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Fターム[5F031MA17]の内容

Fターム[5F031MA17]に分類される特許

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【課題】ウエーハ及び/又は搬送手段を破損させてしまう恐れのないウエーハ収容カセットを提供することである。
【解決手段】複数のウエーハを収容可能なウエーハ収容カセット32であって、対向する一対の側壁33a,bの内面にウエーハを収容する左右で高さの揃った複数対の収容棚56が形成されるとともに、該収容棚56にウエーハを出し入れする開口部54を前面に有するカセット本体33と、該カセット本体33に着脱自在に装着されて該開口部54を覆うとともに、該複数対の収容棚56に対応する複数の貫通スリット64を有するウエーハ入れ補助板62と、該カセット本体33と該ウエーハ入れ補助板62とを着脱可能に係合する係合手段と、を具備したことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】プラズマ処理中に基板の縁部およびトレイに付着した副生成物の除去を行って、製品の品質を向上させる。
【解決手段】基板が収容される複数の基板収容孔が設けられ、この基板収容孔の内壁から突出する基板支持部を有するトレイを基板ステージのトレイ支持部上に載置するとともにそれぞれの基板保持部上に基板を載置して、基板保持部の端縁よりはみ出した基板の縁部と基板支持部とを離間させた状態とする基板載置工程と、チャンバ内を減圧するとともに処理ガスを供給して、それぞれの基板に対するプラズマ処理を行う第1プラズマ処理工程と、トレイおよびそれぞれの基板が基板ステージ上に載置された状態にて、チャンバ内を減圧するとともに処理ガスを供給してプラズマ処理を実施し、第1プラズマ処理工程の実施により基板の縁部と基板支持部とに付着した副生成物を除去する第2プラズマ処理工程とを実施する。 (もっと読む)


【課題】ワークを収容するカセットが支持台に載置されている間に外的要因によってカセットが支持台から落下することを防止する研削装置を提供する。
【解決手段】ワークを保持する保持手段と、保持手段に保持されたワークを研削加工する研削手段と、ワークを収容するカセット6aを支持するカセット支持台2aとを有する研削装置において、カセット支持台2aは、カセット6aが載置されることによって自動的にカセット6aを固定するカセット固定部22と、カセット固定部22によるカセット6aの固定を解除する固定解除部25とを有し、カセット6aがカセット支持台2aに載置されることによりカセット6aを自動的に固定するため、オペレータがカセット6aに接触する等の外的要因があってもカセット6aが支持台2aから落下することがない。 (もっと読む)


【課題】ウエハ等の搬送システムにおいて、予め装置に前室を設けた上で容器から、被搬送物を前室を通じることで装置区域に被搬送物を搬送していた。そのため、容器と前室との接続が複雑な機構によってなされていた。
【解決手段】搬送容器内の被搬送物を装置内に搬送するにあたり、搬送容器と装置を密着させることにより初めて前室に相当する連結室を形成するようにし、その連結室ごと装置内に被搬送物を搬送することにより、搬送容器と装置の構造を簡略化し、かつ確実に被搬送物を装置内に搬送するようにした。 (もっと読む)


【課題】IMSシステムにおいてポッドの蓋に付随する極微小な塵等のミニエンバイロンメント内への拡散を抑制するポッド及び該ポッドに応じたFIMSシステムを提供する。
【解決手段】ポッドの蓋外側面内に被係合部を配置し、ポッド開口周囲に配される該蓋が嵌合可能なフランジ部に対して外部空間より該被係合部にアクセス可能となる挿通孔を配する。ラッチ機構はフランジ部におけるポッド本体側の面においてフランジ側壁に平行な方向に摺動可能に支持され、該ラッチ機構における係合部は該挿通孔を介して被係合部に至り、該ラッチ機構の移動に応じて係合及び非係合の状態変化を為す。 (もっと読む)


【課題】真空成膜装置のチャンバ内を真空に保ったままでワークの表裏両面に交互に繰り返し成膜することができるワーク反転ユニットを提案するものである。
【解決手段】真空成膜装置の中で回転するドームに複数のワーク反転ユニット30が装着される。ドームは減速ギヤ装置とモータとによって回転され、急激な加速と減速とが可能である。ドームの下部位置には成膜物質を飛翔させる成膜物質発生源が配置される。ワークホルダ32には成膜物質が堆積されるガラス板31が固定される。ワーク反転ユニット30は、ワークホルダ32を回転自在に軸支するとともにワークホルダ32とギヤ連結されたウエイト41を備える。ウエイト41はドームが急激に加速又は減速されたときに自身の慣性力で移動する。ワークホルダ32は、ウエイト41の移動によって回転し支持枠35に形成された2つのストッパによって180°異なる姿勢に保持される。 (もっと読む)


