモンドツールからなるグループから選択される除去ツールを備えている。 （もっと読む）

【課題】吸着面に静電吸着される被吸着物の平面度を高くできる静電吸着保持装置、露光装置、露光方法及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】第２静電吸着保持装置３４は、可撓性を有する誘電性材料で形成され、且つウエハＷを吸着する吸着面３４ａが形成された一方の面４２ｂを有する基体４２と、該基体４２の内部に設けられる第１電極部４５及び第２電極部４６と、基体４２の一方の面４２ｂとは反対側の他方の面４２ａに駆動力を付与し、基体４２の吸着面３４ａの形状を変形させる駆動装置４１と、を備えている。この駆動装置４１の駆動によって、吸着面３４ａの形状が変形すると、該吸着面３４ａに静電吸着されるウエハＷの被照射面Ｗａの平面度は高くなる。 （もっと読む）

【課題】基板に対して液浸法を利用した高精度な露光を行う。
【解決手段】 投影露光装置１００は、基板Ｗが載置されるとともに、その基板を保持して移動可能な基板テーブル３０と、基板テーブルの位置情報を計測する位置計測系（１８等）と、液体の供給に起因して基板と基板テーブルとの少なくとも一方に生じる位置ずれを補正する補正装置１９とを備えている。この場合、補正装置により、液体の供給に起因して基板と基板テーブルとの少なくとも一方に生じる位置ずれが補正される。これにより、基板に対して液浸法を利用した高精度な露光を行う。 （もっと読む）

【課題】対向配置された対象物同士の相対的な傾きをを高精度にかつ容易に調整することができる傾き調整の技術を提供することを目的とする。
【解決手段】基板５５には第１検出部である電極が形成され、基板５６には第２検出部である電極が基板５５の電極と対を構成する位置に形成されている。そして、基板５５および基板５６をステージ部１５の保持部２９およびヘッド部３９の保持部４４にそれぞれ保持し、基板５５および基板５６の電極の対の間の静電容量を検出部５０により検出する。そして、検出された静電容量が所定の値になるように、Ｘ−Ｙテーブル制御部５２によってＸ−Ｙステージ機構１１を移動させ、基板５５および基板５６の相対的な傾きを調整する。 （もっと読む）

改良されたウェハー・ツー・ウェハーボンディング方法は、上側ウェハー及び下側ウェハーを位置合わせすること、及び単一の点において終端するポートを通して加圧ガスを流すことにより上側ウェハーの単一の点に圧力を加えることによって、その単一の点において結合を開始することを含む。ガス圧を制御することによって、かつ／又は下側ウェハーが上側ウェハーに向かって上方に動く速度を制御することによって、結合フロントが、位置合わせされた、向かい合って配向されたウェーハウェハー表面にわたって、設定された径方向速度で径方向に伝搬し、２つのウェハー表面を完全に原子接触させる。 （もっと読む）

【課題】ウエハの引っ掻き傷や粒子による汚損を最少にして半導体ウエハを確実に移送し得る試料把持用端部エフェクタを提供すること。
【解決手段】光源、及び受光部に作動するように連結された本体を有する端部エフェクタを設け、前記光源、及び受光部は離間するそれぞれの光源光路開口、及び受光路開口を有し、これ等開口の間に光透過路に沿って光ビームが伝搬し、これ等光ビームが既知のビーム形状であるように前記光源光路開口、及び受光路開口の寸法を定め、前記試料と本体との空間を狭くするため、これ等試料と本体との間の相対運動を与え、前記相対運動を与えることに組み合わせて、前記光透過路に交差するように前記試料を位置決めする。 （もっと読む）

【課題】 基板載置台への基板の異常載置状態を早期に発見できる方法を提供する。
【解決手段】 基板処理装置においてヒーターを有する基板載置台に基板を載置して加熱しながら処理を行う際に、１枚の基板を処理する間の全体もしくは一部分の時間において、ヒーターへの供給電力、供給電流もしくは供給電圧または基板載置台の計測温度について、最大値および最小値もしくは積算値を算出し、検出された最大値および最小値もしくは積算値をもとに基板の異常載置状態を検知する。 （もっと読む）

