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Fターム[5F031MA11]の内容

ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 (111,051) | 処理装置 (13,378) | 装置へのウエハ等のローディング部 (643)

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【課題】 半導体処理装置の取付け面に対する取り付けの容易なロードポート装置を提供する。
【解決手段】 ロードポート装置において載置台を支持するベース部材を、該ロードポート装置の取付け面側に配置される前方車輪を有する第一の支持ユニット及び該前方車輪より離れて配置される後方車輪を有する第二の支持ユニットにより支持することとし、ベース部材に対する第一の支持ユニットによる前方車輪の昇降の操作と第二の支持ユニットによる後方車輪の昇降の操作とを独立して行うこととする。 (もっと読む)


【課題】複数のウェーハを自動的に搬送して連続的に加工を行うための搬出入装置について、部品点数が少なく、簡易な構成にて実現可能であり、更に、安価な製作コストを実現できる搬出入装置を提供する。
【解決手段】ユニット支持部には、複数の該被加工物ユニットを重ねて収容可能なユニットケースが着脱自在に配設され、搬出入手段のフレーム保持部の直下に、ターンテーブルのユニット通過部と、保持手段が位置付けられた際に、搬出入手段のフレーム保持部を上下動させることで保持手段に対する被加工物ユニットの搬入又は搬出が行われ、搬出入手段のフレーム保持部の直下に、ターンテーブルのユニット支持部が位置付けられた際に、搬出入手段のフレーム保持部を上下動させることでユニット支持部に対する被加工物ユニットの搬出又は搬入が行われる、ユニット搬出入装置とする。 (もっと読む)


【課題】ウェーハ搬送室内に搬送可能なウェーハの数を効果的に増大させることができ、EFEMに用いた場合にはウェーハ搬送の処理能力を向上させることが可能な装置を提供する。
【解決手段】ウェーハ搬送室B及びロードポートCとともにEFEMを構成し、載置テーブルを、ロードポートCがFOUP搬送装置との間でFOUPxを受け渡す位置と同一直線L上に設定したFOUP受渡位置と、ウェーハ搬送室Bの側面にFOUPxを密着させ得る位置に設定したウェーハ出入位置との間で移動させる移動機構を備えたサイド用ロードポート1を案出した。 (もっと読む)


【課題】サイズの小型化を図り、面積生産性を向上させることができる液剤塗布装置及び液剤塗布方法を提供することを目的とする。
【解決手段】液剤Qが塗布される前の基板4を収容した基板供給用のマガジン5が設置される基板供給部R1、基板供給部R1に設置された基板供給用のマガジン5から取り出されて作業位置に移送された基板4に液剤Qを塗布する塗布ヘッド14、塗布ヘッド14により液剤Qが塗布された基板4を収容する基板回収用のマガジン5が設置された基板回収部R2を備えた液剤塗布装置1において、基板供給部R1と基板回収部R2が上下方向に並んで位置する。 (もっと読む)


【課題】カラーフィルタ製造ラインでカセット交換の際に製造ラインへの基板投入や、製造ラインからの基板回収時に発生する、投入、回収停止が無く、しかも設置場所のスペースを縮小することが出来、更に設備費用の削減を可能とする、ローダとアンローダを提供する。
【解決手段】ローダ本体と、その下流に第一のコンベアバッファを備え、ローダ本体はローダ本体上にセットされた第一のカセットからガラス基板を1枚ずつ外部に取り出す機能を有し、第一のコンベアバッファは、第一のコンベアと、第一のバッファで構成され、第一のコンベアは、前記1枚ずつ取り出されたガラス基板を下流に設置された第一の処理装置に直接搬送する機能と、前記第一のバッファに収納する機能と、を有し、更に前記第一のコンベアは、前記第一のカセットの交換時に第一のバッファに収納したガラス基板を前記下流に設置された第一の処理装置に搬送することを特徴とするローダ。 (もっと読む)


【課題】良好な露光精度が得られると共にタクトタイムの短縮を図ることができる露光ユニット及びそれを用いた露光方法を提供する。
【解決手段】露光ユニット10は、マスクMを保持するマスクステージ21と、フラットパネルディスプレイ用基板W1,W2をそれぞれ保持する第1及び第2のワークチャック22,23を備える基板ステージ24と、第1及び第2のワークチャック22,23に保持された基板W1,W2がマスクMと対向するように、第1及び第2のワークチャック22,23を同期して移動可能なステージ移動機構25と、マスクMを介して基板W1,W2に露光光を照射する照明光学系と、を備える露光装置11と、基板W1、W2をそれぞれ保持し、且つ、第1及び第2のワークチャック22,23に対して基板W1,W2を搬入及び搬出可能な第1及び第2の搬送装置12,13と、基板W1,W2の搬入及び搬出動作が同期して行われるように第1及び第2の搬送装置12,13を制御する制御部20と、を備える。 (もっと読む)