【課題】基板の対する処理を高精度で行う。
【解決手段】 基板Pの下方には、基板Pの下面にエアを噴出する複数のエア浮上ユニット50が配置され、基板Pは、概ね水平となるように非接触支持される。また、基板Pは、定点ステージ40により被露光部位が下方から非接触保持され、その被露光部位の面位置がピンポイントで調整される。従って、基板Pに高精度で露光を行うことができ、かつ基板ステージ装置PSTの構成を簡単にすることができる。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、基板収容孔に基板を収容したトレイを基板サセプタ上に配置するプラズマ処理装置において、プラズマ処理終了後のトレイからの伝熱による基板の温度上昇を低減することを課題とする。
【解決手段】 トレイ15の厚み方向に貫通する基板収容孔19A〜19Dに基板2が収容される。チャンバ3内の誘電体板23は、トレイ15の下面15cを支持するとトレイ支持面28と、上向きに突出する基板載置部29A〜29Dを備え、静電吸着用電極40を内蔵している。基板収容孔19A〜19Dに収容された基板2を支持する基板支持部21の環状部74の上面74aは、基板収容孔19A〜19Dの孔壁15dの傾斜角度αよりも小さい傾斜角度βを有する。環状部74の上面74aにより基板2が線接触的又は点接触的な態様で支持される。 (もっと読む)


【課題】基板の検出時間を短縮することができ、このことにより基板の処理のスループットを向上させることができる基板処理システム、基板検出装置および基板検出方法を提供する。
【解決手段】基板処理システム1は、処理前の状態のウエハWの検出を行う第1の検出部40と、処理後の状態のウエハWの検出を行う第2の検出部50とを備えている。第1の検出部40は、収納容器80の各収納部分82にそれぞれ処理前の状態のウエハWが収納されているか否かを検出するとともに各収納部分82に収納された処理前の状態の各ウエハWの収納状態を検出するようになっている。第2の検出部50は、収納容器80の各収納部分82にそれぞれ処理後の状態のウエハWが収納されているか否かを一括して検出するようになっている。 (もっと読む)


【課題】、組み立ての自由度が高く、メンテナンス作業等の容易化を図ることができる搬送室を提供すること。
【解決手段】少なくとも処理室が接続される複数の側壁を有する筐体51と、筐体51の上部開口を塞ぐ蓋部材52とを具備し、蓋部材52は、筐体51内の搬送装置をメンテナンスするための開口73が設けられた固定蓋71と、固定蓋71の開口73を開閉可能に設けられた開閉蓋72とを有し、開閉蓋72は、上面が平坦であるとともに、内部に空間77を有し、空間77内に、筐体51内部の検出動作を行うセンサー80が取り付けられてユニット化されている。 (もっと読む)


【課題】カセットがカセットステージの所定の位置に設置されているか否かの判断を簡易に行う。
【解決手段】カセット検出システム202は、複数のウェハを収容するカセット240が設置されるカセットステージ210と、カセットステージ210上の所定の位置にカセット240が設置された場合にカセット240の存在を検知するカセットセンサ212と、カセットセンサ212と電気的に接続され、カセットセンサ212がカセット240の存在を検知した場合に点灯状態が変化するセンサランプ214と、センサランプ214を撮影可能に配置されたカメラ220と、カメラ220が撮影した画像におけるセンサランプ214の点灯状態に基づき、カセットステージ210上の所定の位置にカセット240が設置されているか否かを検出するカセット検出部250と、を含む。 (もっと読む)


【課題】FOUPに収納された基板に帯電した静電気を充分に除電する。
【解決手段】ミニエン装置1を構成するロードポート10の側板102には、FOUP3が装着される位置にFOUP連通開口部103が形成され、そのFOUP連通開口部103の近傍には、イオンエア放出口をFOUP連通開口部103に向けたイオンエア放出ノズル16が設けられている。ミニエン制御装置13は、FOUP装着第100へのFOUP3の装着を検知すると、イオナイザ15を駆動して、イオンエア放出ノズル16からイオンエアをFOUP連通開口部103、つまり、装着されたFOUP3の内部に向けて放出させる。そして、所定時間経過後、または、静電電位センサにより検出されるウェーハ31の静電電位が所定電位以下になったときには、イオナイザ15の駆動を停止して、イオンエア放出ノズル16からのイオンエアの放出を停止させる。 (もっと読む)


ウエハを支持デバイス(17)から分離する分離方法において、ウエハは接着剤によって支持デバイス(17)に固着されたウエハブロック(40)を切断して形成され、ウエハ自体はその一側において支持デバイス(17)に依然として接着されており、ウエハを伴う支持デバイス(17)は、一定の運動面に沿って接着剤除去デバイス(47)へと駆動される。支持デバイスは接着剤除去デバイス(47)内に留まるとともに、接着剤除去容器(55,55a,55b)において可動壁部(52a,52b)によって包囲される。接着剤除去容器(55,55a,55b)を形成してこれを閉塞した後、接着剤を除去するための溶剤が接着剤除去容器内およびウエハに対して供給され、接着剤を溶解し、そしてウエハを支持デバイス(17)から除去する。
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【課題 】FIMSシステムにおいてポッドの蓋等に付着する塵等のミニエンバイロンメント内への持込を抑制するFIMSシステムを提供する。
【解決手段】 FIMSシステムのポッド側開口部の対辺に隣接させて、ポッド−該開口部間の存在する空間領域に対して清浄気体を供給するガスノズルを配置する。当該ガスノズルに設けられたノズル開口は、ガスノズルの延在方向に対して垂直な平面内において少なくとも2つ配置され、且つ該位置関係を維持して延在方向にも連続的に設けられる。 (もっと読む)


