基板処理システム、基板検出装置および基板検出方法
【課題】基板の検出時間を短縮することができ、このことにより基板の処理のスループットを向上させることができる基板処理システム、基板検出装置および基板検出方法を提供する。
【解決手段】基板処理システム１は、処理前の状態のウエハＷの検出を行う第１の検出部４０と、処理後の状態のウエハＷの検出を行う第２の検出部５０とを備えている。第１の検出部４０は、収納容器８０の各収納部分８２にそれぞれ処理前の状態のウエハＷが収納されているか否かを検出するとともに各収納部分８２に収納された処理前の状態の各ウエハＷの収納状態を検出するようになっている。第２の検出部５０は、収納容器８０の各収納部分８２にそれぞれ処理後の状態のウエハＷが収納されているか否かを一括して検出するようになっている。
【解決手段】基板処理システム１は、処理前の状態のウエハＷの検出を行う第１の検出部４０と、処理後の状態のウエハＷの検出を行う第２の検出部５０とを備えている。第１の検出部４０は、収納容器８０の各収納部分８２にそれぞれ処理前の状態のウエハＷが収納されているか否かを検出するとともに各収納部分８２に収納された処理前の状態の各ウエハＷの収納状態を検出するようになっている。第２の検出部５０は、収納容器８０の各収納部分８２にそれぞれ処理後の状態のウエハＷが収納されているか否かを一括して検出するようになっている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板処理システム、基板検出装置および基板検出方法に関し、とりわけ、収納容器に収納される、処理前および処理後の状態の基板の検出をそれぞれ行うような基板処理システム、基板検出装置および基板検出方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、半導体ウエハ等の基板（以下、ウエハという）の洗浄処理等の処理を行う基板処理システムとして、様々なタイプのものが知られている。このような基板処理システムにおいては、例えば複数のウエハを水平状態で上下方向に並ぶよう収納するフープ（ＦＯＵＰ、Ｆｒｏｎｔ Ｏｐｅｎ Ｕｎｉｆｉｅｄ Ｐｏｄ）等のウエハ収納容器（以下、収納容器という）が外部から基板処理システムに搬送され、この収納容器から処理前の複数のウエハが一括して取り出されて基板処理システムの処理部に送られ、この処理部で複数のウエハの洗浄処理等の処理が例えばバッチ方式で行われるようになっている。また、処理後の複数のウエハが処理部から空の収納容器に一括して搬送され、この処理後の複数のウエハが収納容器に収納されることとなる。
【０００３】
ここで、収納容器から処理前のウエハを取り出す前に、および処理後のウエハを収納容器に収納した後に、それぞれ収納容器内のウエハの検出を行うようになっている。具体的には、収納容器内のウエハの収納枚数を検出したり、各ウエハが収納容器内に正常に収納されているかを検出したりするようになっている。このような収納容器内のウエハを検出する検出装置としては、例えば特許文献１に示すようなものが知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−６５２１２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従来の基板処理システムにおいては、収納容器から処理前のウエハを取り出す前、および処理後のウエハを収納容器に収納した後の両方の場合において同じ検出装置が使用されるようになっている。また、従来の基板処理システムで使用される検出装置は、収納容器に収納されたウエハの検出を行う際に、収納容器の各収納部分にそれぞれウエハが収納されているか否かを検出するとともに各収納部分に収納された各ウエハの収納状態を検出するようになっている。なぜならば、処理前のウエハが収納された収納容器が外部から基板処理システムに搬送された場合に、収納容器に一部のウエハが正常に収納されていない場合があり、このような正常に収納されていないウエハが収納容器から取り出されると、後のウエハの処理工程において様々なトラブルが生じてしまうおそれがあるからである。
【０００６】
一方、処理後のウエハが処理部から収納容器に戻される際には、概してウエハは収納容器に正常な状態で収納される。このため、処理後のウエハを収納容器に収納した後に、収納容器のウエハを検出する際には、ウエハの収納枚数のみを検出すればよい。しかしながら、前述のように、検出装置は、収納容器から処理前のウエハを取り出す前、および処理後のウエハを収納容器に収納した後の両方で同じものが使用されるようになっているので、収納容器に収納された処理後のウエハの検出を行う場合でも、収納容器の各収納部分に収納された各ウエハの収納状態（ウエハが正常に収納されているか否か）が検出されてしまい、ウエハの検出時間が長くなってしまうという問題があった。
【０００７】
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、収納容器に収納された基板の検出を行う際に、処理前の状態の基板と処理後の状態の基板とをそれぞれ異なる検出部で検出するようにし、このため、それぞれの状態の基板に必要な検出結果を適切に得ることができるとともに、処理前の状態の基板と処理後の状態の基板とを同じ検出部で検出するような基板検出装置と比較して基板の検出時間を短縮することができ、このことにより基板の処理のスループットを向上させることができる基板処理システム、基板検出装置および基板検出方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の基板処理システムは、各々が１枚の基板を収納するような収納部分が上下方向に沿って複数設けられた収納容器から基板を取り出して処理を行うとともに処理された基板を前記収納容器に戻すような基板処理システムであって、基板を処理する処理部と、前記処理部により処理される前に前記収納容器の各収納部分にそれぞれ基板が収納されているか否かを検出するとともに前記各収納部分に収納された各基板の収納状態を検出する第１の検出部と、前記処理部により処理された後に前記収納容器の各収納部分にそれぞれ基板が収納されているか否かを一括して検出する第２の検出部と、を備えたことを特徴とする。
【０００９】
本発明の基板処理システムにおいては、前記第１の検出部は、前記収納容器の各収納部分に収納された各基板のスキャンを行い、スキャン結果に基づいて前記収納容器の各収納部分にそれぞれ基板が収納されているか否かを検出するとともに前記各収納部分に収納された各基板の収納状態を検出するようになっていてもよい。
【００１０】
この際に、前記第１の検出部は、上下方向に沿って互いに間隔を空けて設けられた複数の検出部分と、前記各検出部分を同期して上下方向に移動させる駆動機構とを有し、前記第１の検出部の各検出部分は、前記駆動機構により上下方向に移動させられている間に前記収納容器の各収納部分に収納された各基板の検出を行うようになっていてもよい。
【００１１】
この場合、前記第１の検出部の各検出部分は、前記各収納部分に収納された各基板を水平方向に沿って挟むよう設けられた発光素子および受光素子を有し、当該各検出部分は、前記駆動機構により上下方向に移動させられている間に前記発光素子から発せられ前記受光素子により受けられる光の受光状態に基づいて各基板の検出を行うようになっていてもよい。
【００１２】
本発明の基板処理システムにおいては、前記第２の検出部は、前記収納容器の各収納部分に対応して設けられた複数の検出部分を有し、前記第２の検出部の各検出部分は、それぞれ、対応する各収納部分に基板が収納されているか否かを検出するようになっていてもよい。
【００１３】
この際に、前記第２の検出部の各検出部分は、それぞれ、対応する各収納部分に収納された基板を挟むよう設けられた発光素子および受光素子を有していてもよい。
【００１４】
本発明の基板処理システムにおいては、前記収納容器内にアクセスするための開口を選択的に塞ぐ扉が設けられており、前記第１の検出部および前記第２の検出部は、それぞれ、前記扉が前記開口を開いているときに前記収納容器に収納された各基板の検出を行うようになっていてもよい。
【００１５】
この際に、前記扉は前記開口に対して進退するようになっており、前記第１の検出部および前記第２の検出部はそれぞれ前記開口に対して進退するようになっていてもよい。
【００１６】
本発明の基板処理システムにおいては、前記収納容器をそれぞれ載置するための２つの収納容器載置台を更に備え、第１の収納容器載置台に載置される収納容器は、前記処理部により処理される前の状態の基板を収納するようになっており、前記第１の収納容器載置台に載置される収納容器内にアクセスするための第１の開口を選択的に塞ぐ第１の扉が設けられているとともに、前記第１の検出部が前記第１の開口の近傍に設けられており、第２の収納容器載置台に載置される収納容器は、前記処理部により処理された後の状態の基板を収納するようになっており、前記第２の収納容器載置台に載置される収納容器内にアクセスするための第２の開口を選択的に塞ぐ第２の扉が設けられているとともに、前記第２の検出部が前記第２の開口の近傍に設けられていてもよい。
【００１７】
この際に、前記第１の検出部は、前記第１の開口に対して前記第１の扉の開く方向とは反対側に設けられていてもよい。
【００１８】
この場合、前記第１の検出部は前記第１の開口に対して進退するようになっており、前記第１の開口を前記第１の扉が開きながら前記第１の検出部が前記第１の開口に進出するようになっていてもよい。
【００１９】
本発明の基板処理システムにおいては、前記収納容器と前記処理部との間で基板を搬送する搬送部を更に備え、前記搬送部は、前記処理部により処理される前の状態の基板を前記収納容器から前記処理部に搬送するとともに、前記処理部により処理された後の状態の基板を前記処理部から前記収納容器に搬送するようになっていてもよい。
【００２０】
あるいは、前記処理部により処理される前の状態の基板を前記収納容器から前記処理部に一括して搬送する第１の搬送部と、前記処理部により処理された後の状態の基板を前記処理部から前記収納容器に一括して搬送する第２の搬送部と、を備えていてもよい。
【００２１】
本発明の基板検出装置は、各々が１枚の基板を収納するような収納部分が上下方向に沿って複数設けられた収納容器に収納される、処理前および処理後の状態の基板の検出をそれぞれ行う基板検出装置であって、前記収納容器の各収納部分にそれぞれ処理前の状態の基板が収納されているか否かを検出するとともに前記各収納部分に収納された処理前の状態の各基板の収納状態を検出する第１の検出部と、前記収納容器の各収納部分にそれぞれ処理後の状態の基板が収納されているか否かを一括して検出する第２の検出部と、を備えたことを特徴とする。
【００２２】
本発明の基板検出方法は、各々が１枚の基板を収納するような収納部分が上下方向に沿って複数設けられた収納容器に収納される、処理前および処理後の状態の基板の検出をそれぞれ行う基板検出装置による基板検出方法であって、前記収納容器に収納された、処理前の状態の基板の検出を第１の検出部により行い、この際に、前記収納容器の各収納部分にそれぞれ基板が収納されているか否かを検出するとともに前記各収納部分に収納された各基板の収納状態を検出する工程と、前記収納容器に収納された、処理後の基板の検出を第２の検出部により行い、この際に、前記収納容器の各収納部分にそれぞれ基板が収納されているか否かを一括して検出する工程と、を備えたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２３】
本発明の基板処理システム、基板検出装置および基板検出方法によれば、基板の検出時間を短縮することができ、このことにより基板の処理のスループットを向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の実施の形態の基板処理システムの構成の概略を示す概略平面図である。
【図２】図１に示す基板処理システムにおける壁部の開口に設けられた扉および基板検出装置の構成を示す斜視図である。
【図３】図２に示す基板検出装置における第１の検出部の上面図であって、（ａ）は、収納容器から退避しているときの状態を示す図であり、（ｂ）は、収納容器内に進出しているときの状態を示す図である。
【図４】図２に示す基板検出装置における第１の検出部の側面図であって、（ａ）は、収納容器から退避しているときの状態を示す図であり、（ｂ）は、収納容器内に進出しているときの状態を示す図である。
【図５】図２に示す基板検出装置における第２の検出部の上面図であって、（ａ）は、収納容器から退避しているときの状態を示す図であり、（ｂ）は、収納容器内に進出しているときの状態を示す図である。
【図６】図２に示す基板検出装置における第２の検出部の側面図であって、（ａ）は、収納容器から退避しているときの状態を示す図であり、（ｂ）は、収納容器内に進出しているときの状態を示す図であり、（ｃ）は、（ａ）に示すセンサ支持部材の拡大図である。
【図７】（ａ）〜（ｃ）は、図１に示す基板処理システムにおける収納容器、壁部における下側の開口に設けられた扉および第１の検出部の構成および動作を示す上面図である。
【図８】（ａ）は、収納容器の構成を示す斜視図であり、（ｂ）は、（ａ）に示す収納容器に収納されたウエハを上方から見たときの図である。
【図９】変形例に係る基板処理システムにおける収納容器、壁部の開口に設けられた扉および基板検出装置の構成を示す上面図である。
【図１０】図９に示す基板処理システムのＡ−Ａ矢視による側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。図１乃至図８は、本実施の形態に係る基板検出装置およびこの基板検出装置を備えた基板処理システムを示す図である。このうち、図１は、本実施の形態の基板処理システムの構成の概略を示す概略平面図であり、図２は、図１に示す基板処理システムにおける壁部の開口に設けられた扉および基板検出装置の構成を示す斜視図である。また、図３および図４は、それぞれ、図２に示す基板検出装置における第１の検出部の上面図および側面図である。また、図５および図６は、それぞれ、図２に示す基板検出装置における第２の検出部の上面図および側面図である。また、図７は、図１に示す基板処理システムにおける収納容器、壁部における下側の開口に設けられた扉および第１の検出部の構成および動作を示す上面図であり、図８は、収納容器の構成を示す図である。
【００２６】
まず、本実施の形態の基板処理システムについて図１を用いて説明する。図１に示すような基板処理システムは、例えば半導体ウエハＷ等の基板（以下、ウエハＷという）の洗浄をバッチ方式で（すなわち、複数枚（例えば５０枚）のウエハＷの洗浄を同時に）行うようになっている。
【００２７】
図１に示すように、基板処理システム１は、ウエハＷが水平状態で上下方向に並ぶよう収納される収納容器８０（図８参照）を搬入出し、また保管等する収納容器搬入出部２と、ウエハＷに所定の薬品を用いた洗浄処理および洗浄処理後の乾燥処理を行う洗浄処理部４と、収納容器搬入出部２と洗浄処理部４との間でウエハＷを搬送するインターフェース部３とから構成されている。
【００２８】
収納容器搬入出部２は、図８に示すような、所定枚数、具体的には例えば２５枚のウエハＷを水平状態で所定間隔を空けて上下方向に並ぶよう収納する収納容器８０を載置するための収納容器搬入出ステージ５と、収納容器８０を保管する収納容器ストック部６と、収納容器８０を搬送する収納容器搬送装置１２とを有している。ここで、図８に示すように、収納容器８０には、各々が１枚のウエハＷを収納するような複数の（具体的には、例えば２５個の）収納部分８２が上下方向に並ぶよう所定間隔を空けて複数設けられている。また、収納容器８０は、その一側面がウエハＷの搬入出口となっており、この搬入出口が蓋体（図示せず）により開閉可能となっている構造を有している。収納容器ストック部６には、収納容器８０を保持する複数の収納容器保持部材１３が設けられ、これらの収納容器保持部材１３により複数の収納容器８０を保持可能となっている。
【００２９】
収納容器搬入出ステージ５と収納容器ストック部６との間にはシャッター１４が設けられており、収納容器搬入出ステージ５に対する収納容器８０の搬入出操作の際以外にはシャッター１４が閉じた状態とされる。
【００３０】
図１および図２に示すように、収納容器ストック部６とインターフェース部３との間は壁部１６により仕切られており、この壁部１６には開口１６ａ、１６ｂが上下２段に形成されている。そして、これらの開口１６ａ、１６ｂの収納容器ストック部６側には、収納容器８０の蓋体が開口１６ａ、１６ｂに対向するように収納容器８０を載置するウエハ出し入れステージ１５が上下２段に設けられている。なお、図１では、上下２段のウエハ出し入れステージ１５のうち一方のウエハ出し入れステージ１５のみを図示している。また、上下２段の開口１６ａ、１６ｂのうち、下方の開口１６ａは、収納容器８０からウエハＷを搬出するためのウエハ搬出用であり、上方の開口１６ｂは、収納容器８０にウエハＷを搬入するためのウエハ搬入用である。
【００３１】