【課題】ラミネーティング過程で発生する接触面上の気泡を除去できるようなエアープレッシングパターンを形成できるラミネーティング装置及びそのラミネーティング方法を提供する。
【解決手段】ラミネーティング装置は、キャリア装置及び正圧プレス装置を含み、キャリア装置は、被加工物である基板などを収容し、真空を形成して基板と基板とを固定圧着させ、正圧プレス装置は、キャリア装置の弾性膜に向かってエアーを噴射して基板間の接着力を高めると同時に、噴射されたエアーがまるで基板をその中心から縁部に掃き出すような効果を持たせることによって、ラミネーティング過程で発生しうる基板間の気泡を除去する。このようなエアープレッシングによる加圧では、基板などをチャンバーではなく別の移送可能なキャリア装置に収容するため、正圧プレス装置が複数個のキャリア装置に対して反復的なエアープレッシング工程を行うことができる。 (もっと読む)


【課題】被処理基板と支持基板の接合を効率よく行い、接合処理のスループットを向上させる。
【解決手段】接合装置700は、被処理ウェハW、支持ウェハS、重合ウェハTを受け渡すための受渡部720と、被処理ウェハW又は支持ウェハSの表裏面を反転させる反転部721と、被処理ウェハWと支持ウェハSとを押圧して接合する接合部101と、被処理ウェハW、支持ウェハS、重合ウェハTを搬送する搬送部722とを有している。反転部721は、支持ウェハS又は被処理ウェハWを保持する保持部材と、前記保持部材に保持された支持ウェハS又は被処理ウェハWを水平軸周りに回動させると共に鉛直方向及び水平方向に移動させる移動機構と、前記保持部材に保持された支持ウェハS又は被処理ウェハWの水平方向の向きを調節する位置調節機構770と、を有している。 (もっと読む)


【課題】 大型化によって重量が増加したドアに対して、ドア駆動機構に対する過負荷の発生を防止してドアの停止位置の再現性を確保可能なロードポート装置を提供する。
【解決手段】 ドア駆動機構においてドアを開口部形成面に垂直な方向に駆動するドア駆動機構を、カムフォロアを0°から180°に回動可能なロータリーシリンダと、該ロータリーシリンダの回転軸に垂直な面内に該カムフォロアを収容可能で鉛直方向に延在するカム溝を有するスライダと、から構成し、該スライダによってドアを支持する。 (もっと読む)


【課題】、容器が載置される載置台に、ガスを容器内に注入または容器からガスを排出するためのノズルが搭載される装置においても、容器を載置台上で確実に位置決めすることができるガスの注入装置、排出装置、注入方法及び排出方法を提供すること。
【解決手段】キャリアベース21に容器であるキャリア10が載置される時、キネマティックピン7がキャリア10の底部103に設けられた位置決め溝101に係合してキャリア10が載置台2上で位置決めされる。そしてこの状態から、昇降駆動ユニット4により注入ノズル5がキャリア10の注入部102に接触する。したがって、キャリア10が載置台2上で位置決めされる前に、注入ノズル5がキャリア10の注入部102にひっかかるという事態が発生しない。すなわち、キャリア10を載置台2上で確実に位置決めすることができる。 (もっと読む)


【課題】搬送車システムにおいて移載装置のコストを低減する。
【解決手段】搬送車システム1は、軌道3と、搬送車5と、バッファ9とを備えている。軌道3は、複数の処理装置2に沿って設けられている。搬送車5は、軌道3を走行して物品を搬送する。バッファ9は、軌道3の側方に配置され、ローラコンベア63からなる載置面を有する。搬送車5は、支持台としてのローラコンベア39と、プッシュプル移載装置41とを有している。ローラコンベア39は、バッファ9のローラコンベア63と同一高さの支持面を有する。プッシュプル移載装置41は、物品を押し引きすることでバッファ9と搬送車5との間で移動させる。 (もっと読む)


【課題】スループットを改善することのできる基板処理装置、及び基板処理装置の温調方法、及びこれら基板処理装置や温調方法を用いるデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】大気圧下にあるウエハWの雰囲気を減圧して減圧雰囲気に変更する第1チャンバ16と、減圧雰囲気に維持され、第1チャンバ16から搬送されたウエハWに所定の処理を施す第2チャンバ12とを備える。そして、第2チャンバ12内の温度を、第1チャンバ16内で大気圧から減圧雰囲気への変更に伴って変化するウエハWの温度に対応する設定温度に調整する温調機構を備える。 (もっと読む)


【課題】床面積当たりの高いスループットを有する基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板搬送部24と基板処理チャンバ26、27とを含む基板処理装置22において、基板搬送部は、搬送チャンバ32と搬送機構34とを有する。搬送機構は、回転可能ドライバ48と、ドライバに回動可能に接続して鉛直方向に回動するアーム50と、関節を有する手首64によってアームの端部に回動可能に接続されている基板ホルダ52とを有する。アームは、基板ホルダ52を鉛直方向に上下動できる。基板処理チャンバは、鉛直方向に2つの異なるレベルで搬送チャンバに固定接続している。 (もっと読む)


