【課題】大型基板を複数の基板保持部で保持する露光装置において、隣接する基板保持部の間の段差と基板保持部全体の平面度を精度良く補正できる技術の実現。
【解決手段】投影光学系を介して原版のパターンを基板に露光する露光装置であって、前記基板を保持する基板保持面が複数の領域に分割されている基板保持部と、前記基板保持部の前記複数の領域のそれぞれの姿勢及び位置を調整する駆動部と、前記基板保持部に保持された前記基板の平面度を計測する計測部と、前記計測部によって計測された結果に基づいて、前記駆動部を駆動する制御部とを有し、前記制御部は、前記複数に分割された領域のうち、隣接する領域の端部の間の段差を小さくし、且つ前記複数の領域で構成される基板保持面が平坦となるように前記駆動部を駆動する。 （もっと読む）

【課題】切削量の要求精度（±１μｍ以内）を満たしつつコストを低減できる半導体装置の金属電極形成方法及び金属電極形成装置を提供する。
【解決手段】裏面１１ｂの形状を反映して表面部１１ａの凹凸差が増大した半導体基板１１の凹凸差を低減すべく、表面部の表面形状データを取得し、このデータに基づいて変形手段により半導体基板に変位を与え、切削面Ｐと半導体基板の表面部との距離が切削量の要求精度の範囲内になるように変形させる。変形手段として、変位をそれぞれ制御可能な複数個のアクチュエータ２４ａを用い、各アクチュエータを、吸着ステージの裏面に当接してそれぞれ設けるとともに、その配置間隔を半導体基板の厚さ分布の空間周波数の最小波長に対し、１／２よりも大きく１以下とする。そして、変形させた半導体基板を吸着ステージに吸着固定したまま、切削面において切削加工を行い、金属膜をパターニングして金属電極１５を形成する。 （もっと読む）

【課題】ワークに部分的な反りや撓みが発生したときに、これを検知して補正できるワーク浮上装置を提供する。
【解決手段】ワークを浮上させるための流体を噴出する流体噴出体をワークの進行方向に所定間隔で配設し、ワークを浮上させた状態で移動させる搬送装置を設け、前記所定間隔で配設された流体噴出体の間にはそれぞれセンサを設け、これによりそれぞれのセンサが設けられた垂直位置におけるワークの浮上距離を計測可能とし、この複数のセンサでワークの浮上距離を同時に計測する同時計測処理を実行するとともに、この同時計測処理によって計測されたすべてのセンサの計測結果の平均値を算出し、特定のセンサがこの平均値と比較して所定の閾値を超えて相違する計測結果を計測した場合には、当該特定のセンサから見てワークの進行方向側に設けられた直近の流体噴出体が噴出する流体の流量または圧力を調節する流体調節処理を行うようにした。 （もっと読む）

【課題】基板ホルダにおける基板載置面の平面度を迅速に調整する。
【解決手段】基板ステージＰＳＴは、基板ホルダＰＨの下面を押圧して基板ホルダＰＨの上面を上方に押し上げる押しネジ８１と、基板ホルダＰＨを微動ステージ２１に引き寄せることにより基板ホルダＰＨの上面をへこませる引きネジ８２と、を含むネジユニット８３を複数有している。従って、基板ホルダＰＨ上面の平面度の計測と並行して、その複数のネジユニット８３を適宜用いて基板ホルダＰＨの平面度を調整できる。 （もっと読む）

【課題】 基板を位置合わせして重ね合わせる場合に、面と面を接触させるときに互いの面の傾きが大きいと、その後実行される倣い動作において繰り返される試行動作の回数が増えてしまい、装置としてのスループットの低下を招いていた。
【解決手段】 基板重ね合わせ装置は、第１基板を保持する第１ステージと、第１基板に対向して配置される第２基板を保持する第２ステージと、第１ステージに保持された第１基板の接合面である第１接合面と、第２ステージに保持された第２基板の接合面である第２接合面の相対的な傾きを取得する取得部と、第１ステージおよび第２ステージの少なくとも一方を、取得部が取得した傾きに基づいて、第１接合面と第２接合面が互いに平行となるように駆動する駆動部とを備える。 （もっと読む）

【課題】振動の影響を受けることなく位置合わせする。
【解決手段】定盤から支持されて、第一基板を保持する第一ステージと、定盤から支持されて、第一ステージに保持された第一基板に対向させて第二基板を保持する第二ステージと、第二ステージまたは第二ステージに保持された第二基板を観察する第一顕微鏡と、第一ステージまたは第一ステージに保持された第一基板を観察する第二顕微鏡と、定盤から第一ステージへの振動伝播を抑制する第一除振部とを備え、第一顕微鏡および第二顕微鏡による観察から検出した相対位置に基づいて第一ステージ及び第二ステージの少なくとも一方を移動させることにより、第二ステージに保持された第二基板と、第一ステージに保持された第一基板とを互いに位置合わせする位置合わせする。 （もっと読む）

