【課題】成膜処理の生産性の向上を図ることができ、且つキャリアの洗浄回数を減らすことができる等のキャリアの管理コストの低減に寄与する真空処理装置を提供する。
【解決手段】真空処理装置は、ロードロックチャンバＬＬとプロセスチャンバＰＣの間で移送されるキャリア７と、プロセスチャンバＰＣ内に移送されたキャリア７から基板７を受け取るフック１９を備えており、基板５への真空処理はキャリア７がロードロックチャンバＬＬに退避した後に行われる。 （もっと読む）

【課題】複数のウェーハを自動的に搬送して連続的に加工を行うための搬出入装置について、部品点数が少なく、簡易な構成にて実現可能であり、更に、安価な製作コストを実現できる搬出入装置を提供する。
【解決手段】ユニット支持部には、複数の該被加工物ユニットを重ねて収容可能なユニットケースが着脱自在に配設され、搬出入手段のフレーム保持部の直下に、ターンテーブルのユニット通過部と、保持手段が位置付けられた際に、搬出入手段のフレーム保持部を上下動させることで保持手段に対する被加工物ユニットの搬入又は搬出が行われ、搬出入手段のフレーム保持部の直下に、ターンテーブルのユニット支持部が位置付けられた際に、搬出入手段のフレーム保持部を上下動させることでユニット支持部に対する被加工物ユニットの搬出又は搬入が行われる、ユニット搬出入装置とする。 （もっと読む）

【課題】ＦＯＵＰの搬送領域のパーティクルが当該ＦＯＵＰの蓋体を介して基板搬送領域に混入することを防ぐこと。
【解決手段】ＦＯＵＰの蓋体の前面が開閉ドアにより開閉される搬送口に向くように当該ＦＯＵＰを載置する載置台と、ＦＯＵＰに対向する対向面部に設けられるガス吐出口と、前記載置台に載置されたＦＯＵＰを、前記対向面部に対して相対的に進退させる進退機構と、を備えるように蓋体開閉装置を構成し、ガス吐出口から前記ＦＯＵＰの蓋体までの距離が５ｍｍ以下であるときに蓋体へパージガスを供給する。これによって蓋体と対向面部との間を流れるパージガスの流速が高くなり、蓋体のパーティクルが容易に除去される。 （もっと読む）

【課題】蓋体の内部空間を介してＦＯＵＰの搬送領域の雰囲気が基板搬送領域に混入することを抑えることができる技術を提供すること。
【解決手段】開閉ドアにより開閉される搬送口の口縁部に、ＦＯＵＰの基板取り出し口の口縁部を密着させた状態で、前記開閉ドアに設けられるパージガス吐出部を前記蓋体の前面側の開口部を介して蓋体の内部空間に進入させ、当該内部空間にパージガスを吐出し、その雰囲気を当該開口部とは異なる開口部からＦＯＵＰと前記開閉ドアとの間に形成される閉塞空間へと強制的に排出させる。それによって前記内部空間を介してＦＯＵＰの搬送領域の雰囲気が、基板搬送領域に持ち込まれることを防ぐ。 （もっと読む）

【課題】 ダイシングテープを使用せずにウエーハをハーフカット可能なウエーハ支持プレートを提供することである。
【解決手段】 ウエーハを支持し搬送するためのウエーハ支持プレートであって、円形凹部から形成されウエーハを収容して支持するウエーハ支持部と、該円形凹部の底に形成された複数の貫通孔と、該ウエーハ支持部を囲繞し加工装置の搬送手段が作用するフレーム部と、を具備したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、密閉型容器内部の雰囲気に起因する反応物の生成を抑制することを目的とする。
【解決手段】半導体製造装置１は、被処理物であるウエーハ１０、ウエーハ１０を収納する密閉型容器のＦＯＵＰ２０、半導体処理装置であるエッチング装置３０及びＦＯＵＰ２０とエッチング装置３０との間を密閉状態でウエーハ１０の搬送を行うＥＦＥＭ４０を有する。ＦＯＵＰ２０は、前面扉２０ａ、内側に温度と湿度とガス濃度との少なくとも一つを検知するセンサ部２１及びこのセンサ部が検知した情報を送信する送信装置２５を有する。受信装置３１は、送信装置２５からの情報を受信し、その情報をパージ部４３に供給する。パージ部４３は、ＦＯＵＰ２０内の温度などが予め定めた基準値を満足するまでパージを行う。 （もっと読む）