【課題】
電子デバイスの製造設備内で基板キャリアを搬送するための方法及び装置を提供する。
【解決手段】
キャリアを運ぶコンベヤ・システムに結合された複数のキャリア支持体を含むと共に、複数の基板ローディング・ステーションを含む電子デバイス製造設備の第1の基板ローディング・ステーションから第2の基板ローディング・ステーションへキャリアを搬送する要求を受信し205、少なくともこの搬送のために必要とされる時間が短くなり、且つ、コンベヤ・システムのバランスが維持されるように、第1の基板ローディング・ステーションから第2の基板ローディング・ステーションへ、キャリアを搬送するために、複数のキャリア支持体のうちの1つを割り当て207、第1の基板ローディング・ステーションからキャリアを運び209、第2の基板ローディング・ステーションへキャリアを運ぶ211ステップを含む。 (もっと読む)


【課題】フットプリントの削減を図ることのできるプローブ装置を提供する。
【解決手段】載置台が設けられたプローブ検査室と、収納容器から取出した被検査基板を前記プローブ検査室内の載置台上へ搬送する搬送機構を有するローダ室とを備え、前記載置台に載置された被検査基板上の電極パッドと、プローブカードのプローブとを接触させて、前記被検査基板の被検査チップの電気的特性を測定するプローブ装置において、前記プローブ検査室の筺体の側壁部に、前面から側面側に回り込んで開口する、屈曲又は湾曲した形状の搬入出口を設けている。 (もっと読む)


【課題】スロット状の開口部を有するトランスファーバルブであって、保守および修理時に、プロセスチャンバからトランスファーバルブを取り外すことなく、交換可能であり、バルブ閉鎖部の全長に亘って、均等な接触力および密閉力を生成できるトランスファーバルブを提供する。
【解決手段】バルブ閉鎖ビーム4、回転軸受およびシャフト11は気密なバルブハウジング14内でバルブカバー20上に配置され、シャフト11、回転軸受およびバルブ閉鎖ビーム4は、バルブカバー20を切り離して移動させることによって、バルブハウジング14から切り離し可能である。バルブハウジング14内で、シャフト軸に沿って、互いに所定距離離れて分散配置され、そしてバルブ閉鎖ビーム4およびシャフト11が取り付けられた少なくとも3つの軸受要素27によって、回転軸受が形成される。 (もっと読む)


【課題】基板に異物が付着するのを防ぐことができる基板カートリッジ、基板処理装置、基板処理システム、制御装置及び表示素子の製造方法を提供すること。
【解決手段】基板が出し入れされる開口部を有し、前記開口部を介した前記基板を収容するカートリッジ本体と、前記カートリッジ本体に設けられ、外部接続部に対して着脱可能に接続されるマウント部とを備え、前記開口部は、前記マウント部と前記外部接続部との間の接続状態に応じて、前記基板によって閉塞可能に設けられている。 (もっと読む)


【課題】常圧搬送室に大掛かりな腐食対策をする必要がなく、またスループットも低減することのない基板処理装置を提供する。
【解決手段】ロードロック室14bからストレージ26まで常圧搬送室であるローダーモジュール15を通過させることがなく基板Wを搬送するための迂回経路24を設ける。当該迂回経路24には、ロードロック室14bからストレージ26まで処理済みの基板Wを搬送する副搬送ユニット36が配置される。この副搬送ユニット36によってロードロック室14bからストレージ26まで処理済みの基板Wを搬送し、ローダーモジュール15の主搬送ユニット18によってストレージ26から載置台22a〜22cの運搬容器に処理済みの基板Wを戻す。 (もっと読む)


【課題】リードタイムを短縮しスループットを高める。
【解決手段】基板処理装置は、複数枚の基板を収納し開閉自在なキャップを有する基板収納容器に対して基板を出し入れする、垂直方向に複数設置された基板ローディングポートと、複数の基板ローディングポートに載置された基板収納容器のキャップを保持するクロージャ40がそれぞれ設けられ、基板ローディングポートに載置された基板収納容器のキャップを開閉する際にクロージャによりキャップを保持しつつ、キャップを水平方向に個別に移動させる、基板ローディングポートそれぞれに設けられた開閉装置20と、が構成されている。 (もっと読む)


【課題】基板上に塗布される液状体の状態を改善することが可能な塗布装置を提供すること。
【解決手段】所定の塗布位置において基板を立てた状態で回転させつつ前記基板の表面及び裏面にそれぞれ液状体を吐出するノズルを有する塗布機構と、前記基板を基板搬入位置、前記塗布位置及び基板搬出位置の間で搬送する搬送機構と、前記基板搬入位置、前記塗布位置及び前記基板搬出位置とは異なる位置であって前記搬送装置が接続可能な保持位置でダミー基板を保持するダミー基板保持機構とを備える。 (もっと読む)


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