ウエハ出し入れステージ１５には、そこに載置された収納容器８０の蓋体の開閉を行うための蓋体開閉機構１７が設けられており、この蓋体開閉機構１７により、収納容器８０と壁部１６とが密着した状態で蓋体を開けて、収納容器８０内のウエハＷをインターフェース部３側へ搬出することが可能となっている。また、蓋体開閉機構１７により、収納容器８０と壁部１６とが密着した状態で蓋体を開けて、インターフェース部３側から空の収納容器８０内へウエハＷを搬入することも可能となっている。
【００３２】
収納容器保持部材１３は、壁部１６の近傍において高さ方向に複数段に、具体的には例えば２段または４段に設けられている。また、収納容器ストック部６は、洗浄処理前のウエハＷが収納された収納容器８０を一時的に保管し、また、ウエハＷが取り出されて内部が空となった収納容器８０を保管する機能を有している。
【００３３】
収納容器搬送装置１２は、多関節構造を有しており、その先端の支持アーム１２ａにより収納容器８０を支持して収納容器８０の搬送を行うようになっている。この収納容器搬送装置１２は、図２のＡ方向および高さ方向にも移動可能となっており、収納容器搬入出ステージ５、収納容器保持部材１３およびウエハ出し入れステージ１５の間で収納容器８０を搬送するようになっている。
【００３４】
図１および図２に示すように、インターフェース部３の下側の開口１６ａの近傍には、収納容器８０内の処理前のウエハＷの検出を行う第１の検出部４０が設けられている。また、インターフェース部３の上側の開口１６ｂの近傍には、収納容器８０内の処理後のウエハＷの検出を行う第２の検出部５０が設けられている。これらの第１の検出部４０および第２の検出部５０の具体的な構成については後述する。また、第１の検出部４０および第２の検出部５０により基板検出装置が構成されている。
【００３５】
インターフェース部３には、ウエハＷの移載を行うためのウエハ移載装置１９と、ウエハ搬入出部２０とがそれぞれ設けられている。
【００３６】
ウエハ移載装置１９は、ウエハ出し入れステージ１５に位置する収納容器８０に対するウエハＷの授受、および配列部２１に対するウエハＷの授受を行うものである。ウエハ移載装置１９は多軸アーム構造を有しており、その先端に、収納容器８０内のウエハＷの数と同じ数のウエハＷを保持するウエハ保持アーム１９ａを有している。ウエハ保持アーム１９ａにはウエハＷを保持可能な保持爪（図示せず）が設けられており、この保持爪によりウエハＷが保持された状態で、多軸アーム機構によりウエハ保持アーム１９ａが３次元空間で任意の位置および姿勢をとることができるようになっている。
【００３７】
ウエハ搬入出部２０は、インターフェース部３と洗浄処理部４との間でウエハＷの搬送を行うためのものであり、このウエハ搬入出部２０は、ロード（ｌｏａｄ）位置２０ａおよびアンロード（ｕｎｌｏａｄ）位置２０ｂと、配列部２１とをそれぞれ有している。
【００３８】
配列部２１は、ウエハ移載装置１９から供給される２つの収納容器分、例えば５０枚の未処理のウエハＷを収納容器８０のピッチの半分のピッチ（ハーフピッチ）に配列する第１配列機構２１ａと、ハーフピッチでウエハＷの洗浄処理を行った後、ハーフピッチのウエハＷを収納容器８０のピッチ（ノーマルピッチ）に戻す第２配列機構２１ｂとを有している。
【００３９】
ウエハ搬送装置２２は、ハーフピッチのウエハ保持溝が形成された３本のチャック（図示せず）を有しており、２つの収納容器分のウエハＷをハーフピッチで保持可能となっている。ウエハ搬送装置２２は、インターフェース部３から洗浄処理部４へ延びるガイドレール２３を図１における矢印Ｂで示す方向に沿って移動可能となっている。そして、ウエハ搬送装置２２は、ウエハ移載装置１９から垂直姿勢で処理前のウエハＷをウエハ搬入出部２０のロード位置２０ａで受け取り、ガイドレール２３に沿って洗浄処理部４へ移動してウエハＷを洗浄処理部４へ搬入するようになっている。また、ウエハ搬送装置２２は、洗浄処理が終了した処理後のウエハＷを洗浄処理部４から搬出して、ガイドレール２３に沿ってウエハ搬入出部２０のアンロード位置２０ｂまで移動し、そこで処理後のウエハＷをウエハ移載装置１９に受け渡すようになっている。
【００４０】
洗浄処理部４は、洗浄処理ユニット７と、乾燥ユニット８と、パーキングエリア９とから構成されており、インターフェース部３側から、乾燥ユニット８、洗浄処理ユニット７、パーキングエリア９の順で配置されている。そして、ウエハ搬送装置２２は、図１における矢印Ｂ方向に延びるガイドレール２３に沿って移動し、これらの間でウエハＷの受け渡しを行うようになっている。
【００４１】
パーキングエリア９は、処理前のウエハＷを待機させる場所である。洗浄処理または乾燥処理が、あるロットのウエハＷについて行われており、ウエハ搬送装置２２を運転させることが必要でない時間を利用して、次に洗浄処理を開始すべきウエハＷがパーキングエリア９へ搬送される。パーキングエリア９は洗浄処理ユニット７に隣接していることから、洗浄処理の開始にあたって、ウエハＷの移動時間を短縮することが可能となり、スループットを向上させることができる。
【００４２】
洗浄処理ユニット７には、図１に示すように、パーキングエリア９側から、第１の薬液槽３１、第１の水洗槽３２、第２の薬液槽３３、第２の水洗槽３４、第３の薬液槽３５、第３の水洗槽３６が順に配置されている。また、第１の薬液槽３１と第１の水洗槽３２の間でウエハＷを搬送するための第１の搬送装置３７、第２の薬液槽３３と第２の水洗槽３４との間でウエハＷを搬送するための第２の搬送装置３８、および、第３の薬液槽３５と第３の水洗槽３６との間でウエハＷを搬送するための第３の搬送装置３９がそれぞれ設けられている。
【００４３】
第１の薬液槽３１には、例えば、有機性汚れ除去や表面金属不純物除去を行うために、１３０℃前後に加熱されたＳＰＭ液（濃硫酸と過酸化水素水の混合溶液）が貯留されている。第２の薬液槽３３には、パーティクル等の付着物を除去するための薬液、具体的には例えばＳＣ−１液（アンモニアと過酸化水素と水の混合溶液）が貯留されている。第３の薬液槽３５には、ウエハＷの表面に形成された酸化膜をエッチングするためのエッチング液、具体的には例えば希フッ素が貯留されている。エッチング液としては、希フッ酸の他に、フッ酸とフッ化アンモニウムとの混合物（バッファドフッ酸（ＢＨＦ））を用いることもできる。
【００４４】
第１〜第３の水洗槽３２、３４、３６は、それぞれ第１〜第３の薬液槽３１、３３、３５による薬液処理によってウエハＷに付着した薬液を除去するためのものであり、例えば、オーバーフローリンスやクイックダンプリンス等の各種の水洗方法が用いられるようになっている。
【００４５】
第１の搬送装置３７は、上下方向に昇降可能な駆動機構を有しており、ウエハ搬送装置２２から受け渡されたウエハＷを下降させて第１の薬液槽３１に浸して所定時間経過後に引き上げ、次いで、ウエハＷを水平方向に移動させてウエハＷを第１の水洗槽３２に浸して所定時間保持し、引き上げるように動作する。第１の水洗槽３２での処理を終えたウエハＷは、一度、ウエハ搬送装置２２に戻された後、ウエハ搬送装置２２から第２の搬送装置３８へ搬送される。第２および第３の搬送装置３８、３９は、第１の搬送装置３７と同様の構造を有し、また、同様に動作するようになっている。
【００４６】
乾燥ユニット８には、水洗槽２４と、ウエハ搬送装置２２のチャックを洗浄するチャック洗浄機構２６が配設されており、水洗槽２４の上部には、例えばイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）の蒸気が供給されてウエハＷを乾燥する乾燥室（図示せず）が設けられている。また、水洗槽２４と乾燥室との間でウエハＷを搬送する搬送装置２５が設けられており、水洗槽２４で水洗されたウエハＷが搬送装置２５で引き上げられ、乾燥室においてＩＰＡにより乾燥されるようになっている。搬送装置２５は、水平方向の移動ができない他は前述した第１の搬送装置３７等と同様に構成されており、この搬送装置２５は、ウエハ搬送装置２２との間でウエハＷの受け渡しを行うことができるようになっている。
【００４７】
次に、基板検出装置の第１の検出部４０および第２の検出部５０について詳しく説明する。
【００４８】
まず、第１の検出部４０の構成について図３および図４を用いて説明する。ここで、図３は、第１の検出部４０の上面図であって、（ａ）は、収納容器８０から退避しているときの状態を示す図であり、（ｂ）は、収納容器８０内に進出しているときの状態を示す図である。また、図４は、第１の検出部４０の側面図であって、（ａ）は、収納容器８０から退避しているときの状態を示す図であり、（ｂ）は、収納容器８０内に進出しているときの状態を示す図である。この第１の検出部４０は、収納容器８０に収納された、洗浄処理部４により処理される前の状態のウエハＷの検出を行うようになっている。より詳細には、第１の検出部４０は、収納容器８０の各収納部分８２にそれぞれウエハＷが収納されているか否かを検出するとともに、各収納部分８２に収納された各ウエハＷの収納状態を検出するようになっている。ここで、ウエハＷの収納状態を検出するとは、各収納部分８２におけるウエハＷの有無に加えて、１つの収納部分８２において２枚以上のウエハＷが重なっていないか、あるいはウエハＷの一端が一の収納部分８２に載置されるとともにウエハＷの他端がこの一の収納部分８２の上方または下方にある他の収納部分８２に載置されることにより斜行状態となっていないか、等を検出することをいう。
【００４９】
第１の検出部４０は、収納容器８０の各収納部分８２に収納された各ウエハＷのスキャンを行い、スキャン結果に基づいて収納容器８０の各収納部分８２にそれぞれウエハＷが収納されているか否かを検出するとともに、各収納部分８２に収納された各ウエハＷの収納状態を検出するようになっている。ここで、各ウエハＷのスキャン方法については後述する。
【００５０】
図３および図４に示すように、第１の検出部４０は、ロータリーアクチュエータ４１と、ロータリーアクチュエータ４１の上部に取り付けられた支柱４２と、支柱４２の上部に設けられたモータ４３と、支柱４２に設けられたアーム４４とを有している。また、アーム４４には、上下方向に延びる２つのセンサ支持部材４６が間隔を空けて取り付けられており、一方のセンサ支持部材４６には発光素子４５ａが設けられているとともに他方のセンサ支持部材４６には受光素子４５ｂが設けられている。発光素子４５ａおよび受光素子４５ｂによりセンサ部分４５が構成されている。
【００５１】
なお、図３（ａ）および図４（ａ）に示す状態において、支柱４２に設けられたアーム４４は、壁部１６から遠ざかる方向かつ壁部１６に対して直交する方向に延びている。また、図３（ｂ）および図４（ｂ）に示す状態において、支柱４２に設けられたアーム４４は、壁部１６に設けられた開口１６ａに接近するとともに壁部１６に対して平行となる方向に延びている。
【００５２】
以下、第１の検出部４０の各構成要素について詳述する。
【００５３】
ロータリーアクチュエータ４１は、壁部１６に設けられた２つの開口１６ａ、１６ｂのうち下側の開口１６ａの幅方向における端部近傍に設けられている。また、前述のように、ロータリーアクチュエータ４１の上部には円柱形状の細長い支柱４２が上下方向に延びるよう設けられており、このロータリーアクチュエータ４１は支柱４２を正方向および逆方向の両方向に回転させるようになっている。より具体的には、ロータリーアクチュエータ４１は、支柱４２に取り付けられたアーム４４が図３（ａ）に示すような状態となる位置と、支柱４２に取り付けられたアーム４４が図３（ｂ）に示すような状態となる位置との間の範囲内で（すなわち、約９０°の範囲内で）支柱４２を回転させるようになっている。
【００５４】
図３および図４に示すように、アーム４４が支柱４２に設けられている。より具体的には、アーム４４は支柱４２に沿って上下方向（図４（ａ）（ｂ）の上下方向）に移動自在となるよう支柱４２に設けられており、支柱４２の上部に設けられたモータ４３がアーム４４を支柱４２に沿って上下方向に移動させるようになっている。アーム４４は、上下方向に延びる板状部材からなり、このアーム４４は第１の検出部４０を上方から見て支柱４２から径方向外方に延びるようになっている。また、第１の検出部４０を上方から見て、アーム４４はロータリーアクチュエータ４１により約９０°の範囲内で（図３（ａ）に示す位置と図３（ｂ）に示す位置との間の範囲内で）支柱４２を中心として正方向および逆方向の両方向に回転するようになっている。
【００５５】
また、アーム４４の幅方向（図３（ｂ）の左右方向）における支柱４２から遠い側の端部には２つのセンサ支持部材４６のうち一方のセンサ支持部材４６が上下方向に延びるよう取り付けられており、また、アーム４４の幅方向における中央領域には他方のセンサ支持部材４６が上方方向に延びるよう取り付けられている。ここで、図３および図４に示すように、２つのセンサ支持部材４６は互いに間隔を空けて対向している。
【００５６】
図４（ｂ）に示すように、２つのセンサ支持部材４６のうち一方のセンサ支持部材４６には、５つの発光素子４５ａが上下方向に等間隔で並ぶよう設けられている。また、２つのセンサ支持部材４６のうち他方のセンサ支持部材４６には、各発光素子４５ａに対応するよう、５つの受光素子４５ｂが上下方向に等間隔で並ぶよう設けられている。ここで、各発光素子４５ａおよび各受光素子４５ｂによりそれぞれセンサ部分４５が構成されている。すなわち、第１の検出部４０において、５つのセンサ部分４５が上下方向に等間隔で並ぶよう設けられている。
【００５７】
そして、センサ部分４５は、モータ４３によりアーム４４が上下方向のうちいずれか一方の方向に移動させられている間に、収納容器８０の各収納部分８２に収納された各ウエハＷのスキャンを行うようになっている。より具体的には、図３（ｂ）に示すように、各センサ部分４５の発光素子４５ａおよび受光素子４５ｂは、収納容器８０の各収納部分８２に収納された各ウエハＷを水平方向に沿って挟むよう設けられており、各センサ部分４５は、モータ４３によりアーム４４が上下方向のうちいずれか一方の方向に移動させられている間において発光素子４５ａから発せられ受光素子４５ｂにより受けられる光の状態に基づいて各ウエハＷの検出を行うようになっている。
【００５８】
更に詳細に説明すると、収納容器８０には上下方向に沿って２５個の収納部分８２が設けられており、また、上下方向に沿って等間隔で５つのセンサ部分４５が設けられているので、各センサ部分４５はモータ４３によって収納容器８０における５つの収納部分８２の範囲分だけ上下方向のうちいずれか一方の方向に移動させられる。そして、この間に、各センサ部分４５は、５つの収納部分８２についてそれぞれウエハＷが収納されているか否かを検出するとともに各収納部分８２に収納された各ウエハＷの収納状態を検出することとなる。
【００５９】
次に、第２の検出部５０の構成について図５および図６を用いて説明する。ここで、図５は、第２の検出部５０の上面図であって、（ａ）は、収納容器８０から退避しているときの状態を示す図であり、（ｂ）は、収納容器８０内に進出しているときの状態を示す図である。また、図６は、第２の検出部５０の側面図であって、（ａ）は、収納容器８０から退避しているときの状態を示す図であり、（ｂ）は、収納容器８０内に進出しているときの状態を示す図であり、（ｃ）は、（ａ）に示すセンサ支持部材５６の拡大図である。この第２の検出部５０は、収納容器８０に収納された、洗浄処理部４により処理された後の状態のウエハＷの検出を行うようになっている。より詳細には、第２の検出部５０は、収納容器８０の各収納部分８２にそれぞれウエハＷが収納されているか否かを一括して検出するようになっている。
【００６０】
図５および図６に示すように、第２の検出部５０は、ロータリーアクチュエータ５１と、ロータリーアクチュエータ５１の上部に取り付けられた支柱５２と、支柱５２に取り付けられアーム５３と、アーム５３に取り付けられたマッピングセンサ５４とを有している。ここで、マッピングセンサ５４は、収納容器８０の各収納部分８２に対応するよう、上下方向に沿って間隔を空けて設けられた複数、具体的には例えば２６個のセンサ支持部材５６を有している。そして、図６（ｃ）に示すように、隣り合う２つのセンサ支持部材５６のうち一方のセンサ支持部材５６には発光素子５５ａが設けられているとともに、他方のセンサ支持部材５６には前述の発光素子５５ａに対向するよう受光素子５５ｂが設けられている。ここで、発光素子５５ａおよび受光素子５５ｂは、第２の検出部５０が収納容器８０内に進出したときにこの収納容器８０の各収納部分８２に収納されたウエハＷを挟むよう配置されるようになっている。これらの発光素子５５ａおよび受光素子５５ｂによりセンサ部分５５が構成されている。
【００６１】
なお、図５（ａ）および図６（ａ）に示す状態において、支柱５２に設けられたアーム５３は、壁部１６から遠ざかる方向かつ壁部１６に対して直交する方向に延びている。また、図５（ｂ）および図６（ｂ）に示す状態において、支柱５２に設けられたアーム５３は、壁部１６に設けられた開口１６ｂに接近するとともに壁部１６に対して平行となる方向に延びている。
【００６２】
以下、第２の検出部５０の各構成要素について詳述する。
【００６３】