【課題】直径３００ｍｍの第１ウエハを収容可能な第１カセット用のロードポートに対してカセットアダプタを使用して、直径２００ｍｍの第２ウエハを収容可能な第２カセットをセットする際に、第２カセットの全体を覆うカセットカバーの提供。
【解決手段】正面、背面及び底面の３面が開口されていて、アダプタ本体及び第２カセットＫ₂の全体を覆うことができると共に、正面開口を通してアダプタ本体を手前側に傾転させられるように、アダプタベースＶに一体に取付けられ、ロードポートＰのキャリアベース５の前進により、カセットカバーＣで覆われた第２カセットＫ₂が前進端位置である第２ウエハの搬入・搬出位置に達した状態で、カセットカバーＣの前端周縁が、ロードポート本体１のウエハ移載窓１ａの周縁に密着又は近接可能なように、カセットカバーＣの前端には、左右の両方向に向けて閉塞用フランジ部４６が一体に設けられた構成とする。 （もっと読む）

【課題】 大型化によって重量が増加したドアに対して、ドア駆動時に発生するモーメントに抗し得る構造を有するロードポート装置を提供する。
【解決手段】 ロードポートの取付け面に対して垂直に突出して該取付け面に対して平行に延在する一対の長方形状のメインベースを連結シャフトにて結合し、該取付け面と面にて密着可能なＩ形プレートによりこの構造体を該取付け面に固定する。ドア駆動機構及び載置テーブル等の機構は、この構造体における一対のメインベースの内側に配置する。 （もっと読む）

【課題】作業性を向上させることができるとともに、短時間でウエハの並べ替えを行い、処理効率の向上を図ることができるウエハ並べ替え装置を提供する。
【解決手段】複数のウエハ２が収容されるカセット１を載置可能な複数のカセットステージ１０と、ウエハ２の識別情報を認識する識別手段３を有する識別ステージ３０とを平面視円弧状に並べて一列に設置するとともに、各ステージの半径方向外方及び上方を開放状態とし、その半径方向内方位置に、旋回アーム４０の先端に１ウエハを一枚ずつ支持して各ステージ間を移送する移送手段４を設けた。 （もっと読む）

【課題】ＦＩＭＳシステムにおいて、ウエハが外部の環境に汚損されることなく、移送を可能とするボックスロードインタフェース
【解決手段】ボックスロードインタフェース１６が備える並進機構は、移送ボックス１８のボックスドアに取付け可能なポートドアを備え、前記ボックスドアを移送ボックス１８に対し、接近、及び離間し移送ボックス１８を開閉する。摺動トレー２４は移送ボックス１８をポートプレート１４に対し接近、又は離間するように動かす。クランプ機構は移送ボックス１８をクランプする。前記ボックスドアが移送ボックス１８から離れて動いた後、昇降機組立体２８は並進機構に協働して前記ポートドアを動かす。差動光走査組立体は移送ボックス１８内部のウエハ試料の位置を検出する。ロボット組立体は前記ウエハ試料を移送ボックス１８内から除去、及び挿入する。直線移動組立体は前記ロボット組立体を支持し、親ねじナット機構を駆動し移動する。 （もっと読む）

【課題】小ロット処理に対応した塗布現像処理装置を提供する。
【解決手段】塗布現像処理装置のカセット搬入出部１０のカセット載置台１２の上方に、２段の空カセット載置台２０、２１と、カセット移送機構２２が設けられる。空カセット載置台２０、２１は、外部カセット搬送装置Ａが上下に通過できるように構成されている。各空カセット載置台２０、２１は、カセットが載置される４台のカセット移動装置３０を有し、載置したカセットを隣のカセット移動装置に移送できる。外部カセット搬送装置Ａによりカセット載置台１２に搬入され、ウェハＷが処理ステーションに搬送された空のカセットは、カセット移送機構２２により空カセット載置台に一時的に貯め置かれる。空いたカセット載置台１２には次のカセットが搬入される。空カセット載置台の空のカセットは、ウェハ処理が終了する前にカセット載置台１２に戻される。 （もっと読む）