【課題】高さが低く、収納ガラス基板を増やせる、構造が簡単で安価に作成できるカセット装置を用いて、ロボットハンド作業動作を低減して工程タクト短縮が行えるガラス基板移載システムを提供する。
【解決手段】複数のガラス基板を搬送・保管するカセット装置と、プロセス装置と前記カセット装置との間でガラス基板を移載する基板搬送用ロボットとを備えるガラス基板移載システムにおいて、カセット装置全体を昇降させる第一の昇降機構と、カセット装置内の基板受けの一部のみを昇降させる第二の昇降機構とを別に備え、第一の昇降機構によりカセット装置の移載対象基板受けの位置がプロセス装置のガラス基板パスラインの高さに合わせて昇降し、且つ、第二の昇降機構により基板搬送用ロボットのロボットハンドの基板受け渡し用フォークが挿入可能に移載対象基板受けの隣接する上下が開閉する。 (もっと読む)


【課題】収容棚に収容された収容器搬送するのに必要となる搬送時間を低減させたまま、複数の収容棚を完全に同期させて、収容器を搬送することができる収容器搬送装置を提供する。
【解決手段】棒状部材65を係合部材71で係合させ、エアシリンダ61で最上部の変位収容棚25aを移動させると、その棒状部材65が延出されたその他の変位収容棚25bが最上部の変位収容棚25aに連動して変位する。したがって、一つのエアシリンダ61の駆動でその他の変位収容棚25bを連動して変位させることができるので、複数の変位収容棚の移動を完全に同期させることができる。また、変位収容棚が変位して形成された空間を通して、搬送ロボットが固定棚列からFOUPをオープナーの載置棚へ搬送するので、FOUPを搬送するのに必要な搬送時間を低減させたまま、FOUPを搬送することができる。 (もっと読む)


【課題】ロードポートにおいて、アダプタを使用することなくフープとオープンカセットを設置できるようにする。また、基板収納容器判別センサを設けることなくフープとオープンカセットを判別する。また、オープンカセットのスロット数およびスロットピッチがフープと同等な場合においても使用できるようにする。
【解決手段】容器のクランプ手段が、フープK1の底面を固定するときの位置よりもさらに下降し、オープンカセットK2がステージに搭載されたときにオープンカセットK2の底面と接触しない位置まで下降可能となるよう構成した。 (もっと読む)


【課題】半導体製造装置の搬送空間における温度、湿度、圧力、気流などに影響を与えない小型のポッド開閉装置を提供すること。
【解決手段】ポッド開閉装置において、ポッド容器が搭載されるポートベース2と、ポッドプレートが搭載されるポートドア1と、ポートドア1を昇降させる昇降機構26と、を備え、昇降機構26が、ポートドア1及び基板が昇降される基板開放空間27から隔離された遮蔽空間24内に収容され、遮蔽空間24に、遮蔽空間24内の気体を遮蔽空間24外へ排出する第1の整流ファン15を備えた。 (もっと読む)


【課題】FIMSシステムにおいてポッド開口を蓋によって閉鎖する動作時に当該蓋が適切にポッドに固定されていることを検知する方法を提供する。
【解決手段】ポッドに対して蓋を固定するステップの後、FIMSシステムにおけるドアが蓋を保持した状態を維持したまま一旦ポッドをアンロード位置に向けて移動させる。ポッドが変位した場合には蓋の固定は不適切であると判定し、ポッドが変位しない場合には蓋の固定が適切であると判定する。 (もっと読む)


【課題】複数の基板が棚状に保持される保持具を、ボートエレベータ、基板移載用ステージ及び退避用ステージの間で移載するときに発生する位置ずれ量の累積を抑えること。
【解決手段】その上にウエハボート4を載置して、当該ウエハボート4をステージの基準載置位置に位置させるための位置合わせ手段6を設け、前記ウエハボート4が各ステージのいずれかに載置されたときを1回として、ウエハボート4毎にその載置回数を計数すると共に、前記位置合わせ手段6に前記ウエハボート4が載置されたときに前記載置回数を0にし、前記載置回数が予め設定された載置許容回数と一致したときにアラームを出力する。これにより作業者がウエハボート4の位置合わせを行なうタイミングを認識することができるので、ウエハボート4の位置ずれ量の累積が抑えられる。 (もっと読む)


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