ロータリーアクチュエータ５１は、壁部１６に設けられた２つの開口１６ａ、１６ｂのうち上側の開口１６ｂの幅方向における端部近傍に設けられている。また、前述のように、ロータリーアクチュエータ５１の上部には円柱形状の細長い支柱５２が上下方向に延びるよう設けられており、このロータリーアクチュエータ５１は支柱５２を正方向および逆方向の両方向に回転させるようになっている。より具体的には、ロータリーアクチュエータ５１は、支柱５２に取り付けられたアーム５３が図５（ａ）に示すような状態となる位置と、支柱５２に取り付けられたアーム５３が図５（ｂ）に示すような状態となる位置との間の範囲内で（すなわち、約９０°の範囲内で）支柱５２を回転させるようになっている。
【００６４】
図５および図６に示すように、アーム５３が支柱５２に固定的に取り付けられている。より具体的には、アーム５３は、上下方向に延びる板状部材からなり、このアーム５３は第２の検出部５０を上方から見て支柱５２から径方向外方に延びるようになっている。また、第２の検出部５０を上方から見て、アーム５３はロータリーアクチュエータ５１により約９０°の範囲内で（図５（ａ）に示す位置と図５（ｂ）に示す位置との間の範囲内で）支柱５２を中心として正方向および逆方向の両方向に回転するようになっている。
【００６５】
また、アーム５３の幅方向（図５（ｂ）の左右方向）における支柱５２から遠い側の端部には上下方向に延びるマッピングセンサ５４が取り付けられている。前述のように、マッピングセンサ５４は、収納容器８０の各収納部分８２に対応するよう、上下方向に沿って間隔を空けて設けられた複数、具体的には例えば２６個のセンサ支持部材５６を有している。より詳細には、各センサ支持部材５６の間のスペースと、収納容器８０の各収納部分８２とが対応するようになっており、第２の検出部５０が収納容器８０内に進出したときに、収納容器８０の各収納部分８２に収納された各ウエハＷが各センサ支持部材５６の間のスペース内に位置するようになっている。
【００６６】
そして、図６（ｃ）に示すように、隣り合う２つのセンサ支持部材５６のうち一方のセンサ支持部材５６には発光素子５５ａが設けられているとともに、他方のセンサ支持部材５６には発光素子５５ａに対向するよう受光素子５５ｂが設けられている。ここで、発光素子５５ａおよび受光素子５５ｂは、第２の検出部５０が収納容器８０内に進出したときにこの収納容器８０の各収納部分８２に収納されたウエハＷを挟むよう配置されるようになっている。また、前述のように、一方のセンサ支持部材５６に設けられた発光素子５５ａおよびこの一方のセンサ支持部材５６と隣り合う他方のセンサ支持部材５６に設けられた受光素子５５ｂにより、センサ部分５５が構成されている。すなわち、センサ部分５５は、上下方向に並ぶようセンサ支持部材５６の数と同じ数（具体的には、例えば２５個）だけ設けられている。
【００６７】
図５（ｂ）および図６（ｂ）に示すように、第２の検出部５０が収納容器８０内に進出したときに、各センサ部分５５において発光素子５５ａから発せられた光が受光素子５５ｂにより受光されなかったときに、各センサ部分５５に対応する収納容器８０の収納部分８２にウエハＷが収納されていると判断されるようになっている。
【００６８】
また、図２に示すように、壁部１６の開口１６ａ、１６ｂにはそれぞれこれらの開口１６ａ、１６ｂを選択的に塞ぐための下側扉７０および上側扉７２が設けられている。各扉７０、７２は、図２に示すような各開口１６ａ、１６ｂを塞ぐ閉止位置と、各開口１６ａ、１６ｂから退避してこれらの開口１６ａ、１６ｂを開くような開口位置との間で往復移動を行うようになっている。より具体的には、下側扉７０および上側扉７２は、それぞれ、閉止位置と開口位置との間で水平方向に沿って往復移動を行うようになっている。そして、第１の検出部４０は、下側扉７０が下側の開口１６ａを開いているときにこの開口１６ａの近傍にある収納容器８０に収納された各ウエハＷの検出を行うようになっており、また、第２の検出部５０は、上側扉７２が上側の開口１６ｂを開いているときにこの開口１６ｂの近傍にある収納容器８０に収納された各ウエハＷの検出を行うようになっている。
【００６９】
次に、このような構成からなる基板処理システム１の動作について説明する。
【００７０】
まず、所定枚数、具体的には例えば２５枚のウエハＷが水平状態で収納された収納容器８０を、収納容器搬入出ステージ５に載せる。そして、収納容器搬入出ステージ５上の収納容器８０を収納容器搬送装置１２により搬入用のウエハ出し入れステージ１５へ搬送する。なお、複数の収納容器８０を繰り返し搬送する場合には、必要に応じて収納容器ストック部６の収納容器保持部材１３に一旦保管した後に搬送を行ってもよい。次に、ウエハ出し入れステージ１５に載置された収納容器８０について、蓋体開閉機構１７によりロックを外して蓋体を開け、次に第１の検出部４０により壁部１６の開口１６ａを介して収納容器８０内のウエハＷの検出を行う。
【００７１】
より具体的には、図７（ａ）に示すように下側扉７０が壁部１６の開口１６ａを塞いでいるとともに第１の検出部４０が収納容器８０から退避しているような（図３（ａ）および図４（ａ）参照）状態において、下側扉７０が水平方向に（図７（ａ）の下方に）移動し始めるとともに、ロータリーアクチュエータ４１が支柱４２を回転駆動させ始める。そして、図７（ｂ）に示すような状態を経て、図７（ｃ）に示すように、下側扉７０が開口位置に到達するとともに第１の検出部４０が収納容器８０内に進出する。すなわち、下側扉７０および第１の検出部４０は、下側扉７０が開口１６ａを開いたタイミングで第１の検出部４０が収納容器８０に収納された各ウエハＷの検出を行うよう、それぞれ開口１６ａに対して進退することとなる。第１の検出部４０が収納容器８０内に進出すると、第１の検出部４０は収納容器８０に対して図３（ｂ）および図４（ｂ）に示すような状態となり、収納容器８０の各収納部分８２に収納されたウエハＷは第１の検出部４０の各センサ部分４５の発光素子４５ａと受光素子４５ｂとの間に左右方向から挟まれる。そして、モータ４３がアーム４４を上下方向（図４（ｂ）における上下方向）のうちいずれか一方の方向に移動させ、その際に、各センサ部分４５によりウエハＷの検出が行われる。
【００７２】
より詳細には、１つのセンサ部分４５が５つの収納部分８２の範囲分を移動するよう、モータ４３がアーム４４を上下方向のうちいずれか一方の方向に移動させ、その間、受光素子４５ｂは、対応する発光素子４５ａから発せられる光を受光し続け、この受光状態に基づいて各収納部分８２にウエハＷが収納されているか否かを検出するとともに、ウエハＷの収納状態を検出する。ここで、各センサ部分４５がウエハＷの収納状態を検出するにあたり、前述のように、各センサ部分４５は、１つの収納部分８２において２枚以上のウエハＷが重なっていないか、あるいはウエハＷの一端が一の収納部分８２に載置されるとともにウエハＷの他端がこの一の収納部分８２の上方または下方にある他の収納部分８２に載置されることにより斜行状態となっていないか、等を検出する。
【００７３】
第１の検出部４０が収納容器８０内のウエハＷの検出を行った後、第１の検出部４０は、図３（ｂ）や図７（ｃ）に示すような収納容器８０内に進出した位置から、図３（ａ）や図７（ａ）に示すような収納容器８０から退避した位置に戻る。なお、この間、下側扉７０は開口１６ａを開け続けたままとなる。
【００７４】
その後、ウエハ移載装置１９のウエハ保持アーム１９ａを、開口１６ａを介してウエハ出し入れステージ１５上の収納容器８０内に挿入してウエハＷを取り出し、配列部２１の第１配列機構２１ａに受け渡す。この動作と同時に、蓋体開閉機構１７により、ウエハ出し入れステージ１５上のウエハＷを取り出した後の収納容器８０に蓋体を装着し、引き続きその収納容器８０を、収納容器搬送装置１２によりいずれかの収納容器保持部材１３へ搬送する。また、この動作の間に、下側扉７０は開口１６ａを塞ぐ位置に戻る。
【００７５】
その後、収納容器搬入出ステージ５上の次の収納容器８０を収納容器搬送装置１２により搬入用のウエハ出し入れステージ１５へ搬送する。次に、ウエハ出し入れステージ１５に載置された収納容器８０について、蓋体開閉機構１７によりロックを外して蓋体を開け、次に第１の検出部４０により壁部１６の開口１６ａを介して収納容器８０内のウエハＷの検出を行う。そして、ウエハ移載装置１９のウエハ保持アーム１９ａにより、その収納容器８０内のウエハＷを取り出して、第１配列機構２１ａへ受け渡す。このときに、第１配列機構２１ａでは、ハーフピッチで２つの収納容器分、具体的には例えば５０枚のウエハＷが保持された状態となり、これをウエハ搬送装置２２に受け渡す。
【００７６】
次に、このようにしてウエハ搬送装置２２に受け渡された２つの収納容器分のウエハＷを１ロットとして洗浄処理部４へ搬送し、所定の洗浄処理を行う。
【００７７】
この際に、ウエハＷを保持したウエハ搬送装置２２を、ガイドレール２３に沿って洗浄処理ユニット７の第１の薬液槽３１または第１の水洗槽３２の位置へ移動させ、ウエハＷを第１の搬送装置３７へ移し替え、ウエハＷの洗浄処理を開始する。ウエハＷの洗浄処理は、例えば、第１の薬液槽３１への浸漬と第１の水洗槽３２による洗浄、第２の薬液槽３３への浸漬と第２の水洗槽３４による洗浄、第３の薬液槽３５への浸漬と第３の水洗槽３６による洗浄の順で行われる。
【００７８】
洗浄処理ユニット７での洗浄処理が終了したウエハＷは、一度、ウエハ搬送装置２２に移し替えられた後、乾燥ユニット８の搬送装置２５へ移し替えられ、乾燥処理が施される。乾燥処理が終了したウエハＷは、ウエハ搬送装置２２により、ハーフピッチで２つの収納容器分、例えば５０枚垂直姿勢で搭載された状態でインターフェース部３のアンロード位置２０ｂまで搬送される。
【００７９】
アンロード位置２０ｂまで搬送されたウエハＷは、そこから配列部２１の第２配列機構２１ｂに２つの収納容器分のウエハＷがハーフピッチのまま受け渡される。このときに、第２配列機構２１ｂでは、ノーマルピッチで具体的には例えば２５枚のウエハＷが２つの収納容器分だけ保持された状態とするよう動作が行われる。
【００８０】
その後、収納容器搬送装置１２により搬出用のウエハ出し入れステージ１５に空の収納容器８０を載置し、蓋体開閉機構１７によりその蓋体を開けておく。次いで、ウエハ移載装置１９の準備動作を行った後、ウエハ保持アーム１９ａを配列部２１の第２配列機構２１ｂ内に挿入し、垂直姿勢で保持されている状態のウエハＷを取り出す。その後、搬出用のウエハ出し入れステージ１５上の空の収納容器８０に、壁部１６の開口１６ｂを介して、ウエハＷを保持したウエハ保持アーム１９ａを挿入し、ウエハＷを水平姿勢で搬入する。その後、ウエハ保持アーム１９ａを収納容器８０から出して、次に第２の検出部５０により壁部１６の開口１６ｂを介して収納容器８０内のウエハＷの検出を行う。
【００８１】
第２の検出部５０が収納容器８０内に進出すると、第２の検出部５０は収納容器８０に対して図５（ｂ）および図６（ｂ）に示すような状態となり、収納容器８０の各収納部分８２に収納されたウエハＷは第２の検出部５０の各センサ部分５５の発光素子５５ａと受光素子５５ｂとの間に上下方向から挟まれる。
【００８２】
そして、各センサ部分５５において、発光素子５５ａから発せられた光が受光素子５５ｂで受光されたか否かが検出され、受光素子５５ｂで受光されていないときには、各センサ部分５５に対応する収納部分８２にウエハＷが収納されていることが検出される。この際に、センサ部分５５は、収納容器８０の各収納部分８２に対応するよう複数設けられており、センサ部分５５の数は収納部分８２の数と同数となっているので、各センサ部分５５は、収納容器８０の各収納部分８２にウエハＷが収納されているか否かの検出を一括して行うことができる。
【００８３】
このようにして第２の検出部５０により収納容器８０内のウエハＷの検出が行われた後、蓋体開閉機構１７により収納容器８０の蓋体を閉じる。その後、洗浄処理が行われた後の状態のウエハＷを収納した収納容器８０は、収納容器搬送装置１２により収納容器搬入出ステージ５に搬送される。
【００８４】
以上のように本実施の形態の基板検出装置およびこの基板検出装置を備えた基板処理システム１によれば、処理前の状態のウエハＷの検出を行う第１の検出部４０と、処理後の状態のウエハＷの検出を行う第２の検出部５０とがそれぞれ設けられており、第１の検出部４０は、収納容器８０の各収納部分８２にそれぞれウエハＷが収納されているか否かを検出するとともに各収納部分８２に収納された各ウエハＷの収納状態を検出するようになっており、また、第２の検出部５０は、収納容器８０の各収納部分８２にそれぞれウエハＷが収納されているか否かを一括して検出するようになっている。このように、収納容器８０に収納されたウエハＷの検出を行う際に、処理前の状態のウエハＷと処理後の状態のウエハＷとで異なる検出部で検出するようになっているので、処理前の状態のウエハＷと処理後の状態のウエハＷを同じ検出部で検出するような基板検出装置と比較して、より適切なウエハＷの検出を行うことができる。
【００８５】
具体的に説明すると、処理前の状態のウエハＷについては、収納容器８０の各収納部分８２にそれぞれウエハＷが収納されているか否かを検出するとともに前記各収納部分８２に収納された各ウエハＷの収納状態を検出することにより、収納容器８０内のウエハＷの収納枚数を検出することができるとともに、後のウエハＷの処理工程においてウエハＷの収納状態が正常ではないことに起因して生じるような様々なトラブルの発生を抑制することができる。一方、処理後の状態のウエハＷについては、洗浄処理部４から収納容器８０に搬送される際に概してウエハＷの収納状態が異常となることはないため、単に収納容器８０の各収納部分８２にそれぞれウエハＷが収納されているか否かを検出するだけでよく、このような検出を一括して行うことによりウエハＷの検出に要する時間を大幅に短縮することができる。このように、収納容器８０に収納されたウエハＷの検出を行う際に、処理前の状態のウエハＷと処理後の状態のウエハＷとで異なる検出部で検出することにより、それぞれの状態のウエハＷに必要な検出結果を適切に得ることができるとともに検出時間を短縮することができ、このことによりウエハＷの処理のスループットを向上させることができる。
【００８６】
また、本実施の形態の基板検出装置および基板処理システム１においては、第１の検出部４０は、収納容器８０の各収納部分８２に収納された各ウエハＷのスキャンを行い、スキャン結果に基づいて収納容器８０の各収納部分８２にそれぞれウエハＷが収納されているか否かを検出するとともに各収納部分８２に収納された各ウエハＷの収納状態を検出するようになっている。
【００８７】
より具体的には、第１の検出部４０は、上下方向に沿って互いに間隔を空けて設けられた複数のセンサ部分４５と、各センサ部分４５を同期して上下方向に移動させるモータ４３とを有している。そして、第１の検出部４０の各センサ部分４５は、モータ４３により上下方向に移動させられている間に収納容器８０の各収納部分８２に収納された各ウエハＷの検出を行うようになっている。このように、センサ部分４５を複数設け、モータ４３により各センサ部分４５を同期して移動させることにより、センサ部分４５が１つしか設けられていない場合と比較してウエハＷの検出に要する時間を短縮することができる。
【００８８】
また、第１の検出部４０の各センサ部分４５は、各収納部分８２に収納された各ウエハＷを水平方向に沿って挟むよう設けられた発光素子４５ａおよび受光素子４５ｂを有している。そして、各センサ部分４５は、モータ４３により上下方向のうちいずれか一方の方向に移動させられている間に発光素子４５ａから発せられ受光素子４５ｂにより受けられる光の受光状態に基づいて各ウエハＷの検出を行うようになっている。
【００８９】
また、本実施の形態の基板検出装置および基板処理システム１においては、第２の検出部５０は、収納容器８０の各収納部分８２に対応して設けられた複数のセンサ部分５５を有し、第２の検出部５０の各センサ部分５５は、それぞれ、対応する各収納部分８２にウエハＷが収納されているか否かを検出するようになっている。このような構成により、第２の検出部５０は、確実に、収納容器８０の各収納部分８２にそれぞれウエハＷが収納されているか否かを一括して検出することができる。
【００９０】
より具体的には、第２の検出部５０の各センサ部分５５は、それぞれ、対応する各収納部分８２に収納されたウエハＷを上下方向から挟むよう設けられた発光素子５５ａおよび受光素子５５ｂを有し、各センサ部分５５において発光素子５５ａから発せられた光が受光素子５５ｂにより受光されなかったときに、対応する収納部分８２にウエハＷが収納されていると判断されるようになっている。なお、各センサ部分５５に設けられる発光素子および受光素子は、対応する各収納部分８２に収納されたウエハＷを上下方向から挟む代わりに、水平方向に沿ってウエハＷを挟むようになっていてもよい。
【００９１】
