【課題】本発明は、化学蒸着（ＣＶＤ）システムまたは物理蒸着（ＰＶＤ）システムなどの蒸着システムの真空チャンバ内で、コーティング源の上につり下げられた遊星式回転プラットホームに基板を固定する磁気ラッチに関する。
【解決手段】この磁気ラッチは永久磁石を含み、この永久磁石は、基板ホルダを引きつけるために永久磁石がラッチを磁化するラッチ位置と、永久磁石がバイパス回路内で接続されてラッチの磁化が解除され、そのため、基板ホルダが解放される非ラッチ位置との間で移動可能である。 （もっと読む）

本発明は、特に結晶基板の上に、特に結晶層を堆積するための装置であって、前記装置は、反応器ハウジングの中に配置され、少なくとも１の基板（８）を載せるための基板ホルダー（２）を有する反応チャンバー（１）を有する。ガス入口部材（３）は、基板ホルダー（２）の反対側に配置され、前記基板ホルダー（２）に面するガス出口表面（４）を有し、
実質的に均一に分配された多数の、反応チャンバー（１）に導入される反応ガスのための出口開口（５）を備える。表面温度の測定を改良するためには、本発明の装置は、出口開口（５）の後方で、出口開口（５）と一直線上にそれぞれ多数のセンサー（１０）が配置されていることを特徴とする。 （もっと読む）