【課題】基板テーブルと、この基板テーブルに対して基板を装荷および除荷するために移動可能であるエジェクタ素子との間の、リソグラフィ装置における基板の最適テイクオーバー高さを較正するための較正方法を提供する。
【解決手段】基板テーブルおよびエジェクタ素子のうちの１つの上に基板をクランプすること、基板が基板テーブルによって支持される除荷状態と、基板がエジェクタ素子によって少なくとも部分的に支持される装荷状態との間で、エジェクタ素子を移動すること、基板テーブルとエジェクタ素子との間で基板の重さが少なくとも部分的にテイクオーバーされる瞬間のエジェクタ素子の基準高さを求めること、求めた基準高さからエジェクタ素子についての最適テイクオーバー高さを求めることを含む方法。 （もっと読む）

【課題】被処理基板に処理液を供給して塗布処理を施す基板搬送処理装置において、基板搬送精度を確保し、処理不良の発生を抑制することのできる基板搬送処理装置を提供する。
【解決手段】気体の噴射又は噴射と吸引により基板Ｇを異なる高さに浮上させる浮上ステージ２２と、前記浮上ステージ２２の上方に配置され、基板幅方向にスリット状に形成されたノズル口から処理液を前記被処理基板上に供給する処理液供給ノズル２３と、前記浮上ステージ２２の左右側方に平行に配置されるガイドレール２５に沿って移動可能に設けられた基板キャリア５０と、前記基板キャリア５０に設けられ、前被処理基板Ｇの側縁部を下方から着脱自在に吸引保持する基板保持部材２４と、少なくとも基板搬送方向において前記処理液供給ノズル２３のノズル口と同位置に配置され、前記基板保持部材２４の直下位置において前記基板キャリア５０を支持する支持部材５１とを備える。 （もっと読む）

【課題】液体の漏れ出しを抑制する。
【解決手段】液体（Ｌｑ）が供給される投影光学系（ＰＬ）直下の第１領域に一方のステージ（ＷＳＴ１（又はＷＳＴ２））が位置する第１の状態から他方のステージ（ＷＳＴ２（又はＷＳＴ１））が第１領域に位置する第２の状態に遷移させる際に、両ステージが、Ｘ軸方向に関して近接した状態を維持してＸ軸方向に同時に駆動される。このため、投影光学系とその直下にある特定のステージとの間に液体を供給したままの状態で、第１の状態から第２の状態に遷移させることが可能となる。これにより、一方のステージ側での露光動作の終了から他方のステージ側での露光動作開始までの時間を短縮することが可能となり、高スループットの処理が可能となる。また、投影光学系の像面側には、液体が常に存在させることができるので、投影光学系の像面側の光学部材にウォーターマークが発生するのを防止する。 （もっと読む）

【課題】基板アライメント装置が緊急停止した場合に、マーク保持部が基板及び基板保持部と衝突することを防止する。
【解決手段】上ステージ部と下ステージ部とにより互いに面方向に相対移動されて位置合せされる一対のウエハに設けられたアライメントマークを撮像する上顕微鏡１４８と下顕微鏡１５０との視野内に、上顕微鏡１４８と下顕微鏡１５０とにより撮像される上顕微鏡１４８と下顕微鏡１５０との相対位置検出用の基準マーク１４６を出し入れする基準マーク移動装置１００であって、基準マーク１４６を保持するボード１４４と、ボード１４４におけるマーク形成部分をウエハ及びウエハホルダの移動通路に出入りさせると共に、駆動が停止された場合に、ボード１４４の全体を移動通路の外部へ退避させる昇降装置１０２と、を備える。 （もっと読む）

【課題】保持式搬送手段を基板取り出し方向に小さなものとするとともに、基板取り出し手段にて取り出し対象の基板を安定よく搬送し易い基板搬送設備を提供する。
【解決手段】取り出し対象の基板１における基板取り出し方向の下流側端部を挾持する挾持部８２を基板取り出し方向に沿う移動経路に沿って移動させて、取り出し対象の基板１の全体が収納容器２内に位置する収納位置から、取り出し対象の基板１の一部が収納容器２外に位置する中継位置まで取り出し対象の基板１を搬送する挾持搬送手段８１と、中継位置に搬送された取り出し対象の基板１を載置支持して、取り出し対象の基板１を中継位置から取り出し対象の基板１の全体が収納容器２外に位置する取り出し位置に搬送する載置支持搬送手段８８とを設けて構成する。 （もっと読む）