また、収納容器８０は、上下方向に沿って並ぶよう配置された２つのウエハ出し入れステージ１５のうち一方のウエハ出し入れステージ１５に載置されるようになっており、下側のウエハ出し入れステージ１５に載置される収納容器８０は、洗浄処理部４により処理される前の状態のウエハＷを収納するようになっており、この下側のウエハ出し入れステージ１５の近傍に第１の検出部４０が設けられている。また、上側のウエハ出し入れステージ１５に載置される収納容器８０は、洗浄処理部４により処理された後の状態のウエハＷを収納するようになっており、この上側のウエハ出し入れステージ１５の近傍に第２の検出部５０が設けられている。
【００９２】
また、下側のウエハ出し入れステージ１５に載置される収納容器８０内にアクセスするための下側の開口１６ａを選択的に塞ぐ下側扉７０、および上側のウエハ出し入れステージ１５に載置される収納容器８０内にアクセスするための上側の開口１６ｂを選択的に塞ぐ上側扉７２がそれぞれ設けられている。ここで、第１の検出部４０は、下側の開口１６ａに対して下側扉７０の開く方向とは反対側に設けられている。また、第２の検出部５０は、上側の開口１６ｂに対して上側扉７２の開く方向とは反対側に設けられている。そして、第１の検出部４０は、下側扉７０が下側の開口１６ａを開いているときに収納容器８０に収納された各ウエハＷの検出を行い、また、第２の検出部５０は、上側扉７２が上側の開口１６ｂを開いているときに収納容器８０に収納された各ウエハＷの検出を行うようになっている。
【００９３】
なお、下側扉７０および上側扉７２は、それぞれ開口１６ａ、１６ｂに対して進退するようになっており、また、第１の検出部４０および第２の検出部５０も、それぞれ開口１６ａ、１６ｂに対して進退するようになっている。
【００９４】
そして、図７（ａ）〜（ｃ）に示すように、下側の開口１６ａを下側扉７０が開きながら第１の検出部４０が下側の開口１６ａに進出するようになっている。このため、下側扉７０が開口１６ａを開いた直後に、収納容器８０内のウエハＷの検出を行うことができるようになり、ウエハＷの検出に要する時間をより一層短縮することができる。
【００９５】
なお、本実施の形態による基板検出装置や基板処理システム１は、上記の態様に限定されるものではなく、様々の変更を加えることができる。
【００９６】
例えば、収納容器８０を載置するウエハ出し入れステージ１５は、上下２段に設けられている代わりに、上下方向において１段のみ設けられるようになっていてもよい。このような基板処理システムについて、図９および図１０を用いて説明する。図９は、変形例に係る基板処理システムにおける収納容器、壁部の開口に設けられた扉および基板検出装置の構成を示す上面図であり、図１０は、図９に示す基板処理システムのＡ−Ａ矢視による側面図である。
【００９７】
ウエハ出し入れステージ１５が上下方向において１段のみ設けられる場合、壁部１６にはこのウエハ出し入れステージ１５に対応して一つの開口１６ｃのみが設けられることとなる。この開口１６ｃは、収納容器８０からウエハＷを搬出するためのウエハ搬出用、および収納容器８０にウエハＷを搬入するためのウエハ搬入用の両方に用いられる。
【００９８】
ウエハ出し入れステージ１５および開口１６ｃが上下方向において１段のみ設けられるような基板処理システムにおいては、図９に示すように、この開口１６ｃの幅方向（図９における上下方向）の両端部にそれぞれ第１の検出部４０および第２の検出部５０が設けられることとなる。また、壁部１６の開口１６ｃにはこの開口１６ｃを選択的に塞ぐための扉７４が設けられている。図１０に示すように、扉７４は、上下方向に沿って往復移動を行うようになっている。具体的には、この扉７４は、開口１６ｃを塞ぐ閉止位置（図１０の実線参照）と、開口１６ｃから退避してこの開口１６ｃを開くような開口位置（図１０の二点鎖線参照）との間で往復移動を行うようになっている。
【００９９】
図９および図１０に示すような変形例に係る基板処理システムにおいて、処理前のウエハＷが収納された収納容器８０がウエハ出し入れステージ１５に載置され、この載置された収納容器８０内のウエハＷの検査を行う場合の動作について説明する。まず、ウエハ出し入れステージ１５に載置された収納容器８０について、蓋体開閉機構１７によりロックを外して蓋体を開け、次に第１の検出部４０により壁部１６の開口１６ｃを介して収納容器８０内のウエハＷの検出を行う。
【０１００】
より具体的には、図９に示すように扉７４が壁部１６の開口１６ｃを塞いでいるとともに第１の検出部４０が収納容器８０から退避しているような状態において、扉７４が下方に移動し始めるとともに、ロータリーアクチュエータ４１が支柱４２を回転駆動させ始める。そして、扉７４が開口位置（図１０の二点鎖線参照）に到達するとともに第１の検出部４０が収納容器８０内に進出する。この際に、扉７４および第１の検出部４０は、扉７４が開口１６ｃを開いたタイミングで第１の検出部４０が収納容器８０に収納された各ウエハＷの検出を行うよう、それぞれ開口１６ｃに対して進退することとなる。第１の検出部４０が収納容器８０内に進出すると、収納容器８０の各収納部分８２に収納されたウエハＷは第１の検出部４０の各センサ部分４５の発光素子４５ａと受光素子４５ｂとの間に左右方向から挟まれる。そして、モータ４３がアーム４４を上下方向に移動させ、その際に、各センサ部分４５によりウエハＷのスキャンが行われる。このウエハＷのスキャン結果に基づいて、第１の検出部４０は、各収納部分８２にウエハＷが収納されているか否かを検出するとともに、ウエハＷの収納状態を検出する。
【０１０１】
第１の検出部４０が収納容器８０内のウエハＷの検出を行った後、第１の検出部４０は、収納容器８０内に進出した位置から、収納容器８０から退避した位置に戻る。なお、この間、扉７４は開口１６ｃを開け続けたままとなる。
【０１０２】
その後、ウエハ移載装置１９のウエハ保持アーム１９ａを、開口１６ｃを介してウエハ出し入れステージ１５上の収納容器８０内に挿入してウエハＷを取り出し、配列部２１の第１配列機構２１ａに受け渡す。この動作と同時に、蓋体開閉機構１７により、ウエハ出し入れステージ１５上のウエハＷを取り出した後の収納容器８０に蓋体を装着し、引き続きその収納容器８０を、収納容器搬送装置１２によりいずれかの収納容器保持部材１３へ搬送する。また、この動作の間に、扉７４は開口１６ｃを塞ぐ位置に戻る。
【０１０３】
次に、図９および図１０に示すような変形例に係る基板処理システムにおいて、処理後のウエハＷが収納容器８０に戻され、この収納容器８０内のウエハＷの検査を行う場合の動作について説明する。まず、収納容器搬送装置１２によりウエハ出し入れステージ１５に空の収納容器８０を載置し、蓋体開閉機構１７によりその蓋体を開けておく。次いで、ウエハ出し入れステージ１５に載置された空の収納容器８０に、壁部１６の開口１６ｃを介して、ウエハＷを保持したウエハ保持アーム１９ａを挿入し、ウエハＷを水平姿勢で搬入する。その後、ウエハ保持アーム１９ａを収納容器８０から出して、次に第２の検出部５０により壁部１６の開口１６ｃを介して収納容器８０内のウエハＷの検出を行う。
【０１０４】
第２の検出部５０が収納容器８０内に進出すると、収納容器８０の各収納部分８２に収納されたウエハＷは第２の検出部５０の各センサ部分５５の発光素子５５ａと受光素子５５ｂとの間に上下方向から挟まれる。
【０１０５】
そして、各センサ部分５５において、発光素子５５ａから発せられた光が受光素子５５ｂで受光されたか否かが検出され、受光素子５５ｂで受光されていないときには、各センサ部分５５に対応する収納部分８２にウエハＷが収納されていることが検出される。この際に、センサ部分５５は、収納容器８０の各収納部分８２に対応するよう複数設けられており、センサ部分５５の数は収納部分８２の数と同数となっているので、各センサ部分５５は、収納容器８０の各収納部分８２にウエハＷが収納されているか否かを一括して行うことができる。
【０１０６】
このようにして第２の検出部５０により収納容器８０内のウエハＷの検出が行われた後、蓋体開閉機構１７により収納容器８０の蓋体を閉じる。その後、洗浄処理が行われた後の状態のウエハＷを収納した収納容器８０は、収納容器搬送装置１２により収納容器搬入出ステージ５に搬送される。
【０１０７】
なお、収納容器８０を載置するウエハ出し入れステージ１５は、上下２段に設けられていたり、上下方向において１段のみ設けられていたりする代わりに、左右方向に並ぶよう２段に設けられるようになっていてもよい。この場合、壁部１６には左右方向に並ぶよう２つの開口が設けられることとなり、それぞれの開口を選択的に塞ぐための扉が２つ設けられることとなる。これらの扉は、図１０に示す扉７４と同様に、それぞれ上下方向に沿って往復移動を行うようになっている。具体的には、左右方向に並ぶよう設けられた２つの扉は、それぞれ、対応する開口を塞ぐ閉止位置と、対応する開口から退避して当該開口を開くような開口位置との間で往復移動を行うこととなる。そして、一方の開口に対して第１の検出部４０が進退を行うとともに、他方の開口に対して第２の検出部５０が進退を行うこととなる。
【０１０８】
次に、基板処理システムの他の変形例について説明する。他の変形例に係る基板処理システムにおいて、インターフェース部３には２つのウエハ移載装置が設けられている。そして、一方のウエハ移載装置は、ウエハ出し入れステージ１５に載置された収納容器８０内から処理前のウエハＷを取り出し、この取り出されたウエハＷを配列部２１の第１配列機構２１ａに搬送するようになっている。また、他方のウエハ移載装置は、配列部２１の第２配列機構２１ｂに保持された処理後のウエハＷを、ウエハ出し入れステージ１５に載置された空の収納容器８０内に搬送するようになっている。
【符号の説明】
【０１０９】
１ 基板処理システム
２ 収納容器搬入出部
３ インターフェース部
４ 洗浄処理部
５ 収納容器搬入出ステージ
６ 収納容器ストック部
７ 洗浄処理ユニット
８ 乾燥ユニット
９ パーキングエリア
１２ 収納容器搬送装置
１２ａ 支持アーム
１３ 収納容器保持部材
１４ シャッター
１５ ウエハ出し入れステージ
１６ 壁部
１６ａ、１６ｂ、１６ｃ 開口
１７ 蓋体開閉機構
１９ ウエハ移載装置
１９ａ ウエハ保持アーム
２０ ウエハ搬入出部
２０ａ ロード位置
２０ｂ アンロード位置
２１ 配列部
２１ａ 第１配列機構
２１ｂ 第２配列機構
２２ ウエハ搬送装置
２３ ガイドレール
２４ 水洗槽
２５ 搬送装置
２６ チャック洗浄機構
３１ 第１の薬液槽
３２ 第１の水洗槽
３３ 第２の薬液槽
３４ 第２の水洗槽
３５ 第３の薬液槽
３６ 第３の水洗槽
３７ 第１の搬送装置
３８ 第２の搬送装置
３９ 第３の搬送装置
４０ 第１の検出部
４１ ロータリーアクチュエータ
４２ 支柱
４３ モータ
４４ アーム
４５ センサ部分
４５ａ 発光素子
４５ｂ 受光素子
４６ センサ支持部材
５０ 第２の検出部
５１ ロータリーアクチュエータ
５２ 支柱
５３ アーム
５４ マッピングセンサ
５５ センサ部分
５５ａ 発光素子
５５ｂ 受光素子
５６ センサ支持部材
７０ 上側扉
７２ 下側扉
７４ 扉
８０ 収納容器
８２ 収納部分
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板処理システム、基板検出装置および基板検出方法に関し、とりわけ、収納容器に収納される、処理前および処理後の状態の基板の検出をそれぞれ行うような基板処理システム、基板検出装置および基板検出方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、半導体ウエハ等の基板（以下、ウエハという）の洗浄処理等の処理を行う基板処理システムとして、様々なタイプのものが知られている。このような基板処理システムにおいては、例えば複数のウエハを水平状態で上下方向に並ぶよう収納するフープ（ＦＯＵＰ、Ｆｒｏｎｔ Ｏｐｅｎ Ｕｎｉｆｉｅｄ Ｐｏｄ）等のウエハ収納容器（以下、収納容器という）が外部から基板処理システムに搬送され、この収納容器から処理前の複数のウエハが一括して取り出されて基板処理システムの処理部に送られ、この処理部で複数のウエハの洗浄処理等の処理が例えばバッチ方式で行われるようになっている。また、処理後の複数のウエハが処理部から空の収納容器に一括して搬送され、この処理後の複数のウエハが収納容器に収納されることとなる。
【０００３】
ここで、収納容器から処理前のウエハを取り出す前に、および処理後のウエハを収納容器に収納した後に、それぞれ収納容器内のウエハの検出を行うようになっている。具体的には、収納容器内のウエハの収納枚数を検出したり、各ウエハが収納容器内に正常に収納されているかを検出したりするようになっている。このような収納容器内のウエハを検出する検出装置としては、例えば特許文献１に示すようなものが知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−６５２１２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従来の基板処理システムにおいては、収納容器から処理前のウエハを取り出す前、および処理後のウエハを収納容器に収納した後の両方の場合において同じ検出装置が使用されるようになっている。また、従来の基板処理システムで使用される検出装置は、収納容器に収納されたウエハの検出を行う際に、収納容器の各収納部分にそれぞれウエハが収納されているか否かを検出するとともに各収納部分に収納された各ウエハの収納状態を検出するようになっている。なぜならば、処理前のウエハが収納された収納容器が外部から基板処理システムに搬送された場合に、収納容器に一部のウエハが正常に収納されていない場合があり、このような正常に収納されていないウエハが収納容器から取り出されると、後のウエハの処理工程において様々なトラブルが生じてしまうおそれがあるからである。
【０００６】
一方、処理後のウエハが処理部から収納容器に戻される際には、概してウエハは収納容器に正常な状態で収納される。このため、処理後のウエハを収納容器に収納した後に、収納容器のウエハを検出する際には、ウエハの収納枚数のみを検出すればよい。しかしながら、前述のように、検出装置は、収納容器から処理前のウエハを取り出す前、および処理後のウエハを収納容器に収納した後の両方で同じものが使用されるようになっているので、収納容器に収納された処理後のウエハの検出を行う場合でも、収納容器の各収納部分に収納された各ウエハの収納状態（ウエハが正常に収納されているか否か）が検出されてしまい、ウエハの検出時間が長くなってしまうという問題があった。
【０００７】
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、収納容器に収納された基板の検出を行う際に、処理前の状態の基板と処理後の状態の基板とをそれぞれ異なる検出部で検出するようにし、このため、それぞれの状態の基板に必要な検出結果を適切に得ることができるとともに、処理前の状態の基板と処理後の状態の基板とを同じ検出部で検出するような基板検出装置と比較して基板の検出時間を短縮することができ、このことにより基板の処理のスループットを向上させることができる基板処理システム、基板検出装置および基板検出方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の基板処理システムは、各々が１枚の基板を収納するような収納部分が上下方向に沿って複数設けられた収納容器から基板を取り出して処理を行うとともに処理された基板を前記収納容器に戻すような基板処理システムであって、基板を処理する処理部と、前記処理部により処理される前に前記収納容器の各収納部分にそれぞれ基板が収納されているか否かを検出するとともに前記各収納部分に収納された各基板の収納状態を検出する第１の検出部と、前記処理部により処理された後に前記収納容器の各収納部分にそれぞれ基板が収納されているか否かを一括して検出する第２の検出部と、を備えたことを特徴とする。
【０００９】
本発明の基板処理システムにおいては、前記第１の検出部は、前記収納容器の各収納部分に収納された各基板のスキャンを行い、スキャン結果に基づいて前記収納容器の各収納部分にそれぞれ基板が収納されているか否かを検出するとともに前記各収納部分に収納された各基板の収納状態を検出するようになっていてもよい。
【００１０】
この際に、前記第１の検出部は、上下方向に沿って互いに間隔を空けて設けられた複数の検出部分と、前記各検出部分を同期して上下方向に移動させる駆動機構とを有し、前記第１の検出部の各検出部分は、前記駆動機構により上下方向に移動させられている間に前記収納容器の各収納部分に収納された各基板の検出を行うようになっていてもよい。
【００１１】
この場合、前記第１の検出部の各検出部分は、前記各収納部分に収納された各基板を水平方向に沿って挟むよう設けられた発光素子および受光素子を有し、当該各検出部分は、前記駆動機構により上下方向に移動させられている間に前記発光素子から発せられ前記受光素子により受けられる光の受光状態に基づいて各基板の検出を行うようになっていてもよい。
【００１２】
本発明の基板処理システムにおいては、前記第２の検出部は、前記収納容器の各収納部分に対応して設けられた複数の検出部分を有し、前記第２の検出部の各検出部分は、それぞれ、対応する各収納部分に基板が収納されているか否かを検出するようになっていてもよい。
【００１３】