【課題】ウエーハなどの保管対象物をより良い条件で保管可能なシステムおよび方法を提供すること。不活性ガスの消費量を削減可能なシステムおよび方法を提供すること。
【解決手段】保管対象物２を密閉状に収納可能で、内部から外部への気体の移動と外部から内部への気体の移動とを許す制御ポート４ａ，４ｂを備えた保管容器４と、保管容器４を収納する真空チャンバーＣｎと、真空チャンバーＣｎと真空減圧装置Ｐ，５とを接続する排気経路Ｒｄｎと、真空チャンバーＣｎと不活性ガス供給手段７とを接続する不活性ガス供給経路Ｒｐｎとを備え、真空チャンバーＣｎ内を真空に保持する真空保管モードと、保管容器の出庫に際して、真空チャンバーＣｎと保管容器４とを不活性ガスで満たすべく対応する不活性ガス供給経路Ｒｐｎを開放状態にする出庫準備モードとを有する保管システム。 （もっと読む）

【課題】大型化を抑制しつつ基板処理のスループットを十分に向上させることができる基板処理装置、ストッカー装置および基板収納容器の搬送方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置においては、ストッカー装置、インデクサブロック、処理ブロックおよびインターフェースブロックがこの順で並ぶように配置される。ストッカー装置は、複数の基板を収納するキャリアＦを載置可能な複数のオープナーを有する。ストッカー装置にキャリアＦが搬入される。ストッカー装置においては、搬送装置２００により複数のオープナーの間でキャリアＦが搬送される。搬送装置２００は、キャリアＦを保持可能に構成され、水平方向および上下方向に移動可能な第１および第２のハンド２３０，２４０を有する。第２のハンド２４０は第１のハンド２３０の下方に設けられる。 （もっと読む）

【課題】、容器が載置される載置台に、ガスを容器内に注入または容器からガスを排出するためのノズルが搭載される装置においても、容器を載置台上で確実に位置決めすることができるガスの注入装置、排出装置、注入方法及び排出方法を提供すること。
【解決手段】キャリアベース２１に容器であるキャリア１０が載置される時、キネマティックピン７がキャリア１０の底部１０３に設けられた位置決め溝１０１に係合してキャリア１０が載置台２上で位置決めされる。そしてこの状態から、昇降駆動ユニット４により注入ノズル５がキャリア１０の注入部１０２に接触する。したがって、キャリア１０が載置台２上で位置決めされる前に、注入ノズル５がキャリア１０の注入部１０２にひっかかるという事態が発生しない。すなわち、キャリア１０を載置台２上で確実に位置決めすることができる。 （もっと読む）

【課題】ウエハー容器内を容易にパージできる方法を提供する。
【解決手段】ウエハー容器の内部と外部を連通する流路と、該ウエハー容器の外側に露出した着座面と、を提供する弾性材で作られたグロメット１２４，１２５にパージガス源を連結する段階、及びパージガスをウエハー容器に導入する段階を備えた方法で達成する。 （もっと読む）

【課題】 ＦＯＵＰ内に置換ガスを導入する際にパーティクルを巻き込まず、ＦＯＵＰ内の圧力を下げ、ローコストで酸素濃度および湿度が低減できるガス導入装置およびガス導入の方法を提供する。
【解決手段】 ＦＯＵＰのガス導入バルブと真空容器のガス供給部との間にガスの通路を形成するシールリングを設け、パーティクルの巻き込みを防ぎ、ガス導入バルブの逆止弁をプッシュピンによりＦＯＵＰと真空容器を連通させ、真空排気とガス導入を複数回繰り返す。 （もっと読む）

【課題】ウェハキャリアの開放面に、外部から進入するパーティクルを最小限にできるようにする。あるいはパーティクルのまきあがりを防ぐ。
【解決手段】複数のウェハを密封して収容するウェハキャリアを搭載し、前記ウェハキャリアのキャリアドアを開放するＦＩＭＳドアと、を備えたロードポートにおいて、前記ＦＩＭＳドアが開放した前記ウェハキャリアの開放面を覆うクリーンゲートを備えた。 （もっと読む）

【課題】ＦＯＵＰ内のガス置換と、ウエハ上の汚染物質の除去を短時間で行うことができ、既存装置への適用も可能な基板搬送装置およびその基板搬送装置を搭載した搬送システム、さらにその置換方法を提供する。
【解決手段】基板を載置するフォーク１１と、前記フォーク１１を支持して移動させる動作部１２と、前記動作部１２を支持する胴体部１９と、を備えた基板搬送装置１０において、 前記基板搬送装置１０が、基板を収容する容器内の気体を所定のガスに置換するためのガス噴射用ノズル１３を備えた。 （もっと読む）