【課題】作業効率の低下を招くことなく、基板における露光領域の変形に関する情報を容易に計測する。
【解決手段】露光処理が施される複数の露光領域ＳＡと、複数の露光領域のそれぞれに設けられ各露光領域における変形に関する情報を計測する変形計測装置Ｇとを有する。変形計測装置は、露光領域に露光処理によりパターニング形成されてなる。 （もっと読む）

【課題】ポッド内に置かれた複数の薄型基板の間の垂直ピッチを測定するための薄型基板ピッチ測定装置を提供する。
【解決手段】ポッド内の薄型基板に光束を発し、この薄型基板から反射される光束を受ける光電素子と、光電素子を薄型基板の垂直方向に沿って移動させ、ポッド内の複数の薄型基板の間の垂直ピッチを測定する走査装置と、ポッドを載せ、複数の角度に回転させて、これらの薄型基板の間の垂直ピッチを測定する回転台座とを主に含む。 （もっと読む）

【課題】露光装置、露光方法、及び半導体装置の製造方法において、歩留まりを向上させること。
【解決手段】ウエハWの傾きを調節可能なウエハ載置台２３と、露光マスク１４を保持するマスクステージ１２と、ウエハW上に露光マスク１４のマスクパターンを所定の倍率で投影する投影光学系３５と、ウエハWの上面の傾斜角を計測する計測部３０と、傾斜角に基づいてウエハ載置台２３の傾きを調節することにより、投影光学系３５の焦点面にウエハWの上面を合わせる制御部２８とを有し、制御部２８は、傾斜角に応じた補正量で倍率を補正する露光装置による。 （もっと読む）

【課題】
保持された基板の平坦度を改善する有用な技術を提供する。
【解決手段】
基板であるガラスプレート（３６）を保持する基板保持装置であって、ガラスプレート（３６）を引きつけて保持し、ガラスプレート（３６）に接する複数の領域を囲んで形成された保持台であるチャック（３５）と、前記複数の領域それぞれに対応して配置され、ガラスプレート（３６）に力を加えてガラスプレート（３６）を変形させるアクチュエータである吸気口（４）、排気口（５）と、を有することを特徴とする基板保持装置。 （もっと読む）

【課題】 光学部材の変動に影響されずに被検面の面位置を高精度に検出する。
【解決手段】 第１パターンからの第１測定光および第２パターンからの第２測定光を被検面（Ｗａ）へ導いて第１パターンの中間像および第２パターンの中間像を投射する送光光学系（４〜９）と、被検面によって反射された第１測定光および第２測定光を第１観測面（２３ａ）および第２観測面（２３ａ）へ導いて第１パターンの観測像および第２パターンの観測像を形成する受光光学系（２９〜２４）と、第１パターンの観測像および第２パターンの観測像の各位置情報を検出し、各位置情報に基づいて被検面の面位置を算出する検出部（２３〜２１，ＰＲ）とを備えている。送光光学系は、第１測定光の被検面への入射面に沿った第１パターンの中間像の投射倍率と、第２測定光の被検面への入射面に沿った第２パターンの中間像の投射倍率とを異ならせる。 （もっと読む）

【課題】容器および加工装置の滑り性の評価を正しく行うことができる滑り性試験装置、および滑り性試験方法を目的とする。
【解決手段】位置決めピンを嵌める３つの断面Ｖ字状または断面Ｕ字状をした位置決め溝２４が底面に設けられた容器２２における、位置決め溝２４と位置決めピンとの滑り性を評価する滑り性試験装置１であって、３つの位置決め溝２４のいずれかに嵌めて、位置決め溝２４の幅方向および鉛直方向に移動可能な測定用ピン７と、測定用ピン７を、測定用ピン７が嵌まる位置決め溝２４の幅方向および鉛直方向に移動させる移動部４と、位置決め溝２４の最深部２５から測定用ピン７の頂部をずらして位置決め溝２４に嵌める際の、測定用ピン７に掛かる最大荷重を測定する測定部とを有することを特徴とする滑り性試験装置１。 （もっと読む）