この際に、前記第２の検出部の各検出部分は、それぞれ、対応する各収納部分に収納された基板を挟むよう設けられた発光素子および受光素子を有していてもよい。
【００１４】
本発明の基板処理システムにおいては、前記収納容器内にアクセスするための開口を選択的に塞ぐ扉が設けられており、前記第１の検出部および前記第２の検出部は、それぞれ、前記扉が前記開口を開いているときに前記収納容器に収納された各基板の検出を行うようになっていてもよい。
【００１５】
この際に、前記扉は前記開口に対して進退するようになっており、前記第１の検出部および前記第２の検出部はそれぞれ前記開口に対して進退するようになっていてもよい。
【００１６】
本発明の基板処理システムにおいては、前記収納容器をそれぞれ載置するための２つの収納容器載置台を更に備え、第１の収納容器載置台に載置される収納容器は、前記処理部により処理される前の状態の基板を収納するようになっており、前記第１の収納容器載置台に載置される収納容器内にアクセスするための第１の開口を選択的に塞ぐ第１の扉が設けられているとともに、前記第１の検出部が前記第１の開口の近傍に設けられており、第２の収納容器載置台に載置される収納容器は、前記処理部により処理された後の状態の基板を収納するようになっており、前記第２の収納容器載置台に載置される収納容器内にアクセスするための第２の開口を選択的に塞ぐ第２の扉が設けられているとともに、前記第２の検出部が前記第２の開口の近傍に設けられていてもよい。
【００１７】
この際に、前記第１の検出部は、前記第１の開口に対して前記第１の扉の開く方向とは反対側に設けられていてもよい。
【００１８】
この場合、前記第１の検出部は前記第１の開口に対して進退するようになっており、前記第１の開口を前記第１の扉が開きながら前記第１の検出部が前記第１の開口に進出するようになっていてもよい。
【００１９】
本発明の基板処理システムにおいては、前記収納容器と前記処理部との間で基板を搬送する搬送部を更に備え、前記搬送部は、前記処理部により処理される前の状態の基板を前記収納容器から前記処理部に搬送するとともに、前記処理部により処理された後の状態の基板を前記処理部から前記収納容器に搬送するようになっていてもよい。
【００２０】
あるいは、前記処理部により処理される前の状態の基板を前記収納容器から前記処理部に一括して搬送する第１の搬送部と、前記処理部により処理された後の状態の基板を前記処理部から前記収納容器に一括して搬送する第２の搬送部と、を備えていてもよい。
【００２１】
本発明の基板検出装置は、各々が１枚の基板を収納するような収納部分が上下方向に沿って複数設けられた収納容器に収納される、処理前および処理後の状態の基板の検出をそれぞれ行う基板検出装置であって、前記収納容器の各収納部分にそれぞれ処理前の状態の基板が収納されているか否かを検出するとともに前記各収納部分に収納された処理前の状態の各基板の収納状態を検出する第１の検出部と、前記収納容器の各収納部分にそれぞれ処理後の状態の基板が収納されているか否かを一括して検出する第２の検出部と、を備えたことを特徴とする。
【００２２】
本発明の基板検出方法は、各々が１枚の基板を収納するような収納部分が上下方向に沿って複数設けられた収納容器に収納される、処理前および処理後の状態の基板の検出をそれぞれ行う基板検出装置による基板検出方法であって、前記収納容器に収納された、処理前の状態の基板の検出を第１の検出部により行い、この際に、前記収納容器の各収納部分にそれぞれ基板が収納されているか否かを検出するとともに前記各収納部分に収納された各基板の収納状態を検出する工程と、前記収納容器に収納された、処理後の基板の検出を第２の検出部により行い、この際に、前記収納容器の各収納部分にそれぞれ基板が収納されているか否かを一括して検出する工程と、を備えたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２３】
本発明の基板処理システム、基板検出装置および基板検出方法によれば、基板の検出時間を短縮することができ、このことにより基板の処理のスループットを向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の実施の形態の基板処理システムの構成の概略を示す概略平面図である。
【図２】図１に示す基板処理システムにおける壁部の開口に設けられた扉および基板検出装置の構成を示す斜視図である。
【図３】図２に示す基板検出装置における第１の検出部の上面図であって、（ａ）は、収納容器から退避しているときの状態を示す図であり、（ｂ）は、収納容器内に進出しているときの状態を示す図である。
【図４】図２に示す基板検出装置における第１の検出部の側面図であって、（ａ）は、収納容器から退避しているときの状態を示す図であり、（ｂ）は、収納容器内に進出しているときの状態を示す図である。
【図５】図２に示す基板検出装置における第２の検出部の上面図であって、（ａ）は、収納容器から退避しているときの状態を示す図であり、（ｂ）は、収納容器内に進出しているときの状態を示す図である。
【図６】図２に示す基板検出装置における第２の検出部の側面図であって、（ａ）は、収納容器から退避しているときの状態を示す図であり、（ｂ）は、収納容器内に進出しているときの状態を示す図であり、（ｃ）は、（ａ）に示すセンサ支持部材の拡大図である。
【図７】（ａ）〜（ｃ）は、図１に示す基板処理システムにおける収納容器、壁部における下側の開口に設けられた扉および第１の検出部の構成および動作を示す上面図である。
【図８】（ａ）は、収納容器の構成を示す斜視図であり、（ｂ）は、（ａ）に示す収納容器に収納されたウエハを上方から見たときの図である。
【図９】変形例に係る基板処理システムにおける収納容器、壁部の開口に設けられた扉および基板検出装置の構成を示す上面図である。
【図１０】図９に示す基板処理システムのＡ−Ａ矢視による側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。図１乃至図８は、本実施の形態に係る基板検出装置およびこの基板検出装置を備えた基板処理システムを示す図である。このうち、図１は、本実施の形態の基板処理システムの構成の概略を示す概略平面図であり、図２は、図１に示す基板処理システムにおける壁部の開口に設けられた扉および基板検出装置の構成を示す斜視図である。また、図３および図４は、それぞれ、図２に示す基板検出装置における第１の検出部の上面図および側面図である。また、図５および図６は、それぞれ、図２に示す基板検出装置における第２の検出部の上面図および側面図である。また、図７は、図１に示す基板処理システムにおける収納容器、壁部における下側の開口に設けられた扉および第１の検出部の構成および動作を示す上面図であり、図８は、収納容器の構成を示す図である。
【００２６】
まず、本実施の形態の基板処理システムについて図１を用いて説明する。図１に示すような基板処理システムは、例えば半導体ウエハＷ等の基板（以下、ウエハＷという）の洗浄をバッチ方式で（すなわち、複数枚（例えば５０枚）のウエハＷの洗浄を同時に）行うようになっている。
【００２７】
図１に示すように、基板処理システム１は、ウエハＷが水平状態で上下方向に並ぶよう収納される収納容器８０（図８参照）を搬入出し、また保管等する収納容器搬入出部２と、ウエハＷに所定の薬品を用いた洗浄処理および洗浄処理後の乾燥処理を行う洗浄処理部４と、収納容器搬入出部２と洗浄処理部４との間でウエハＷを搬送するインターフェース部３とから構成されている。
【００２８】
収納容器搬入出部２は、図８に示すような、所定枚数、具体的には例えば２５枚のウエハＷを水平状態で所定間隔を空けて上下方向に並ぶよう収納する収納容器８０を載置するための収納容器搬入出ステージ５と、収納容器８０を保管する収納容器ストック部６と、収納容器８０を搬送する収納容器搬送装置１２とを有している。ここで、図８に示すように、収納容器８０には、各々が１枚のウエハＷを収納するような複数の（具体的には、例えば２５個の）収納部分８２が上下方向に並ぶよう所定間隔を空けて複数設けられている。また、収納容器８０は、その一側面がウエハＷの搬入出口となっており、この搬入出口が蓋体（図示せず）により開閉可能となっている構造を有している。収納容器ストック部６には、収納容器８０を保持する複数の収納容器保持部材１３が設けられ、これらの収納容器保持部材１３により複数の収納容器８０を保持可能となっている。
【００２９】
収納容器搬入出ステージ５と収納容器ストック部６との間にはシャッター１４が設けられており、収納容器搬入出ステージ５に対する収納容器８０の搬入出操作の際以外にはシャッター１４が閉じた状態とされる。
【００３０】
図１および図２に示すように、収納容器ストック部６とインターフェース部３との間は壁部１６により仕切られており、この壁部１６には開口１６ａ、１６ｂが上下２段に形成されている。そして、これらの開口１６ａ、１６ｂの収納容器ストック部６側には、収納容器８０の蓋体が開口１６ａ、１６ｂに対向するように収納容器８０を載置するウエハ出し入れステージ１５が上下２段に設けられている。なお、図１では、上下２段のウエハ出し入れステージ１５のうち一方のウエハ出し入れステージ１５のみを図示している。また、上下２段の開口１６ａ、１６ｂのうち、下方の開口１６ａは、収納容器８０からウエハＷを搬出するためのウエハ搬出用であり、上方の開口１６ｂは、収納容器８０にウエハＷを搬入するためのウエハ搬入用である。
【００３１】
ウエハ出し入れステージ１５には、そこに載置された収納容器８０の蓋体の開閉を行うための蓋体開閉機構１７が設けられており、この蓋体開閉機構１７により、収納容器８０と壁部１６とが密着した状態で蓋体を開けて、収納容器８０内のウエハＷをインターフェース部３側へ搬出することが可能となっている。また、蓋体開閉機構１７により、収納容器８０と壁部１６とが密着した状態で蓋体を開けて、インターフェース部３側から空の収納容器８０内へウエハＷを搬入することも可能となっている。
【００３２】
収納容器保持部材１３は、壁部１６の近傍において高さ方向に複数段に、具体的には例えば２段または４段に設けられている。また、収納容器ストック部６は、洗浄処理前のウエハＷが収納された収納容器８０を一時的に保管し、また、ウエハＷが取り出されて内部が空となった収納容器８０を保管する機能を有している。
【００３３】
収納容器搬送装置１２は、多関節構造を有しており、その先端の支持アーム１２ａにより収納容器８０を支持して収納容器８０の搬送を行うようになっている。この収納容器搬送装置１２は、図２のＡ方向および高さ方向にも移動可能となっており、収納容器搬入出ステージ５、収納容器保持部材１３およびウエハ出し入れステージ１５の間で収納容器８０を搬送するようになっている。
【００３４】
図１および図２に示すように、インターフェース部３の下側の開口１６ａの近傍には、収納容器８０内の処理前のウエハＷの検出を行う第１の検出部４０が設けられている。また、インターフェース部３の上側の開口１６ｂの近傍には、収納容器８０内の処理後のウエハＷの検出を行う第２の検出部５０が設けられている。これらの第１の検出部４０および第２の検出部５０の具体的な構成については後述する。また、第１の検出部４０および第２の検出部５０により基板検出装置が構成されている。
【００３５】
インターフェース部３には、ウエハＷの移載を行うためのウエハ移載装置１９と、ウエハ搬入出部２０とがそれぞれ設けられている。
【００３６】
ウエハ移載装置１９は、ウエハ出し入れステージ１５に位置する収納容器８０に対するウエハＷの授受、および配列部２１に対するウエハＷの授受を行うものである。ウエハ移載装置１９は多軸アーム構造を有しており、その先端に、収納容器８０内のウエハＷの数と同じ数のウエハＷを保持するウエハ保持アーム１９ａを有している。ウエハ保持アーム１９ａにはウエハＷを保持可能な保持爪（図示せず）が設けられており、この保持爪によりウエハＷが保持された状態で、多軸アーム機構によりウエハ保持アーム１９ａが３次元空間で任意の位置および姿勢をとることができるようになっている。
【００３７】
ウエハ搬入出部２０は、インターフェース部３と洗浄処理部４との間でウエハＷの搬送を行うためのものであり、このウエハ搬入出部２０は、ロード（ｌｏａｄ）位置２０ａおよびアンロード（ｕｎｌｏａｄ）位置２０ｂと、配列部２１とをそれぞれ有している。
【００３８】
配列部２１は、ウエハ移載装置１９から供給される２つの収納容器分、例えば５０枚の未処理のウエハＷを収納容器８０のピッチの半分のピッチ（ハーフピッチ）に配列する第１配列機構２１ａと、ハーフピッチでウエハＷの洗浄処理を行った後、ハーフピッチのウエハＷを収納容器８０のピッチ（ノーマルピッチ）に戻す第２配列機構２１ｂとを有している。
【００３９】
ウエハ搬送装置２２は、ハーフピッチのウエハ保持溝が形成された３本のチャック（図示せず）を有しており、２つの収納容器分のウエハＷをハーフピッチで保持可能となっている。ウエハ搬送装置２２は、インターフェース部３から洗浄処理部４へ延びるガイドレール２３を図１における矢印Ｂで示す方向に沿って移動可能となっている。そして、ウエハ搬送装置２２は、ウエハ移載装置１９から垂直姿勢で処理前のウエハＷをウエハ搬入出部２０のロード位置２０ａで受け取り、ガイドレール２３に沿って洗浄処理部４へ移動してウエハＷを洗浄処理部４へ搬入するようになっている。また、ウエハ搬送装置２２は、洗浄処理が終了した処理後のウエハＷを洗浄処理部４から搬出して、ガイドレール２３に沿ってウエハ搬入出部２０のアンロード位置２０ｂまで移動し、そこで処理後のウエハＷをウエハ移載装置１９に受け渡すようになっている。
【００４０】
洗浄処理部４は、洗浄処理ユニット７と、乾燥ユニット８と、パーキングエリア９とから構成されており、インターフェース部３側から、乾燥ユニット８、洗浄処理ユニット７、パーキングエリア９の順で配置されている。そして、ウエハ搬送装置２２は、図１における矢印Ｂ方向に延びるガイドレール２３に沿って移動し、これらの間でウエハＷの受け渡しを行うようになっている。
【００４１】
パーキングエリア９は、処理前のウエハＷを待機させる場所である。洗浄処理または乾燥処理が、あるロットのウエハＷについて行われており、ウエハ搬送装置２２を運転させることが必要でない時間を利用して、次に洗浄処理を開始すべきウエハＷがパーキングエリア９へ搬送される。パーキングエリア９は洗浄処理ユニット７に隣接していることから、洗浄処理の開始にあたって、ウエハＷの移動時間を短縮することが可能となり、スループットを向上させることができる。
【００４２】
洗浄処理ユニット７には、図１に示すように、パーキングエリア９側から、第１の薬液槽３１、第１の水洗槽３２、第２の薬液槽３３、第２の水洗槽３４、第３の薬液槽３５、第３の水洗槽３６が順に配置されている。また、第１の薬液槽３１と第１の水洗槽３２の間でウエハＷを搬送するための第１の搬送装置３７、第２の薬液槽３３と第２の水洗槽３４との間でウエハＷを搬送するための第２の搬送装置３８、および、第３の薬液槽３５と第３の水洗槽３６との間でウエハＷを搬送するための第３の搬送装置３９がそれぞれ設けられている。
【００４３】
第１の薬液槽３１には、例えば、有機性汚れ除去や表面金属不純物除去を行うために、１３０℃前後に加熱されたＳＰＭ液（濃硫酸と過酸化水素水の混合溶液）が貯留されている。第２の薬液槽３３には、パーティクル等の付着物を除去するための薬液、具体的には例えばＳＣ−１液（アンモニアと過酸化水素と水の混合溶液）が貯留されている。第３の薬液槽３５には、ウエハＷの表面に形成された酸化膜をエッチングするためのエッチング液、具体的には例えば希フッ素が貯留されている。エッチング液としては、希フッ酸の他に、フッ酸とフッ化アンモニウムとの混合物（バッファドフッ酸（ＢＨＦ））を用いることもできる。
【００４４】
第１〜第３の水洗槽３２、３４、３６は、それぞれ第１〜第３の薬液槽３１、３３、３５による薬液処理によってウエハＷに付着した薬液を除去するためのものであり、例えば、オーバーフローリンスやクイックダンプリンス等の各種の水洗方法が用いられるようになっている。
【００４５】
第１の搬送装置３７は、上下方向に昇降可能な駆動機構を有しており、ウエハ搬送装置２２から受け渡されたウエハＷを下降させて第１の薬液槽３１に浸して所定時間経過後に引き上げ、次いで、ウエハＷを水平方向に移動させてウエハＷを第１の水洗槽３２に浸して所定時間保持し、引き上げるように動作する。第１の水洗槽３２での処理を終えたウエハＷは、一度、ウエハ搬送装置２２に戻された後、ウエハ搬送装置２２から第２の搬送装置３８へ搬送される。第２および第３の搬送装置３８、３９は、第１の搬送装置３７と同様の構造を有し、また、同様に動作するようになっている。
【００４６】
乾燥ユニット８には、水洗槽２４と、ウエハ搬送装置２２のチャックを洗浄するチャック洗浄機構２６が配設されており、水洗槽２４の上部には、例えばイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）の蒸気が供給されてウエハＷを乾燥する乾燥室（図示せず）が設けられている。また、水洗槽２４と乾燥室との間でウエハＷを搬送する搬送装置２５が設けられており、水洗槽２４で水洗されたウエハＷが搬送装置２５で引き上げられ、乾燥室においてＩＰＡにより乾燥されるようになっている。搬送装置２５は、水平方向の移動ができない他は前述した第１の搬送装置３７等と同様に構成されており、この搬送装置２５は、ウエハ搬送装置２２との間でウエハＷの受け渡しを行うことができるようになっている。