【課題】ウエハのエッジ部まで精度よく露光する。
【解決手段】フォーカス測定光ＥＬを照射するショット領域Ｓが、ウエハ６のエッジ付近の予め定められた領域にかからないショット領域Ｓである場合には、所定数のスリット状領域ＳＬおきに露光面の高さを測定し、ウエハ６のエッジ付近の予め定められた領域にかかるショット領域Ｓである場合には、ウエハ６のエッジ付近の予め定められた領域にかからないショット領域Ｓに比べて、多くのスリット状領域ＳＬの露光面の高さを測定する走査型露光装置。 （もっと読む）

【課題】クランプ時に基板に無理な力が生じることにより発生する課題を解決する装置の提供。
【解決手段】大型ガラス基板等の基板０をその保持高さを精密に維持しつつ面内方向に自由に移動できるように案内する基板案内手段と、当該基板案内手段に保持された前記基板を面内の特定の方向に移動させるための基板駆動手段とを具備してなり、基板駆動手段が、大型ガラス基板等の基板を把持するための複数のクランプ部と、これらのクランプ部を同期させて駆動することにより、基板を基板案内手段に保持させつつ、特定方向に移動させ位置決めを行う基板駆動部とを具備してなる基板移送装置４において、クランプ部２１により基板０をクランプした際に、その基板０に無理な力が作用しないように、クランプ部２１を基板０の面外方向に逃がすための逃がし機構５９をさらに備える。 （もっと読む）

【課題】パーティクルの発生を抑制するとともに交換部品及び交換回数の低減を図ることができる真空処理装置及び基板搬送装置並びに成膜方法を提供する。
【解決手段】基板搬送装置２は、基板Ｇを垂直姿勢で保持して、搬送レール６上を搬送可能なキャリア部材４を備えており、キャリア部材４に取付けられたキャリア側ガイドマグネット１５，１６，１７，１８が、搬送レール側６に取付けられたレール側ガイドマグネット２１，２２，２３，２４から水平方向の斥力を常時受けることで、キャリア部材４は左右の搬送レール６側と非接触状態で移動できる。また、レール側ガイドマグネット２１，２３を、搬送空間Ｔとプロセス空間Ｐとの境界部分に配置することでパーティクルの除去を行う。 （もっと読む）

【課題】保護テープの剥離方向がいずれの方向であっても、適正な圧力でワークの表面の保護テープに剥離テープを貼着すること。
【解決手段】本発明のある実施の形態において、保護テープ剥離装置は、表面に保護テープ２３が貼着されたワーク２を保持する保持手段１上にワーク２が保持されていない状態で、保護テープ２３の剥離方向に応じた基準面の位置と圧着部材３５との接触による通電を検知することによって剥離方向に応じた基準面の高さ位置を検出する高さ位置検出機構を備える。また、剥離方向に応じた基準面の高さ位置と、予め定められる剥離テープ３１、ワーク２、ダイシングテープ２２および保護テープ２３の厚みとをもとに、下端面によって保護テープ２３の非粘着面を押圧する際の圧着部材送り機構の駆動量を制御する制御手段を備える。 （もっと読む）

【課題】各吸着コレットの高さ調整を短時間でかつ高い精度で行うことができる電子部品用搬送装置を提供する。
【解決手段】ターンテーブル２と、複数の吸着コレット１３と、空気圧装置１８と、昇降装置１４と、吸着コレット１３の下降量を制御する制御装置２１とを備える。制御装置２１は、吸着コレット１３の基準高さを昇降装置１４とは別の検出系を用いて検出する高さ検出部３８を有する。制御装置２１は、各吸着コレット１３の基準高さと、昇降装置１４によって検出された各吸着コレット１３の高さとが一致するように吸着コレット１３毎の下降量を補正する補正部３９を備えている。 （もっと読む）

【課題】基板を搭載したチャックをステージにより移動して、光ビームによる基板の走査を行う際、基板の表面の高さが変動しても、パターンの描画を精度良く行う。
【解決手段】チャック１０の高さを調節する高さ調節機構（Ｚ−チルト機構９）と、チャック１０に搭載された基板１の表面の高さの変動を検出する検出装置（レーザー変位計４７）とを設け、Ｘステージ５によりチャック１０を移動しながら、検出装置（レーザー変位計４７）によりチャック１０に搭載された基板１の表面の高さの変動を検出し、検出結果に基づき、光ビーム照射装置２０から照射された光ビームの焦点が基板１の表面に合う様に、高さ調節機構（Ｚ−チルト機構９）によりチャック１０の高さを調節する。Ｘステージ５に縦揺れ等が発生して基板１の表面の高さが変動しても、パターンの描画が精度良く行われる。 （もっと読む）