【００４７】
次に、基板検出装置の第１の検出部４０および第２の検出部５０について詳しく説明する。
【００４８】
まず、第１の検出部４０の構成について図３および図４を用いて説明する。ここで、図３は、第１の検出部４０の上面図であって、（ａ）は、収納容器８０から退避しているときの状態を示す図であり、（ｂ）は、収納容器８０内に進出しているときの状態を示す図である。また、図４は、第１の検出部４０の側面図であって、（ａ）は、収納容器８０から退避しているときの状態を示す図であり、（ｂ）は、収納容器８０内に進出しているときの状態を示す図である。この第１の検出部４０は、収納容器８０に収納された、洗浄処理部４により処理される前の状態のウエハＷの検出を行うようになっている。より詳細には、第１の検出部４０は、収納容器８０の各収納部分８２にそれぞれウエハＷが収納されているか否かを検出するとともに、各収納部分８２に収納された各ウエハＷの収納状態を検出するようになっている。ここで、ウエハＷの収納状態を検出するとは、各収納部分８２におけるウエハＷの有無に加えて、１つの収納部分８２において２枚以上のウエハＷが重なっていないか、あるいはウエハＷの一端が一の収納部分８２に載置されるとともにウエハＷの他端がこの一の収納部分８２の上方または下方にある他の収納部分８２に載置されることにより斜行状態となっていないか、等を検出することをいう。
【００４９】
第１の検出部４０は、収納容器８０の各収納部分８２に収納された各ウエハＷのスキャンを行い、スキャン結果に基づいて収納容器８０の各収納部分８２にそれぞれウエハＷが収納されているか否かを検出するとともに、各収納部分８２に収納された各ウエハＷの収納状態を検出するようになっている。ここで、各ウエハＷのスキャン方法については後述する。
【００５０】
図３および図４に示すように、第１の検出部４０は、ロータリーアクチュエータ４１と、ロータリーアクチュエータ４１の上部に取り付けられた支柱４２と、支柱４２の上部に設けられたモータ４３と、支柱４２に設けられたアーム４４とを有している。また、アーム４４には、上下方向に延びる２つのセンサ支持部材４６が間隔を空けて取り付けられており、一方のセンサ支持部材４６には発光素子４５ａが設けられているとともに他方のセンサ支持部材４６には受光素子４５ｂが設けられている。発光素子４５ａおよび受光素子４５ｂによりセンサ部分４５が構成されている。
【００５１】
なお、図３（ａ）および図４（ａ）に示す状態において、支柱４２に設けられたアーム４４は、壁部１６から遠ざかる方向かつ壁部１６に対して直交する方向に延びている。また、図３（ｂ）および図４（ｂ）に示す状態において、支柱４２に設けられたアーム４４は、壁部１６に設けられた開口１６ａに接近するとともに壁部１６に対して平行となる方向に延びている。
【００５２】
以下、第１の検出部４０の各構成要素について詳述する。
【００５３】
ロータリーアクチュエータ４１は、壁部１６に設けられた２つの開口１６ａ、１６ｂのうち下側の開口１６ａの幅方向における端部近傍に設けられている。また、前述のように、ロータリーアクチュエータ４１の上部には円柱形状の細長い支柱４２が上下方向に延びるよう設けられており、このロータリーアクチュエータ４１は支柱４２を正方向および逆方向の両方向に回転させるようになっている。より具体的には、ロータリーアクチュエータ４１は、支柱４２に取り付けられたアーム４４が図３（ａ）に示すような状態となる位置と、支柱４２に取り付けられたアーム４４が図３（ｂ）に示すような状態となる位置との間の範囲内で（すなわち、約９０°の範囲内で）支柱４２を回転させるようになっている。
【００５４】
図３および図４に示すように、アーム４４が支柱４２に設けられている。より具体的には、アーム４４は支柱４２に沿って上下方向（図４（ａ）（ｂ）の上下方向）に移動自在となるよう支柱４２に設けられており、支柱４２の上部に設けられたモータ４３がアーム４４を支柱４２に沿って上下方向に移動させるようになっている。アーム４４は、上下方向に延びる板状部材からなり、このアーム４４は第１の検出部４０を上方から見て支柱４２から径方向外方に延びるようになっている。また、第１の検出部４０を上方から見て、アーム４４はロータリーアクチュエータ４１により約９０°の範囲内で（図３（ａ）に示す位置と図３（ｂ）に示す位置との間の範囲内で）支柱４２を中心として正方向および逆方向の両方向に回転するようになっている。
【００５５】
また、アーム４４の幅方向（図３（ｂ）の左右方向）における支柱４２から遠い側の端部には２つのセンサ支持部材４６のうち一方のセンサ支持部材４６が上下方向に延びるよう取り付けられており、また、アーム４４の幅方向における中央領域には他方のセンサ支持部材４６が上方方向に延びるよう取り付けられている。ここで、図３および図４に示すように、２つのセンサ支持部材４６は互いに間隔を空けて対向している。
【００５６】
図４（ｂ）に示すように、２つのセンサ支持部材４６のうち一方のセンサ支持部材４６には、５つの発光素子４５ａが上下方向に等間隔で並ぶよう設けられている。また、２つのセンサ支持部材４６のうち他方のセンサ支持部材４６には、各発光素子４５ａに対応するよう、５つの受光素子４５ｂが上下方向に等間隔で並ぶよう設けられている。ここで、各発光素子４５ａおよび各受光素子４５ｂによりそれぞれセンサ部分４５が構成されている。すなわち、第１の検出部４０において、５つのセンサ部分４５が上下方向に等間隔で並ぶよう設けられている。
【００５７】
そして、センサ部分４５は、モータ４３によりアーム４４が上下方向のうちいずれか一方の方向に移動させられている間に、収納容器８０の各収納部分８２に収納された各ウエハＷのスキャンを行うようになっている。より具体的には、図３（ｂ）に示すように、各センサ部分４５の発光素子４５ａおよび受光素子４５ｂは、収納容器８０の各収納部分８２に収納された各ウエハＷを水平方向に沿って挟むよう設けられており、各センサ部分４５は、モータ４３によりアーム４４が上下方向のうちいずれか一方の方向に移動させられている間において発光素子４５ａから発せられ受光素子４５ｂにより受けられる光の状態に基づいて各ウエハＷの検出を行うようになっている。
【００５８】
更に詳細に説明すると、収納容器８０には上下方向に沿って２５個の収納部分８２が設けられており、また、上下方向に沿って等間隔で５つのセンサ部分４５が設けられているので、各センサ部分４５はモータ４３によって収納容器８０における５つの収納部分８２の範囲分だけ上下方向のうちいずれか一方の方向に移動させられる。そして、この間に、各センサ部分４５は、５つの収納部分８２についてそれぞれウエハＷが収納されているか否かを検出するとともに各収納部分８２に収納された各ウエハＷの収納状態を検出することとなる。
【００５９】
次に、第２の検出部５０の構成について図５および図６を用いて説明する。ここで、図５は、第２の検出部５０の上面図であって、（ａ）は、収納容器８０から退避しているときの状態を示す図であり、（ｂ）は、収納容器８０内に進出しているときの状態を示す図である。また、図６は、第２の検出部５０の側面図であって、（ａ）は、収納容器８０から退避しているときの状態を示す図であり、（ｂ）は、収納容器８０内に進出しているときの状態を示す図であり、（ｃ）は、（ａ）に示すセンサ支持部材５６の拡大図である。この第２の検出部５０は、収納容器８０に収納された、洗浄処理部４により処理された後の状態のウエハＷの検出を行うようになっている。より詳細には、第２の検出部５０は、収納容器８０の各収納部分８２にそれぞれウエハＷが収納されているか否かを一括して検出するようになっている。
【００６０】
図５および図６に示すように、第２の検出部５０は、ロータリーアクチュエータ５１と、ロータリーアクチュエータ５１の上部に取り付けられた支柱５２と、支柱５２に取り付けられアーム５３と、アーム５３に取り付けられたマッピングセンサ５４とを有している。ここで、マッピングセンサ５４は、収納容器８０の各収納部分８２に対応するよう、上下方向に沿って間隔を空けて設けられた複数、具体的には例えば２６個のセンサ支持部材５６を有している。そして、図６（ｃ）に示すように、隣り合う２つのセンサ支持部材５６のうち一方のセンサ支持部材５６には発光素子５５ａが設けられているとともに、他方のセンサ支持部材５６には前述の発光素子５５ａに対向するよう受光素子５５ｂが設けられている。ここで、発光素子５５ａおよび受光素子５５ｂは、第２の検出部５０が収納容器８０内に進出したときにこの収納容器８０の各収納部分８２に収納されたウエハＷを挟むよう配置されるようになっている。これらの発光素子５５ａおよび受光素子５５ｂによりセンサ部分５５が構成されている。
【００６１】
なお、図５（ａ）および図６（ａ）に示す状態において、支柱５２に設けられたアーム５３は、壁部１６から遠ざかる方向かつ壁部１６に対して直交する方向に延びている。また、図５（ｂ）および図６（ｂ）に示す状態において、支柱５２に設けられたアーム５３は、壁部１６に設けられた開口１６ｂに接近するとともに壁部１６に対して平行となる方向に延びている。
【００６２】
以下、第２の検出部５０の各構成要素について詳述する。
【００６３】
ロータリーアクチュエータ５１は、壁部１６に設けられた２つの開口１６ａ、１６ｂのうち上側の開口１６ｂの幅方向における端部近傍に設けられている。また、前述のように、ロータリーアクチュエータ５１の上部には円柱形状の細長い支柱５２が上下方向に延びるよう設けられており、このロータリーアクチュエータ５１は支柱５２を正方向および逆方向の両方向に回転させるようになっている。より具体的には、ロータリーアクチュエータ５１は、支柱５２に取り付けられたアーム５３が図５（ａ）に示すような状態となる位置と、支柱５２に取り付けられたアーム５３が図５（ｂ）に示すような状態となる位置との間の範囲内で（すなわち、約９０°の範囲内で）支柱５２を回転させるようになっている。
【００６４】
図５および図６に示すように、アーム５３が支柱５２に固定的に取り付けられている。より具体的には、アーム５３は、上下方向に延びる板状部材からなり、このアーム５３は第２の検出部５０を上方から見て支柱５２から径方向外方に延びるようになっている。また、第２の検出部５０を上方から見て、アーム５３はロータリーアクチュエータ５１により約９０°の範囲内で（図５（ａ）に示す位置と図５（ｂ）に示す位置との間の範囲内で）支柱５２を中心として正方向および逆方向の両方向に回転するようになっている。
【００６５】
また、アーム５３の幅方向（図５（ｂ）の左右方向）における支柱５２から遠い側の端部には上下方向に延びるマッピングセンサ５４が取り付けられている。前述のように、マッピングセンサ５４は、収納容器８０の各収納部分８２に対応するよう、上下方向に沿って間隔を空けて設けられた複数、具体的には例えば２６個のセンサ支持部材５６を有している。より詳細には、各センサ支持部材５６の間のスペースと、収納容器８０の各収納部分８２とが対応するようになっており、第２の検出部５０が収納容器８０内に進出したときに、収納容器８０の各収納部分８２に収納された各ウエハＷが各センサ支持部材５６の間のスペース内に位置するようになっている。
【００６６】
そして、図６（ｃ）に示すように、隣り合う２つのセンサ支持部材５６のうち一方のセンサ支持部材５６には発光素子５５ａが設けられているとともに、他方のセンサ支持部材５６には発光素子５５ａに対向するよう受光素子５５ｂが設けられている。ここで、発光素子５５ａおよび受光素子５５ｂは、第２の検出部５０が収納容器８０内に進出したときにこの収納容器８０の各収納部分８２に収納されたウエハＷを挟むよう配置されるようになっている。また、前述のように、一方のセンサ支持部材５６に設けられた発光素子５５ａおよびこの一方のセンサ支持部材５６と隣り合う他方のセンサ支持部材５６に設けられた受光素子５５ｂにより、センサ部分５５が構成されている。すなわち、センサ部分５５は、上下方向に並ぶようセンサ支持部材５６の数と同じ数（具体的には、例えば２５個）だけ設けられている。
【００６７】
図５（ｂ）および図６（ｂ）に示すように、第２の検出部５０が収納容器８０内に進出したときに、各センサ部分５５において発光素子５５ａから発せられた光が受光素子５５ｂにより受光されなかったときに、各センサ部分５５に対応する収納容器８０の収納部分８２にウエハＷが収納されていると判断されるようになっている。
【００６８】
また、図２に示すように、壁部１６の開口１６ａ、１６ｂにはそれぞれこれらの開口１６ａ、１６ｂを選択的に塞ぐための下側扉７０および上側扉７２が設けられている。各扉７０、７２は、図２に示すような各開口１６ａ、１６ｂを塞ぐ閉止位置と、各開口１６ａ、１６ｂから退避してこれらの開口１６ａ、１６ｂを開くような開口位置との間で往復移動を行うようになっている。より具体的には、下側扉７０および上側扉７２は、それぞれ、閉止位置と開口位置との間で水平方向に沿って往復移動を行うようになっている。そして、第１の検出部４０は、下側扉７０が下側の開口１６ａを開いているときにこの開口１６ａの近傍にある収納容器８０に収納された各ウエハＷの検出を行うようになっており、また、第２の検出部５０は、上側扉７２が上側の開口１６ｂを開いているときにこの開口１６ｂの近傍にある収納容器８０に収納された各ウエハＷの検出を行うようになっている。
【００６９】
次に、このような構成からなる基板処理システム１の動作について説明する。
【００７０】
まず、所定枚数、具体的には例えば２５枚のウエハＷが水平状態で収納された収納容器８０を、収納容器搬入出ステージ５に載せる。そして、収納容器搬入出ステージ５上の収納容器８０を収納容器搬送装置１２により搬入用のウエハ出し入れステージ１５へ搬送する。なお、複数の収納容器８０を繰り返し搬送する場合には、必要に応じて収納容器ストック部６の収納容器保持部材１３に一旦保管した後に搬送を行ってもよい。次に、ウエハ出し入れステージ１５に載置された収納容器８０について、蓋体開閉機構１７によりロックを外して蓋体を開け、次に第１の検出部４０により壁部１６の開口１６ａを介して収納容器８０内のウエハＷの検出を行う。
【００７１】
より具体的には、図７（ａ）に示すように下側扉７０が壁部１６の開口１６ａを塞いでいるとともに第１の検出部４０が収納容器８０から退避しているような（図３（ａ）および図４（ａ）参照）状態において、下側扉７０が水平方向に（図７（ａ）の下方に）移動し始めるとともに、ロータリーアクチュエータ４１が支柱４２を回転駆動させ始める。そして、図７（ｂ）に示すような状態を経て、図７（ｃ）に示すように、下側扉７０が開口位置に到達するとともに第１の検出部４０が収納容器８０内に進出する。すなわち、下側扉７０および第１の検出部４０は、下側扉７０が開口１６ａを開いたタイミングで第１の検出部４０が収納容器８０に収納された各ウエハＷの検出を行うよう、それぞれ開口１６ａに対して進退することとなる。第１の検出部４０が収納容器８０内に進出すると、第１の検出部４０は収納容器８０に対して図３（ｂ）および図４（ｂ）に示すような状態となり、収納容器８０の各収納部分８２に収納されたウエハＷは第１の検出部４０の各センサ部分４５の発光素子４５ａと受光素子４５ｂとの間に左右方向から挟まれる。そして、モータ４３がアーム４４を上下方向（図４（ｂ）における上下方向）のうちいずれか一方の方向に移動させ、その際に、各センサ部分４５によりウエハＷの検出が行われる。
【００７２】
より詳細には、１つのセンサ部分４５が５つの収納部分８２の範囲分を移動するよう、モータ４３がアーム４４を上下方向のうちいずれか一方の方向に移動させ、その間、受光素子４５ｂは、対応する発光素子４５ａから発せられる光を受光し続け、この受光状態に基づいて各収納部分８２にウエハＷが収納されているか否かを検出するとともに、ウエハＷの収納状態を検出する。ここで、各センサ部分４５がウエハＷの収納状態を検出するにあたり、前述のように、各センサ部分４５は、１つの収納部分８２において２枚以上のウエハＷが重なっていないか、あるいはウエハＷの一端が一の収納部分８２に載置されるとともにウエハＷの他端がこの一の収納部分８２の上方または下方にある他の収納部分８２に載置されることにより斜行状態となっていないか、等を検出する。
【００７３】
第１の検出部４０が収納容器８０内のウエハＷの検出を行った後、第１の検出部４０は、図３（ｂ）や図７（ｃ）に示すような収納容器８０内に進出した位置から、図３（ａ）や図７（ａ）に示すような収納容器８０から退避した位置に戻る。なお、この間、下側扉７０は開口１６ａを開け続けたままとなる。
【００７４】
その後、ウエハ移載装置１９のウエハ保持アーム１９ａを、開口１６ａを介してウエハ出し入れステージ１５上の収納容器８０内に挿入してウエハＷを取り出し、配列部２１の第１配列機構２１ａに受け渡す。この動作と同時に、蓋体開閉機構１７により、ウエハ出し入れステージ１５上のウエハＷを取り出した後の収納容器８０に蓋体を装着し、引き続きその収納容器８０を、収納容器搬送装置１２によりいずれかの収納容器保持部材１３へ搬送する。また、この動作の間に、下側扉７０は開口１６ａを塞ぐ位置に戻る。
【００７５】
その後、収納容器搬入出ステージ５上の次の収納容器８０を収納容器搬送装置１２により搬入用のウエハ出し入れステージ１５へ搬送する。次に、ウエハ出し入れステージ１５に載置された収納容器８０について、蓋体開閉機構１７によりロックを外して蓋体を開け、次に第１の検出部４０により壁部１６の開口１６ａを介して収納容器８０内のウエハＷの検出を行う。そして、ウエハ移載装置１９のウエハ保持アーム１９ａにより、その収納容器８０内のウエハＷを取り出して、第１配列機構２１ａへ受け渡す。このときに、第１配列機構２１ａでは、ハーフピッチで２つの収納容器分、具体的には例えば５０枚のウエハＷが保持された状態となり、これをウエハ搬送装置２２に受け渡す。
【００７６】
次に、このようにしてウエハ搬送装置２２に受け渡された２つの収納容器分のウエハＷを１ロットとして洗浄処理部４へ搬送し、所定の洗浄処理を行う。
【００７７】
この際に、ウエハＷを保持したウエハ搬送装置２２を、ガイドレール２３に沿って洗浄処理ユニット７の第１の薬液槽３１または第１の水洗槽３２の位置へ移動させ、ウエハＷを第１の搬送装置３７へ移し替え、ウエハＷの洗浄処理を開始する。ウエハＷの洗浄処理は、例えば、第１の薬液槽３１への浸漬と第１の水洗槽３２による洗浄、第２の薬液槽３３への浸漬と第２の水洗槽３４による洗浄、第３の薬液槽３５への浸漬と第３の水洗槽３６による洗浄の順で行われる。
【００７８】
洗浄処理ユニット７での洗浄処理が終了したウエハＷは、一度、ウエハ搬送装置２２に移し替えられた後、乾燥ユニット８の搬送装置２５へ移し替えられ、乾燥処理が施される。乾燥処理が終了したウエハＷは、ウエハ搬送装置２２により、ハーフピッチで２つの収納容器分、例えば５０枚垂直姿勢で搭載された状態でインターフェース部３のアンロード位置２０ｂまで搬送される。
【００７９】
アンロード位置２０ｂまで搬送されたウエハＷは、そこから配列部２１の第２配列機構２１ｂに２つの収納容器分のウエハＷがハーフピッチのまま受け渡される。このときに、第２配列機構２１ｂでは、ノーマルピッチで具体的には例えば２５枚のウエハＷが２つの収納容器分だけ保持された状態とするよう動作が行われる。
【００８０】
その後、収納容器搬送装置１２により搬出用のウエハ出し入れステージ１５に空の収納容器８０を載置し、蓋体開閉機構１７によりその蓋体を開けておく。次いで、ウエハ移載装置１９の準備動作を行った後、ウエハ保持アーム１９ａを配列部２１の第２配列機構２１ｂ内に挿入し、垂直姿勢で保持されている状態のウエハＷを取り出す。その後、搬出用のウエハ出し入れステージ１５上の空の収納容器８０に、壁部１６の開口１６ｂを介して、ウエハＷを保持したウエハ保持アーム１９ａを挿入し、ウエハＷを水平姿勢で搬入する。その後、ウエハ保持アーム１９ａを収納容器８０から出して、次に第２の検出部５０により壁部１６の開口１６ｂを介して収納容器８０内のウエハＷの検出を行う。
【００８１】
第２の検出部５０が収納容器８０内に進出すると、第２の検出部５０は収納容器８０に対して図５（ｂ）および図６（ｂ）に示すような状態となり、収納容器８０の各収納部分８２に収納されたウエハＷは第２の検出部５０の各センサ部分５５の発光素子５５ａと受光素子５５ｂとの間に上下方向から挟まれる。
【００８２】
そして、各センサ部分５５において、発光素子５５ａから発せられた光が受光素子５５ｂで受光されたか否かが検出され、受光素子５５ｂで受光されていないときには、各センサ部分５５に対応する収納部分８２にウエハＷが収納されていることが検出される。この際に、センサ部分５５は、収納容器８０の各収納部分８２に対応するよう複数設けられており、センサ部分５５の数は収納部分８２の数と同数となっているので、各センサ部分５５は、収納容器８０の各収納部分８２にウエハＷが収納されているか否かの検出を一括して行うことができる。
【００８３】
このようにして第２の検出部５０により収納容器８０内のウエハＷの検出が行われた後、蓋体開閉機構１７により収納容器８０の蓋体を閉じる。その後、洗浄処理が行われた後の状態のウエハＷを収納した収納容器８０は、収納容器搬送装置１２により収納容器搬入出ステージ５に搬送される。
【００８４】
以上のように本実施の形態の基板検出装置およびこの基板検出装置を備えた基板処理システム１によれば、処理前の状態のウエハＷの検出を行う第１の検出部４０と、処理後の状態のウエハＷの検出を行う第２の検出部５０とがそれぞれ設けられており、第１の検出部４０は、収納容器８０の各収納部分８２にそれぞれウエハＷが収納されているか否かを検出するとともに各収納部分８２に収納された各ウエハＷの収納状態を検出するようになっており、また、第２の検出部５０は、収納容器８０の各収納部分８２にそれぞれウエハＷが収納されているか否かを一括して検出するようになっている。このように、収納容器８０に収納されたウエハＷの検出を行う際に、処理前の状態のウエハＷと処理後の状態のウエハＷとで異なる検出部で検出するようになっているので、処理前の状態のウエハＷと処理後の状態のウエハＷを同じ検出部で検出するような基板検出装置と比較して、より適切なウエハＷの検出を行うことができる。
【００８５】
具体的に説明すると、処理前の状態のウエハＷについては、収納容器８０の各収納部分８２にそれぞれウエハＷが収納されているか否かを検出するとともに前記各収納部分８２に収納された各ウエハＷの収納状態を検出することにより、収納容器８０内のウエハＷの収納枚数を検出することができるとともに、後のウエハＷの処理工程においてウエハＷの収納状態が正常ではないことに起因して生じるような様々なトラブルの発生を抑制することができる。一方、処理後の状態のウエハＷについては、洗浄処理部４から収納容器８０に搬送される際に概してウエハＷの収納状態が異常となることはないため、単に収納容器８０の各収納部分８２にそれぞれウエハＷが収納されているか否かを検出するだけでよく、このような検出を一括して行うことによりウエハＷの検出に要する時間を大幅に短縮することができる。このように、収納容器８０に収納されたウエハＷの検出を行う際に、処理前の状態のウエハＷと処理後の状態のウエハＷとで異なる検出部で検出することにより、それぞれの状態のウエハＷに必要な検出結果を適切に得ることができるとともに検出時間を短縮することができ、このことによりウエハＷの処理のスループットを向上させることができる。
【００８６】
また、本実施の形態の基板検出装置および基板処理システム１においては、第１の検出部４０は、収納容器８０の各収納部分８２に収納された各ウエハＷのスキャンを行い、スキャン結果に基づいて収納容器８０の各収納部分８２にそれぞれウエハＷが収納されているか否かを検出するとともに各収納部分８２に収納された各ウエハＷの収納状態を検出するようになっている。
【００８７】
より具体的には、第１の検出部４０は、上下方向に沿って互いに間隔を空けて設けられた複数のセンサ部分４５と、各センサ部分４５を同期して上下方向に移動させるモータ４３とを有している。そして、第１の検出部４０の各センサ部分４５は、モータ４３により上下方向に移動させられている間に収納容器８０の各収納部分８２に収納された各ウエハＷの検出を行うようになっている。このように、センサ部分４５を複数設け、モータ４３により各センサ部分４５を同期して移動させることにより、センサ部分４５が１つしか設けられていない場合と比較してウエハＷの検出に要する時間を短縮することができる。
【００８８】
また、第１の検出部４０の各センサ部分４５は、各収納部分８２に収納された各ウエハＷを水平方向に沿って挟むよう設けられた発光素子４５ａおよび受光素子４５ｂを有している。そして、各センサ部分４５は、モータ４３により上下方向のうちいずれか一方の方向に移動させられている間に発光素子４５ａから発せられ受光素子４５ｂにより受けられる光の受光状態に基づいて各ウエハＷの検出を行うようになっている。
【００８９】
また、本実施の形態の基板検出装置および基板処理システム１においては、第２の検出部５０は、収納容器８０の各収納部分８２に対応して設けられた複数のセンサ部分５５を有し、第２の検出部５０の各センサ部分５５は、それぞれ、対応する各収納部分８２にウエハＷが収納されているか否かを検出するようになっている。このような構成により、第２の検出部５０は、確実に、収納容器８０の各収納部分８２にそれぞれウエハＷが収納されているか否かを一括して検出することができる。
【００９０】
より具体的には、第２の検出部５０の各センサ部分５５は、それぞれ、対応する各収納部分８２に収納されたウエハＷを上下方向から挟むよう設けられた発光素子５５ａおよび受光素子５５ｂを有し、各センサ部分５５において発光素子５５ａから発せられた光が受光素子５５ｂにより受光されなかったときに、対応する収納部分８２にウエハＷが収納されていると判断されるようになっている。なお、各センサ部分５５に設けられる発光素子および受光素子は、対応する各収納部分８２に収納されたウエハＷを上下方向から挟む代わりに、水平方向に沿ってウエハＷを挟むようになっていてもよい。
【００９１】
また、収納容器８０は、上下方向に沿って並ぶよう配置された２つのウエハ出し入れステージ１５のうち一方のウエハ出し入れステージ１５に載置されるようになっており、下側のウエハ出し入れステージ１５に載置される収納容器８０は、洗浄処理部４により処理される前の状態のウエハＷを収納するようになっており、この下側のウエハ出し入れステージ１５の近傍に第１の検出部４０が設けられている。また、上側のウエハ出し入れステージ１５に載置される収納容器８０は、洗浄処理部４により処理された後の状態のウエハＷを収納するようになっており、この上側のウエハ出し入れステージ１５の近傍に第２の検出部５０が設けられている。
【００９２】
また、下側のウエハ出し入れステージ１５に載置される収納容器８０内にアクセスするための下側の開口１６ａを選択的に塞ぐ下側扉７０、および上側のウエハ出し入れステージ１５に載置される収納容器８０内にアクセスするための上側の開口１６ｂを選択的に塞ぐ上側扉７２がそれぞれ設けられている。ここで、第１の検出部４０は、下側の開口１６ａに対して下側扉７０の開く方向とは反対側に設けられている。また、第２の検出部５０は、上側の開口１６ｂに対して上側扉７２の開く方向とは反対側に設けられている。そして、第１の検出部４０は、下側扉７０が下側の開口１６ａを開いているときに収納容器８０に収納された各ウエハＷの検出を行い、また、第２の検出部５０は、上側扉７２が上側の開口１６ｂを開いているときに収納容器８０に収納された各ウエハＷの検出を行うようになっている。
【００９３】
なお、下側扉７０および上側扉７２は、それぞれ開口１６ａ、１６ｂに対して進退するようになっており、また、第１の検出部４０および第２の検出部５０も、それぞれ開口１６ａ、１６ｂに対して進退するようになっている。
【００９４】
そして、図７（ａ）〜（ｃ）に示すように、下側の開口１６ａを下側扉７０が開きながら第１の検出部４０が下側の開口１６ａに進出するようになっている。このため、下側扉７０が開口１６ａを開いた直後に、収納容器８０内のウエハＷの検出を行うことができるようになり、ウエハＷの検出に要する時間をより一層短縮することができる。
【００９５】
なお、本実施の形態による基板検出装置や基板処理システム１は、上記の態様に限定されるものではなく、様々の変更を加えることができる。
【００９６】
例えば、収納容器８０を載置するウエハ出し入れステージ１５は、上下２段に設けられている代わりに、上下方向において１段のみ設けられるようになっていてもよい。このような基板処理システムについて、図９および図１０を用いて説明する。図９は、変形例に係る基板処理システムにおける収納容器、壁部の開口に設けられた扉および基板検出装置の構成を示す上面図であり、図１０は、図９に示す基板処理システムのＡ−Ａ矢視による側面図である。
【００９７】
ウエハ出し入れステージ１５が上下方向において１段のみ設けられる場合、壁部１６にはこのウエハ出し入れステージ１５に対応して一つの開口１６ｃのみが設けられることとなる。この開口１６ｃは、収納容器８０からウエハＷを搬出するためのウエハ搬出用、および収納容器８０にウエハＷを搬入するためのウエハ搬入用の両方に用いられる。
【００９８】
ウエハ出し入れステージ１５および開口１６ｃが上下方向において１段のみ設けられるような基板処理システムにおいては、図９に示すように、この開口１６ｃの幅方向（図９における上下方向）の両端部にそれぞれ第１の検出部４０および第２の検出部５０が設けられることとなる。また、壁部１６の開口１６ｃにはこの開口１６ｃを選択的に塞ぐための扉７４が設けられている。図１０に示すように、扉７４は、上下方向に沿って往復移動を行うようになっている。具体的には、この扉７４は、開口１６ｃを塞ぐ閉止位置（図１０の実線参照）と、開口１６ｃから退避してこの開口１６ｃを開くような開口位置（図１０の二点鎖線参照）との間で往復移動を行うようになっている。
【００９９】
図９および図１０に示すような変形例に係る基板処理システムにおいて、処理前のウエハＷが収納された収納容器８０がウエハ出し入れステージ１５に載置され、この載置された収納容器８０内のウエハＷの検査を行う場合の動作について説明する。まず、ウエハ出し入れステージ１５に載置された収納容器８０について、蓋体開閉機構１７によりロックを外して蓋体を開け、次に第１の検出部４０により壁部１６の開口１６ｃを介して収納容器８０内のウエハＷの検出を行う。
【０１００】
より具体的には、図９に示すように扉７４が壁部１６の開口１６ｃを塞いでいるとともに第１の検出部４０が収納容器８０から退避しているような状態において、扉７４が下方に移動し始めるとともに、ロータリーアクチュエータ４１が支柱４２を回転駆動させ始める。そして、扉７４が開口位置（図１０の二点鎖線参照）に到達するとともに第１の検出部４０が収納容器８０内に進出する。この際に、扉７４および第１の検出部４０は、扉７４が開口１６ｃを開いたタイミングで第１の検出部４０が収納容器８０に収納された各ウエハＷの検出を行うよう、それぞれ開口１６ｃに対して進退することとなる。第１の検出部４０が収納容器８０内に進出すると、収納容器８０の各収納部分８２に収納されたウエハＷは第１の検出部４０の各センサ部分４５の発光素子４５ａと受光素子４５ｂとの間に左右方向から挟まれる。そして、モータ４３がアーム４４を上下方向に移動させ、その際に、各センサ部分４５によりウエハＷのスキャンが行われる。このウエハＷのスキャン結果に基づいて、第１の検出部４０は、各収納部分８２にウエハＷが収納されているか否かを検出するとともに、ウエハＷの収納状態を検出する。
【０１０１】
第１の検出部４０が収納容器８０内のウエハＷの検出を行った後、第１の検出部４０は、収納容器８０内に進出した位置から、収納容器８０から退避した位置に戻る。なお、この間、扉７４は開口１６ｃを開け続けたままとなる。
【０１０２】
その後、ウエハ移載装置１９のウエハ保持アーム１９ａを、開口１６ｃを介してウエハ出し入れステージ１５上の収納容器８０内に挿入してウエハＷを取り出し、配列部２１の第１配列機構２１ａに受け渡す。この動作と同時に、蓋体開閉機構１７により、ウエハ出し入れステージ１５上のウエハＷを取り出した後の収納容器８０に蓋体を装着し、引き続きその収納容器８０を、収納容器搬送装置１２によりいずれかの収納容器保持部材１３へ搬送する。また、この動作の間に、扉７４は開口１６ｃを塞ぐ位置に戻る。
【０１０３】
次に、図９および図１０に示すような変形例に係る基板処理システムにおいて、処理後のウエハＷが収納容器８０に戻され、この収納容器８０内のウエハＷの検査を行う場合の動作について説明する。まず、収納容器搬送装置１２によりウエハ出し入れステージ１５に空の収納容器８０を載置し、蓋体開閉機構１７によりその蓋体を開けておく。次いで、ウエハ出し入れステージ１５に載置された空の収納容器８０に、壁部１６の開口１６ｃを介して、ウエハＷを保持したウエハ保持アーム１９ａを挿入し、ウエハＷを水平姿勢で搬入する。その後、ウエハ保持アーム１９ａを収納容器８０から出して、次に第２の検出部５０により壁部１６の開口１６ｃを介して収納容器８０内のウエハＷの検出を行う。
【０１０４】
第２の検出部５０が収納容器８０内に進出すると、収納容器８０の各収納部分８２に収納されたウエハＷは第２の検出部５０の各センサ部分５５の発光素子５５ａと受光素子５５ｂとの間に上下方向から挟まれる。
【０１０５】
そして、各センサ部分５５において、発光素子５５ａから発せられた光が受光素子５５ｂで受光されたか否かが検出され、受光素子５５ｂで受光されていないときには、各センサ部分５５に対応する収納部分８２にウエハＷが収納されていることが検出される。この際に、センサ部分５５は、収納容器８０の各収納部分８２に対応するよう複数設けられており、センサ部分５５の数は収納部分８２の数と同数となっているので、各センサ部分５５は、収納容器８０の各収納部分８２にウエハＷが収納されているか否かを一括して行うことができる。
【０１０６】