【課題】高い位置合わせ精度を満たすために位置合わせ時間が増加した場合においても生産性を低下させない露光装置を提供する。
【解決手段】基板を保持して移動する基板ステージと、ショットのアライメントマークの位置を計測する位置計測手段と、基板の高さを計測する高さ計測手段と、を有し、これらの計測結果にしたがって基板ステージを位置決めして基板を露光する露光装置において、基板上の一部のショットに関してショット内の複数の計測箇所で高さ計測手段に高さの計測を行わせてショット表面の形状を算出し、各ショットのアライメントマークの位置を位置計測手段に計測させてショットの配列を算出し、アライメントマークの位置の計測に並行して高さの計測を行い基板の表面の形状を算出する処理手段を有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、レーザー光照射による改質現象を用いた電子部品の製造方法における加工精度を向上させることを目的とする。
【解決手段】本発明は、要切断部１２Ａに沿って高さ認識用マーカー１４を形成する第１の工程と、少なくとも高さ認識用マーカー１４形成部に光を照射し、高さ認識用マーカー１４形成部からの反射光の強度から高さ認識用マーカー１４形成部の高さ情報を算出し記憶する第２の工程と、記憶された高さ認識用マーカー１４形成部の高さ情報を用いてレーザー光の焦点距離を調整し、媒質１２の要切断部１２Ａにレーザー光を照射して要切断部１２Ａを改質させる第３の工程とを有し、レーザー可動ライン１１における高さ認識用マーカー非形成部１４Ｂにおいてはレーザー可動ラインにおいて高さ認識用マーカー非形成部１４Ｂの次に照射される高さ認識用マーカー形成部１４Ａの高さ情報を用いてレーザー光の焦点距離を事前調整しておくものである。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、カセットに収納された半導体ウエハ等の基板を所定の場所に移載する基板搬送装置に関し、カセット内へのハンド部の挿入時に、変形しているウエハにハンド部が接触するのを防止することを目的とする。
【解決手段】 カセットに上下方向に間隔を置いて水平に収容される基板の先端の上下位置を検出する検出手段と、前記基板の間に水平に挿抜され、下側の前記基板までの距離を測定する距離センサを備え、上面に上側の前記基板を保持する保持部を有するハンド部を備えた搬送手段と、前記検出手段および前記距離センサの検出情報に基づいて前記搬送手段を駆動し前記ハンド部を前記基板の間に挿抜させる制御手段と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板保持具の姿勢を検知することで、該基板保持具の傾きを起因とした該基板保持具と基板の破損を未然に防ぐ基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板を処理する処理室と、該処理室で基板を保持する基板保持具１４と、該基板保持具を載置する載置部と、該載置部に対して相対回転可能に設けられ相対回転により前記基板保持具を係合解除可能なロック部材と、該ロック部材と前記載置部とを相対回転させる回転部と、該回転部の回転動作を検出する検出部とを具備する。 （もっと読む）

【課題】基板の変形を抑制できるステージ装置を提供する。
【解決手段】ステージ装置は、上面に基板が載置される保持部材と、保持部材の下面の一部を支持する支持部材と、一端が支持部材に接続され、保持部材の下面のうち支持部材の外側に張り出した張出領域と対向するように配置されるアーム部材と、アーム部材の他端に配置され、張出領域と接触する接触部を有し、接触部を介して張出領域に力を加える力発生機構とを備えている。 （もっと読む）

【課題】大量の気体を必要とすることなく、非接触で物品を保持できるようにする。
【解決手段】物品保持装置２０は、ガラス基板Ｓに対向可能な物品対向部４２及び内部に設けられた空間を有するケース２２と、少なくとも１つのファン２４と、吸い込み口２６と、吹き出し口２８と、を備えている。ファン２４は、ケース２２の空間に配置され、気体を吸い込んで吹き出す。吸い込み口２６は、物品対向部４２に配置され、ファン２４の吸い込み側と連通する。吹き出し口２８は、吸い込み口２６と異なる位置で物品対向部４２に対向して配置され、ファン２４の吹き出し側と連通する。 （もっと読む）

【課題】基板処理装置の基板テーブルを軽量化できるとともに、基板テーブルを平坦形状に調節し、その平面度を維持することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板を載置する載置面を有する基板テーブルと、前記基板テーブルの載置面に載置された基板に対し、所定の処理を行なう基板処理部と、前記基板テーブルを支持するテーブル調整支持ユニットとを備え、前記テーブル調整支持ユニットは、前記基板テーブルの載置面が平坦形状になるように前記基板テーブルの平面度を調整する。 （もっと読む）

【課題】マスク撓みや光学系の歪みによって発生するデフォーカスを補正できる露光装置、フォーカス補正装置、及びそれを用いたデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】原版１に光を照射する照明光学系７と、該照明光学系７により照射された原版１のパターンを基板４上に投影する投影光学系３と、原版１を保持し駆動する原版ステージ２と、基板４を保持し移動する基板ステージ６とを有する露光装置３０であって、基板ステージ６は、基板４を吸着保持する複数のチャック５を有し、チャック５は、吸着部と、該吸着部を基板面に垂直な方向に駆動する駆動機構２１とを有する。 （もっと読む）