このようにして第２の検出部５０により収納容器８０内のウエハＷの検出が行われた後、蓋体開閉機構１７により収納容器８０の蓋体を閉じる。その後、洗浄処理が行われた後の状態のウエハＷを収納した収納容器８０は、収納容器搬送装置１２により収納容器搬入出ステージ５に搬送される。
【０１０７】
なお、収納容器８０を載置するウエハ出し入れステージ１５は、上下２段に設けられていたり、上下方向において１段のみ設けられていたりする代わりに、左右方向に並ぶよう２段に設けられるようになっていてもよい。この場合、壁部１６には左右方向に並ぶよう２つの開口が設けられることとなり、それぞれの開口を選択的に塞ぐための扉が２つ設けられることとなる。これらの扉は、図１０に示す扉７４と同様に、それぞれ上下方向に沿って往復移動を行うようになっている。具体的には、左右方向に並ぶよう設けられた２つの扉は、それぞれ、対応する開口を塞ぐ閉止位置と、対応する開口から退避して当該開口を開くような開口位置との間で往復移動を行うこととなる。そして、一方の開口に対して第１の検出部４０が進退を行うとともに、他方の開口に対して第２の検出部５０が進退を行うこととなる。
【０１０８】
次に、基板処理システムの他の変形例について説明する。他の変形例に係る基板処理システムにおいて、インターフェース部３には２つのウエハ移載装置が設けられている。そして、一方のウエハ移載装置は、ウエハ出し入れステージ１５に載置された収納容器８０内から処理前のウエハＷを取り出し、この取り出されたウエハＷを配列部２１の第１配列機構２１ａに搬送するようになっている。また、他方のウエハ移載装置は、配列部２１の第２配列機構２１ｂに保持された処理後のウエハＷを、ウエハ出し入れステージ１５に載置された空の収納容器８０内に搬送するようになっている。
【符号の説明】
【０１０９】
１ 基板処理システム
２ 収納容器搬入出部
３ インターフェース部
４ 洗浄処理部
５ 収納容器搬入出ステージ
６ 収納容器ストック部
７ 洗浄処理ユニット
８ 乾燥ユニット
９ パーキングエリア
１２ 収納容器搬送装置
１２ａ 支持アーム
１３ 収納容器保持部材
１４ シャッター
１５ ウエハ出し入れステージ
１６ 壁部
１６ａ、１６ｂ、１６ｃ 開口
１７ 蓋体開閉機構
１９ ウエハ移載装置
１９ａ ウエハ保持アーム
２０ ウエハ搬入出部
２０ａ ロード位置
２０ｂ アンロード位置
２１ 配列部
２１ａ 第１配列機構
２１ｂ 第２配列機構
２２ ウエハ搬送装置
２３ ガイドレール
２４ 水洗槽
２５ 搬送装置
２６ チャック洗浄機構
３１ 第１の薬液槽
３２ 第１の水洗槽
３３ 第２の薬液槽
３４ 第２の水洗槽
３５ 第３の薬液槽
３６ 第３の水洗槽
３７ 第１の搬送装置
３８ 第２の搬送装置
３９ 第３の搬送装置
４０ 第１の検出部
４１ ロータリーアクチュエータ
４２ 支柱
４３ モータ
４４ アーム
４５ センサ部分
４５ａ 発光素子
４５ｂ 受光素子
４６ センサ支持部材
５０ 第２の検出部
５１ ロータリーアクチュエータ
５２ 支柱
５３ アーム
５４ マッピングセンサ
５５ センサ部分
５５ａ 発光素子
５５ｂ 受光素子
５６ センサ支持部材
７０ 上側扉
７２ 下側扉
７４ 扉
８０ 収納容器
８２ 収納部分
【特許請求の範囲】
【請求項１】
各々が１枚の基板を収納するような収納部分が上下方向に沿って複数設けられた収納容器から基板を取り出して処理を行うとともに処理された基板を前記収納容器に戻すような基板処理システムであって、
基板を処理する処理部と、
前記処理部により処理される前に前記収納容器の各収納部分にそれぞれ基板が収納されているか否かを検出するとともに前記各収納部分に収納された各基板の収納状態を検出する第１の検出部と、
前記処理部により処理された後に前記収納容器の各収納部分にそれぞれ基板が収納されているか否かを一括して検出する第２の検出部と、
を備えたことを特徴とする基板処理システム。
【請求項２】
前記第１の検出部は、前記収納容器の各収納部分に収納された各基板のスキャンを行い、スキャン結果に基づいて前記収納容器の各収納部分にそれぞれ基板が収納されているか否かを検出するとともに前記各収納部分に収納された各基板の収納状態を検出することを特徴とする請求項１記載の基板処理システム。
【請求項３】
前記第１の検出部は、上下方向に沿って互いに間隔を空けて設けられた複数の検出部分と、前記各検出部分を同期して上下方向に移動させる駆動機構とを有し、
前記第１の検出部の各検出部分は、前記駆動機構により上下方向に移動させられている間に前記収納容器の各収納部分に収納された各基板の検出を行うことを特徴とする請求項２記載の基板処理システム。
【請求項４】
前記第１の検出部の各検出部分は、前記各収納部分に収納された各基板を水平方向に沿って挟むよう設けられた発光素子および受光素子を有し、当該各検出部分は、前記駆動機構により上下方向に移動させられている間に前記発光素子から発せられ前記受光素子により受けられる光の受光状態に基づいて各基板の検出を行うことを特徴とする請求項３記載の基板処理システム。
【請求項５】
前記第２の検出部は、前記収納容器の各収納部分に対応して設けられた複数の検出部分を有し、
前記第２の検出部の各検出部分は、それぞれ、対応する各収納部分に基板が収納されているか否かを検出することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の基板処理システム。
【請求項６】
前記第２の検出部の各検出部分は、それぞれ、対応する各収納部分に収納された基板を挟むよう設けられた発光素子および受光素子を有していることを特徴とする請求項５記載の基板処理システム。
【請求項７】
前記収納容器内にアクセスするための開口を選択的に塞ぐ扉が設けられており、
前記第１の検出部および前記第２の検出部は、それぞれ、前記扉が前記開口を開いているときに前記収納容器に収納された各基板の検出を行うことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の基板処理システム。
【請求項８】
前記扉は前記開口に対して進退するようになっており、前記第１の検出部および前記第２の検出部はそれぞれ前記開口に対して進退するようになっていることを特徴とする請求項７記載の基板処理システム。
【請求項９】
前記収納容器をそれぞれ載置するための２つの収納容器載置台を更に備え、
第１の収納容器載置台に載置される収納容器は、前記処理部により処理される前の状態の基板を収納するようになっており、前記第１の収納容器載置台に載置される収納容器内にアクセスするための第１の開口を選択的に塞ぐ第１の扉が設けられているとともに、前記第１の検出部が前記第１の開口の近傍に設けられており、
第２の収納容器載置台に載置される収納容器は、前記処理部により処理された後の状態の基板を収納するようになっており、前記第２の収納容器載置台に載置される収納容器内にアクセスするための第２の開口を選択的に塞ぐ第２の扉が設けられているとともに、前記第２の検出部が前記第２の開口の近傍に設けられていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の基板処理システム。
【請求項１０】
前記第１の検出部は、前記第１の開口に対して前記第１の扉の開く方向とは反対側に設けられていることを特徴とする請求項９記載の基板処理システム。
【請求項１１】
前記第１の検出部は前記第１の開口に対して進退するようになっており、
前記第１の開口を前記第１の扉が開きながら前記第１の検出部が前記第１の開口に進出することを特徴とする請求項１０記載の基板処理システム。
【請求項１２】
前記収納容器と前記処理部との間で基板を搬送する搬送部を更に備え、
前記搬送部は、前記処理部により処理される前の状態の基板を前記収納容器から前記処理部に搬送するとともに、前記処理部により処理された後の状態の基板を前記処理部から前記収納容器に搬送することを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の基板処理システム。
【請求項１３】
前記処理部により処理される前の状態の基板を前記収納容器から前記処理部に一括して搬送する第１の搬送部と、
前記処理部により処理された後の状態の基板を前記処理部から前記収納容器に一括して搬送する第２の搬送部と、
を備えたことを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の基板処理システム。
【請求項１４】
各々が１枚の基板を収納するような収納部分が上下方向に沿って複数設けられた収納容器に収納される、処理前および処理後の状態の基板の検出をそれぞれ行う基板検出装置であって、
前記収納容器の各収納部分にそれぞれ処理前の状態の基板が収納されているか否かを検出するとともに前記各収納部分に収納された処理前の状態の各基板の収納状態を検出する第１の検出部と、
前記収納容器の各収納部分にそれぞれ処理後の状態の基板が収納されているか否かを一括して検出する第２の検出部と、
を備えたことを特徴とする基板検出装置。
【請求項１５】
各々が１枚の基板を収納するような収納部分が上下方向に沿って複数設けられた収納容器に収納される、処理前および処理後の状態の基板の検出をそれぞれ行う基板検出装置による基板検出方法であって、
前記収納容器に収納された、処理前の状態の基板の検出を第１の検出部により行い、この際に、前記収納容器の各収納部分にそれぞれ基板が収納されているか否かを検出するとともに前記各収納部分に収納された各基板の収納状態を検出する工程と、
前記収納容器に収納された、処理後の基板の検出を第２の検出部により行い、この際に、前記収納容器の各収納部分にそれぞれ基板が収納されているか否かを一括して検出する工程と、
を備えたことを特徴とする基板検出方法。
【請求項１】
各々が１枚の基板を収納するような収納部分が上下方向に沿って複数設けられた収納容器から基板を取り出して処理を行うとともに処理された基板を前記収納容器に戻すような基板処理システムであって、
基板を処理する処理部と、
前記処理部により処理される前に前記収納容器の各収納部分にそれぞれ基板が収納されているか否かを検出するとともに前記各収納部分に収納された各基板の収納状態を検出する第１の検出部と、
前記処理部により処理された後に前記収納容器の各収納部分にそれぞれ基板が収納されているか否かを一括して検出する第２の検出部と、
を備えたことを特徴とする基板処理システム。
【請求項２】
前記第１の検出部は、前記収納容器の各収納部分に収納された各基板のスキャンを行い、スキャン結果に基づいて前記収納容器の各収納部分にそれぞれ基板が収納されているか否かを検出するとともに前記各収納部分に収納された各基板の収納状態を検出することを特徴とする請求項１記載の基板処理システム。
【請求項３】
前記第１の検出部は、上下方向に沿って互いに間隔を空けて設けられた複数の検出部分と、前記各検出部分を同期して上下方向に移動させる駆動機構とを有し、
前記第１の検出部の各検出部分は、前記駆動機構により上下方向に移動させられている間に前記収納容器の各収納部分に収納された各基板の検出を行うことを特徴とする請求項２記載の基板処理システム。
【請求項４】
前記第１の検出部の各検出部分は、前記各収納部分に収納された各基板を水平方向に沿って挟むよう設けられた発光素子および受光素子を有し、当該各検出部分は、前記駆動機構により上下方向に移動させられている間に前記発光素子から発せられ前記受光素子により受けられる光の受光状態に基づいて各基板の検出を行うことを特徴とする請求項３記載の基板処理システム。
【請求項５】
前記第２の検出部は、前記収納容器の各収納部分に対応して設けられた複数の検出部分を有し、
前記第２の検出部の各検出部分は、それぞれ、対応する各収納部分に基板が収納されているか否かを検出することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の基板処理システム。
【請求項６】
前記第２の検出部の各検出部分は、それぞれ、対応する各収納部分に収納された基板を挟むよう設けられた発光素子および受光素子を有していることを特徴とする請求項５記載の基板処理システム。
【請求項７】
前記収納容器内にアクセスするための開口を選択的に塞ぐ扉が設けられており、
前記第１の検出部および前記第２の検出部は、それぞれ、前記扉が前記開口を開いているときに前記収納容器に収納された各基板の検出を行うことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の基板処理システム。
【請求項８】
前記扉は前記開口に対して進退するようになっており、前記第１の検出部および前記第２の検出部はそれぞれ前記開口に対して進退するようになっていることを特徴とする請求項７記載の基板処理システム。
【請求項９】
前記収納容器をそれぞれ載置するための２つの収納容器載置台を更に備え、
第１の収納容器載置台に載置される収納容器は、前記処理部により処理される前の状態の基板を収納するようになっており、前記第１の収納容器載置台に載置される収納容器内にアクセスするための第１の開口を選択的に塞ぐ第１の扉が設けられているとともに、前記第１の検出部が前記第１の開口の近傍に設けられており、
第２の収納容器載置台に載置される収納容器は、前記処理部により処理された後の状態の基板を収納するようになっており、前記第２の収納容器載置台に載置される収納容器内にアクセスするための第２の開口を選択的に塞ぐ第２の扉が設けられているとともに、前記第２の検出部が前記第２の開口の近傍に設けられていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の基板処理システム。
【請求項１０】
前記第１の検出部は、前記第１の開口に対して前記第１の扉の開く方向とは反対側に設けられていることを特徴とする請求項９記載の基板処理システム。
【請求項１１】
前記第１の検出部は前記第１の開口に対して進退するようになっており、
前記第１の開口を前記第１の扉が開きながら前記第１の検出部が前記第１の開口に進出することを特徴とする請求項１０記載の基板処理システム。
【請求項１２】
前記収納容器と前記処理部との間で基板を搬送する搬送部を更に備え、
前記搬送部は、前記処理部により処理される前の状態の基板を前記収納容器から前記処理部に搬送するとともに、前記処理部により処理された後の状態の基板を前記処理部から前記収納容器に搬送することを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の基板処理システム。
【請求項１３】
前記処理部により処理される前の状態の基板を前記収納容器から前記処理部に一括して搬送する第１の搬送部と、
前記処理部により処理された後の状態の基板を前記処理部から前記収納容器に一括して搬送する第２の搬送部と、
を備えたことを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の基板処理システム。
【請求項１４】
各々が１枚の基板を収納するような収納部分が上下方向に沿って複数設けられた収納容器に収納される、処理前および処理後の状態の基板の検出をそれぞれ行う基板検出装置であって、
前記収納容器の各収納部分にそれぞれ処理前の状態の基板が収納されているか否かを検出するとともに前記各収納部分に収納された処理前の状態の各基板の収納状態を検出する第１の検出部と、
前記収納容器の各収納部分にそれぞれ処理後の状態の基板が収納されているか否かを一括して検出する第２の検出部と、
を備えたことを特徴とする基板検出装置。
【請求項１５】
各々が１枚の基板を収納するような収納部分が上下方向に沿って複数設けられた収納容器に収納される、処理前および処理後の状態の基板の検出をそれぞれ行う基板検出装置による基板検出方法であって、
前記収納容器に収納された、処理前の状態の基板の検出を第１の検出部により行い、この際に、前記収納容器の各収納部分にそれぞれ基板が収納されているか否かを検出するとともに前記各収納部分に収納された各基板の収納状態を検出する工程と、
前記収納容器に収納された、処理後の基板の検出を第２の検出部により行い、この際に、前記収納容器の各収納部分にそれぞれ基板が収納されているか否かを一括して検出する工程と、
を備えたことを特徴とする基板検出方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【公開番号】特開２０１０−２７２７９６（Ｐ２０１０−２７２７９６Ａ）
【公開日】平成２２年１２月２日（２０１０．１２．２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−１２５２６５（Ｐ２００９−１２５２６５）
【出願日】平成２１年５月２５日（２００９．５．２５）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年１２月２日（２０１０．１２．２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年５月２５日（２００９．５．２５）
【出願人】（０００２１９９６７）東京エレクトロン株式会社 (5,184)
【Ｆターム（参考）】
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